【課題】ガラス基板の表面の活性化に伴う電子機器用カバーガラスのガラス基板の強度低下の抑制方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物を含有するガラス基板の表面近傍において、前記金属酸化物の金属イオンαを、前記金属イオンαよりもイオン半径が大きい金属イオンβで置換する置換工程と、前記置換工程により前記ガラス基板の表面近傍に形成された化学強化層に対し、前記置換工程後、表面失活用イオンγの注入処理を施す注入工程と、を有し、前記化学強化層内では、前記ガラス基板における主表面からの厚さ方向の距離とイオン濃度との関係において、前記表面失活用イオンγのイオン濃度を、前記金属イオンβのイオン濃度以下とする。 （もっと読む）

タッチパネル用アルミノケイ酸ガラスを提供する。本ガラスは、シリカ５５〜６５重量％、酸化ナトリウム１５＜〜２０重量％、酸化カリ２〜６重量％、マグネシア３．９〜１０重量％、ジルコニア０〜５重量％、酸化亜鉛０〜４重量％、酸化カルシウム０〜４重量％、酸化ナトリウム＋酸化カリ＋マグネシア＋酸化亜鉛＋酸化カルシウムが総計で１５〜２８重量％、酸化錫０〜１重量％、及び二酸化チタン＋酸化セリウム１重量％未満から成る。また、ガラスを１００％ＫＮＯ_３の塩浴中に浸漬してイオン交換強化処理する工程と、ガラスを温度３７０〜４３０℃で０．５〜１６時間予備加熱する工程から構成される化学的強化方法も提供する。本発明ガラスはタッチパネル用の基板及びカバーシートとして利用可能である。 （もっと読む）

ガラスを化学強化する方法である。この方法は、第１の浴中におけるイオン交換に続き第２の浴中に浸すことを含む。上記第１の浴は流出イオンで希釈される。上記第２の浴は上記第１の浴よりも低い流出イオン濃度を有する。この方法は、高信頼性を目指して十分に深い圧縮応力の層の深さを有しながら、ガラスの表面における力の接触によって傷が誘発されるのを阻止するのに十分な圧縮応力を上記表面に提供する。
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【課題】 化学強化工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の表層部における圧縮応力の分布が一様となるようにして、ヘッドクラッシュ及びサーマル・アスペリティといった障害を防止しつつ磁気ヘッドの低フライングハイト化を図り高密度情報記録が可能であって、特に、携帯情報機器用の小型の磁気ディスクに適用して好適な磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 化学強化工程において、板状ガラス中のアルカリ金属イオンよりもイオン半径の大きい第１のイオンを含有する化学強化処理液にガラス基板を接触させる第１工程と、２価イオンである第２以降のイオンを含有する処理液に板状ガラスを接触させる第２以降の工程とを有する。 （もっと読む）