【課題】ボロンを効率的に除去できると共にシリコンの酸化を抑えることが可能な電子ビームを用いたボロン含有シリコンの精錬方法及び装置を提供する。
【解決手段】真空容器１内においてボロン含有シリコンに電子ビームを照射してボロン含有シリコンを溶融させる。次いで、真空容器１内にＨ_２Ｏを導入して溶融したシリコンに含有されるボロンを酸化させてボロン酸化物に変化させ、これを蒸発させる。ボロン酸化物が蒸発した後で電子ビームの照射を停止してシリコンを凝固させ、高純度のシリコンインゴットを得る。 （もっと読む）

【課題】 有機溶媒に可溶である疎水性のシリカ系微粒子を、簡便な工程で且つ短時間で製造すること
【解決手段】 有機溶媒にシラノール基を有する珪素化合物が溶解した溶液に、アルキルハロシランを加えることにより、ゲル化反応と置換反応を一つの工程で行って、疎水基を持つシリカ系微粒子を生成する。 （もっと読む）

５０ｍ^２／ｇより大きいＢＥＴ表面積を有する凝集した結晶質シリコン粉末。該粉末は、少なくとも１の蒸気状もしくは気体状のシランおよび場合により少なくとも１の蒸気状もしくは気体状のドープ物質および不活性ガスを反応器へを連続的に供給し、かつここで成分を混合し、その際、シランの割合は、シラン、ドープ物質および不活性ガスの全ての合計に対して０．１〜９０質量％であり、該混合物をエネルギーの入力により反応させ、その際、１０〜１１００ミリバールの圧力でマイクロ波領域の電磁線を用いてエネルギーを入力することによりプラズマを発生させ、反応混合物を冷却させ、かつ反応生成物を気体状の物質から粉末の形で分離することにより製造される。該粉末は電子部品の製造のために使用することができる。 （もっと読む）

アモルファスの連続気泡ＳｉＯ_２未焼結成形体の表面上に、Ｓｉ_３Ｎ_４焼結層を形成するために適切な前駆物質を施与し、かつ引き続きレーザービーム中現場で該先駆物質をＳｉ_３Ｎ_４焼結層へ変換することを特徴とする、ＳｉＯ_２未焼結成形体からなるＳｉ_３Ｎ_４被覆されたＳｉＯ_２成形体の製造方法。 （もっと読む）

過酸化水素及び疎水化した、熱分解的に製造された二酸化ケイ素粉体を含有する粉体状混合物であって、その際疎水化二酸化ケイ素粉体は、少なくとも４０のメタノール湿潤性を有し、かつ総質量に基づいて９質量％より少ない程度で存在し、かつ過酸化水素の含量は総質量に基づいて１０〜５０質量％である。これは、４０より大きいメタノール湿潤性を有する疎水化二酸化ケイ素粉体を、７０℃以下の温度において、過酸化水素水溶液で処理する方法によって製造される。これは、洗剤、清浄用組成物、及び、皮膚及び毛髪処置用組成物において使用されてよい。 （もっと読む）