Fターム[4G062PP04]の内容
ガラス組成物 (224,797) | フリット添加物・マトリックス分散物 (1,801) | 酸化物 (717) | ZnO又はTiO2 (123)
Fターム[4G062PP04]に分類される特許
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プラズマディスプレイパネル隔壁用無鉛ガラス組成物,及びプラズマディスプレイパネル
【課題】 酸化鉛を含まず環境親和的で,エッチング率が速い,高精細の隔壁を形成可能なプラズマディスプレイパネル隔壁用無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】 ZnO20〜70重量%,BaO10〜50重量%,B2O310〜40重量%,P2O50〜20重量%,SiO20〜20重量%,Bi2O30〜20重量%,V2O50〜30重量%,Na2O,Li 2O及びK2Oからなる群より選択される少なくとも1種以上の酸化物0〜10重量%と,CaO0〜10重量%,MgO0〜10重量%,SrO0〜30重量%,MoO30〜20重量%,Al2O30〜10重量%,Sb2O3,CuO,Cr2O3,As2O3,CoO及びNiOからなる群より選択される少なくとも1種以上の酸化物0〜10重量%と,TiO20〜10重量%とを含む。
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低温焼成基板材料及びそれを用いた多層配線基板
【課題】線熱膨張係数を有しつつ、高い比誘電率を有する低温焼成基板材料を提供することである。また、異組成のガラス−セラミックス混合層を積層させた多層配線基板において、非対称の積層構造としても焼成品の反りを小さくすることである。
【解決手段】本発明に係る低温焼成基板材料は、SiO2−B2O3−Al2O3−アルカリ土類金属酸化物系ガラスを60〜78vol%、チタニアを14〜27vol%、及び、コーディエライトを5〜15.5vol%含有し、且つ、線熱膨張係数が5.90×10−6〜6.40×10−6/℃で、比誘電率が10以上であることを特徴とする。多層配線基板とするときは、コーディエライトの含有量を調整し、層間の線熱膨張係数の差を小さくなるように制御する。
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ペーストとその製造方法及び該ペーストから形成したリブ状物並びにセラミックリブ
【課題】 粘性が低くブレードの移動が良好で流動性がありながら、リブ状物を形成した際に保形性の高いペーストを提供する。
【解決手段】 基板表面10に形成されたペースト膜11にブレード12を突き刺して移動しリブ状物13を形成可能なペーストであって、
ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を50〜97重量%、樹脂を0.1〜15重量%と、1種類以上の溶剤を3〜60重量%を含み、弾性率が4×104〜1×105Paである。
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