Fターム[4H049VQ96]の内容
第4族元素を含む化合物及びその製造 (22,055) | 第4族元素含有化合物上の結合又は基(目的化合物) (4,225) | 第1〜3族元素含有基(単純な塩を除く)(例;Ph−SiH2−Na) (23) | 第2族元素含有基(Be,Hg,Ca,Sr,Ba,Ra,Zn,Cd,Hgを含む) (4)
Fターム[4H049VQ96]に分類される特許
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ストロンチウムアミド化合物の製造方法
【課題】 本発明の課題は、簡便な方法にて、高収率でストロンチウムアミド化合物の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、ジハロゲノストロンチウムを還元して得られる金属ストロンチウム又はその溶液とアミノ化合物をと反応させることを特徴とするストロンチウムアミド化合物の製造方法によって解決される。
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金属酸化物コーティング
【課題】金属酸化物の製造法および金属酸化物コーティング法の提供。
【解決手段】次式Iの化合物を加水分解して金属酸化物を製造する。
式中、MはAl、Ti、V、Zn、In、Sn等であり、XはO1/2又はORであり、Rはアルキルであり、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は各々独立にH、アルコキシ、C1−C10アルキル等である。式Iの1種以上の化合物で基材を被覆してから上記化合物を加水分解すること及び/又は上記化合物を約50〜約450℃に加熱することによって、1種以上の金属酸化物を含有する物品を製造する。
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ビスアミド亜鉛塩基
一般式(I)の化合物を提供する。
(R1R2N)2−Zn・aMgX12・bLiX2 (I)
R1およびR2は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の、直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル、アルケニル、アルキニル、またはそれらのシリル誘導体、および置換もしくは非置換のアリールもしくはヘテロアリールから選択され、
R1およびR2は、共に環状構造を形成することができ、または、R1および/もしくはR2は、重合体構造の一部となることができ、
X12は、二価陰イオンまたは互いに独立した2つの一価陰イオンであり、
X2は、一価陰イオンであり、
a>0であり、
b>0である。
前記亜鉛アミド塩基は、とりわけ、芳香族の脱プロトン化およびメタル化に用いられる。
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配位子及びその錯化合物
下記式(1)
(式中、R1、R2、R3及びR4は同一又は異なっていてもよく、下記式(2)
(式(2)中、Q3は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、R5は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、R6は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はR5とR6とが一緒になって環を形成していてもよい)で示される基を表し、Q1及びQ2は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Xは二価のスペーサーを表す)で示されることを特徴とする配位子。
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