【課題】シリカ材料表面に均一に炭素被覆ができ且つ炭素被覆の厚さが調整できる簡単且つ効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】有機シリル化剤により表面がシリル化されたシリカ材料を、有機シリル化剤の有機基が離脱する温度で加熱し、次いで、ＣＶＤで処理することを特徴とする炭素被覆シリカ材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 Ｚｒ不純物が５０ｐｐｍ以下のハフニウム化合物を提供することである。
【解決手段】 ハロゲン化ハフニウム（ＨｆＸ_４（但し、ＸはＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩの群の中から選ばれる少なくとも一つ）を、エーテル結合を持つ化合物からなる溶媒およびエーテル結合を持つ化合物を含有する溶媒を用いて精製する工程を具備するハロゲン化ハフニウムの精製方法。 （もっと読む）

アルミノシリケート前駆体で、高い機械的な強度の、低いｋの、層間の誘電体の材料を、アルミニウムがその材料のケイ素の基材の中へ手軽に組み込まれるように、形成するための方法、及び、そのように形成された一つ又はより多くの高い強度、低いｋの層間の誘電体の層を含む集積回路デバイス。

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