配位子及びその錯化合物
下記式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっていてもよく、下記式（２）
（式（２）中、Ｑ３は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Ｒ６は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はＲ５とＲ６とが一緒になって環を形成していてもよい）で示される基を表し、Ｑ１及びＱ２は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Ｘは二価のスペーサーを表す）で示されることを特徴とする配位子。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっていてもよく、下記式（２）
（式（２）中、Ｑ３は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Ｒ６は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はＲ５とＲ６とが一緒になって環を形成していてもよい）で示される基を表し、Ｑ１及びＱ２は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Ｘは二価のスペーサーを表す）で示されることを特徴とする配位子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
本発明は、配位子、錯化合物及びそれらの製造方法に関する。
【背景技術】
従来、種々の配位子と金属原子とを配位又は結合させて製造した錯化合物は、例えば不斉水素化反応、不斉移動型還元反応、不斉ヒドロシリル化反応、不斉Ｈｅｃｋ反応、不斉アルドール反応、不斉エン反応、不斉酸化反応、不斉エポキシ化反応、不斉Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応、重合反応等の種々の化学反応の触媒として用いられてきた（例えば特許文献１、特許文献２、特許文献３、非特許文献１又は非特許文献２等）。
今日、化学産業界において、優れた触媒活性を有する触媒の出現が強く望まれ、多くの研究がなされている。一般的に優秀な触媒は、より少量の触媒を用いて化学反応を触媒し、高い収率及び不斉収率で目的化合物を得ることができるものとされている。
【特許文献１】 特開２０００−２５６３８４号公報
【特許文献２】 特開２００２−２５５９８５号公報
【特許文献３】 特開２００２−３６３１４３号公報
【非特許文献１】 Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００１，１２３，３３６７−３３６８
【非特許文献２】 Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９３，１１５，９８００−９８０１
【発明の開示】
本発明は、新規な配位子並びに当該配位子を構成要素とする錯化合物を提供することを課題とする。より詳しくは、上記化学反応に触媒として使用した場合に触媒特性、より具体的には、収率、不斉収率、触媒活性において優れた錯化合物並びにそのような錯化合物のための配位子を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、下記式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっていてもよく、下記式（２）
（式（２）中、Ｑ３は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Ｒ６は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はＲ５とＲ６とが一緒になって環を形成していてもよい）で示される基を表し、Ｑ１及びＱ２は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Ｘは二価のスペーサーを表す）で示されることを特徴とする配位子並びに当該配位子と金属原子から形成される錯化合物が上記課題を解決することを知見し、さらに検討を重ねて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１） 下記式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっていてもよく、下記式（２）
（式（２）中、Ｑ３は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Ｒ６は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はＲ５とＲ６とが一緒になって環を形成していてもよい）で示される基を表し、Ｑ１及びＱ２は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Ｘは二価のスペーサーを表す）で示されることを特徴とする配位子、
に関する。
また、本発明は、
（２） 光学活性体であることを特徴とする（１）記載の配位子、
（３） 式（２）中、不斉炭素原子が存在しないことを特徴とする（１）記載の配位子、
（４） スペーサーが、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の配位子、
（５） Ｑ１−Ｘ−Ｑ２の長さが、２〜３０Åであることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の配位子、
に関する。
また、本発明は、
（６） Ｑ３が、炭素数１乃至６のアルキレン基であることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の配位子、
（７） Ｒ５が、アリール基であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の配位子、
（８） Ｒ６が、水酸基、炭素数１乃至６のアルコキシ基、アミノ基又は置換アミノ基であることを特徴とする（１）〜（７）のいずれかに記載の配位子、
（９） Ｒ５とＲ６とが一緒になって形成された環が、オキサゾリン、ピロリジン又はピペリジンであることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の配位子、
に関する。
また、本発明は、
（１０） （１）〜（９）のいずれかに記載の配位子と金属原子とを構成要素として含有することを特徴とする錯化合物、
（１１） 金属原子が、周期律表第３族から第１４族のいずれかの族に属することを特徴とする（１０）記載の錯化合物、
（１２） 金属原子が、ランタン、サマリウム、チタン、ジルコニウム、バナジウム、レニウム、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛、アルミニウム、錫、金、銀又は白金であることを特徴とする（１０）又は（１１）に記載の錯化合物、
（１３） （１０）〜（１２）のいずれかに記載の錯化合物製造のための（１）〜（９）のいずれかに記載の配位子の使用、
（１４） （１０）〜（１２）のいずれかに記載の錯化合物の不斉合成反応用触媒としての使用、
に関する。
また、本発明は、
（１５） 式（３）
（式中、Ｑ１、Ｘ及びＱ２は前記の定義と同じであり、Ｚ及びＺ’は同一又は異なって離脱基を表す）
で示される化合物と式（４）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、前記の定義と同じである）
で示される化合物とを反応させることを特徴とする式（１）
（式中、各記号は前記の定義と同じである）
で表される化合物の製造方法、
（１６） （１）〜（９）のいずれかに記載の配位子と金属化合物とを接触させることを特徴とする（１０）〜（１２）のいずれかに記載の錯化合物の製造方法、
に関する。
【発明を実施するための最良の形態】
上記式中、Ｑ３で表されるアルキレン基としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の炭素数１〜６のアルキレン基等が挙げられ、このアルキレン基が置換基を有していてもよく、このような置換基としては、例えば、アルコキシ基（たとえばメトキシ基、エトキシ基等の炭素数１乃至６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（たとえばフッ素、塩素、臭素など）等が挙げられる。置換基の数は１乃至５が好ましい。
Ｑ３で表されるシクロアルキレン基としては、例えばシクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基又はシクロヘキシレン基等の炭素数３〜７のシクロアルキレン基等が挙げられ、このシクロアルキレン基が置換基を有していてもよく、このような置換基としては、例えば、アルコキシ基（たとえばメトキシ基、エトキシ基等の炭素数１乃至６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（たとえばフッ素、塩素、臭素など）等が挙げられる。置換基の数は１乃至５が好ましい。
Ｑ３で表される置換基を有していてもよいアリーレン基のアリーレン基としては、フェニレン、ナフタレンジイル又はアントラセンジイルなどが挙げられ、置換基としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基などの直鎖または分岐状の炭素数１乃至６のアルキル基等）、上記したアルコキシ基、水酸基又は上記したハロゲン原子等が挙げられる。
Ｑ３で表される置換基を有していてもよい二価の複素環基の二価の複素環基は、複素環化合物から２個の水素原子を除去して形成される基であり、そのような複素環化合物としては、例えば５員又は６員の単環の芳香族複素環化合物や多環の芳香族複素環化合物が好ましく、異性原子として１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる炭素数４〜１４の芳香族複素環化合物が挙げられ、その具体例としては、例えばピリジン、イミダゾール、フラン、ピラジン、ベンゾフラン、ピロール等が挙げられる。
置換基としては、上記したアルキル基、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシルなどの炭素数３乃至６のシクロアルキル基など）、ハロゲン化アルキル基（例えば上記したハロゲン原子と上記したアルキル基から形成されるハロゲン化アルキル基等）、上記したアルコキシ基、上記したハロゲン原子等の置換基などが挙げられる。置換基の数は１乃至５が好ましい。
Ｒ５で表される置換基を有していてもよいアルキル基のアルキル基は、例えば炭素数１〜６のアルキル基が挙げられ、置換基としては、例えばシクロアルキル基（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシルなどの炭素数３乃至６のシクロアルキル基など）、ハロゲン化アルキル基（例えば上記したハロゲン原子と上記したアルキル基から形成されるハロゲン化アルキル基等）、上記したアルコキシ基、上記したハロゲン原子等が挙げられる。
Ｒ５で表される置換基を有していてもよいアリール基のアリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられる。
置換アリール基としては、上記アリール基の少なくとも１個の水素原子が上記したアルキル基、上記したアルコキシ基、上記したハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等の置換基で置換されたアリール基が挙げられる。
Ｒ５で表される置換基を有していてもよい複素環基は、５員又は６員の単環の芳香族複素環基や多環の芳香族複素環基が好ましく、異性原子として１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる炭素数４〜１４の芳香族複素環基が挙げられ、具体的には、例えばピリジル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、ピラニル基、フリル基、ベンゾフリル基、チエニル基、ピロリドニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
Ｒ６で表される金属原子と配位又は結合可能な置換基における金属原子としては、周期律表の第３族〜第１４族から選ばれる金属が好ましく、具体的には、ランタン、サマリウム、チタン、ジルコニウム、バナジウム、レニウム、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛、アルミニウム、錫、金、銀又は白金等が挙げられる。金属原子と配位又は結合可能な置換基としては、例えば、Ｏ、Ｎ、Ｐ及びＳからなる群から選ばれる１以上を含有する置換基が挙げられ、具体的には、水酸基、上記したアルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基（たとえばメチルアミノ基、エチルアミノ基などのモノ置換アミノ基、たとえばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基などのジ置換アミノ基等）、ホスホノ基、ホスフィノ基、例えばジエチルホスホノ基、ジメチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基などの置換ホスホノ若しくは置換ホスフィノ基、メルカプト基、又はアルキルチオ基（アルキル基は上記定義と同じ）などが挙げられる。
Ｒ５とＲ６が一緒になって形成する環としては、例えば金属原子に配位又は結合可能なヘテロ原子を有する５員または６員環が挙げられ、該ヘテロ原子は環に置換している置換基の構成原子の一部として存在してもよく、また、複素環の場合は複素環の構成原子として存在してもよい。これらの環は上記したようなアルキル基、又はアリール基で置換されていてもよく、また、不斉炭素原子を有してもよい。具体的な環の構造としては、例えばオキサゾリン、ピロリジン又はピペリジン等が挙げられる。
Ｘで表される二価のスペーサーは、好ましくは置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基であるが、このようなアルキレン基、アリーレン基及び二価の複素環基は、それぞれ上記したものと同じであってよい。Ｑ１−Ｘ−Ｑ２の長さは、通常約２〜３０Å、好ましくは約３〜２５Å、より好ましくは約４〜２０Åである。
Ｑ１及びＱ２で表される置換基を有していてもよいアルキレン基は上記したものと同一でよい。
式（２）において、Ｑ３、Ｒ５及びＲ６が結合している炭素原子、及びＲ５並びにＲ６の炭素原子から選ばれる一つ以上の炭素原子が、不斉炭素原子であることが好ましい。
式（１）で表される化合物は、公知方法又は自体公知の方法によって製造できる。例えば、式（３）
（式中、Ｑ１、Ｘ及びＱ２は前記の定義と同じであり、Ｚ及びＺ’は同一又は異なって離脱基を表す）
で示される化合物と式（４）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、前記の定義と同じである）
で示される化合物とを反応させることによって製造できる。
Ｚ及びＺ’で表される離脱基としては、たとえば上記したハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。反応における式（３）の化合物と式（４）の化合物との比率は、通常、化合物（３）１モルに対して化合物（４）約０．６モル〜１．６モルの範囲から選ばれる。反応温度は、通常、約２０℃〜２００℃である。反応時間は、通常、約５分〜２週間である。反応には溶媒を用いるのが好ましく、反応を阻害しない溶媒であればどのようなものでもよい。反応溶媒の具体例としては、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン又はジメチルホルムアミドなどが挙げられる。本反応は、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、炭酸カリウム等の塩基存在下で好適に行われ得る。これら塩基類の使用量は、通常、化合物（３）１モルに対して約２〜１００モル、好ましくは約２〜５０モルの範囲である。反応終了後、反応成積体を濃縮、転溶、抽出、結晶化、クロマトグラフィーなどの精製手段に付して精製してもよいし、そのまま金属原子との反応に付してもよい。
また、式（１）の化合物は、式（５）
（式中、Ｑ１、Ｘ及びＱ２は前記と同一意味である）
で示される化合物の２つのアミノ基の４つの水素原子に上記した基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４を導入することによっても製造できる。アミノ基に上記した置換基を導入する手段は、従来十分に確立されているので、本発明においても、そのような公知手段に従ってよい。
このようにして得られた式（１）の化合物は、そのまま触媒成分として下記する種々の不斉合成反応に用いてもよいが、これを金属化合物と接触させて錯化合物とした後、不斉合成反応用触媒として用いてもよい。
錯化合物は、式（１）の化合物と金属化合物を反応させることにより製造される。錯化合物製造のための金属化合物は、従来この分野で極めて多数知られており、本発明においてもそのような公知の金属化合物が便宜に使用され得る。金属化合物は特に限定されないが、例えば、金属−ハロゲン化物（例えば、塩素、臭素、ヨウ素など）、金属−カルボニル、金属−カルボニルと酸化剤（例えばヨウ素、臭素、ジヨードメタン、ジヨードエタンなど）を組み合わせたもの、金属−有機酸塩（例えばアセテート、トリフルオロアセテートなどのカルボン酸塩、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸塩等）、金属−有機酸誘導体塩（例えばアセチルアミド、ホルムアミド、ベンズアミド等の有機酸アミド等）、金属−無機酸塩（例えば硫酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩等）、金属−環状アルケン（例えばシクロオクタジエン、シクロオクテン、ノルボルナジエン等）又は水酸基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、シアノ基、チオラート基といった金属に配位できる配位子を有する金属化合物などが挙げられる。これらの金属化合物の中で、金属−ハロゲン化物、金属−有機酸塩、金属−無機酸塩、金属−アルコキシを用いるのが好ましい。金属化合物の使用量は特に限定されないが、通常、式（１）の化合物１モルに対して約１〜４モル、好ましくは約１．５〜３モルの範囲である。反応温度は、通常、約−１０℃〜２５０℃である。反応時間は、通常、約５分〜１０日間である。反応には溶媒を用いるのが好ましく、反応を阻害せず、反応を円滑に進行させる溶媒であればどのようなものでもよい。反応溶媒の具体例としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ヘプタン、ペンタン、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン又はジメチルホルムアミドなどが挙げられる。反応終了後、反応成積体を濃縮、転溶、抽出、結晶化、クロマトグラフィーなどの精製手段に付して精製してもよいし、反応成績体をそのまま不斉合成反応用触媒として使用してもよい。
上記金属の中からいくつかの金属について具体例を挙げるが、もちろんこれらの例に限定されることはない。尚、以下に示す金属化合物の式中で使用されている記号は、それぞれ、ｘは整数を、ｄｂａはジベンジリデンアセトンを、Ａｃはアセチル基を、ａｃａｃはアセチルアセトナト基を、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエンを、ｃｏｅはシクロオクテンを、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基（ＳＯ２ＣＦ３）を、ｎｂｄはノルボルナジエンを、Ｐｈはフェニル基を、ａｒｅｎｅはベンゼン、メシチレン、ｐ−シメン及びヘキサメチルベンゼンのいずれかを、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
サマリウム化合物としては、例えば、ＳｍＣｌ２、ＳｍＣｌ３、ＳｍＢｒ２、ＳｍＢｒ３、ＳｍＩ２、ＳｍＩ３、Ｓｍ（ＯＣＨ（ＣＨ３）２）３、又はＳｍ（ＮＯ３）３、Ｓｍ（ＯＡｃ）３・ｘＨ２Ｏなどが挙げられる。
チタン化合物としては、例えば、ＴｉＣｌ４、ＴｉＢｒ４、ＴｉＩ４、又はＴｉ（ＯＣＨ（ＣＨ３）２）４などが挙げられる。
パラジウム化合物としては、例えば、Ｐｄ（ｄｂａ）２、Ｐｄ（ｄｂａ）３、Ｐｄ２（ｄｂａ）３、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、ＰｄＣｌ２、ＰｄＢｒ２、ＰｄＩ２、Ｐｄ（ＯＡｃ）２、ＰｄＣｌ２（ＣＨ３ＣＮ）２、ＰｄＣｌ２（ＰｈＣＮ）２、［ＰｄＣｌ（π−アリル）］２、［ＰｄＣｌ（２−メチルアリル）］２、又はＰｄ（ａｃａｃ）２などが挙げられる。
ニッケル化合物としては、例えば、Ｎｉ（ｃｏｄ）２、ＮｉＣｌ２、ＮｉＢｒ２、又はＮｉＩ２などが挙げられる。
銅化合物しては、例えば、ＣｕＣｌ２、ＣｕＢｒ２、ＣｕＩ２、Ｃｕ（ＯＣＨ３）２、Ｃｕ（ＮＯ３）２・ｘＨ２Ｏ、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、Ｃｕ（ＯＡｃ）２、Ｃｕ（ａｃａｃ）２、又はＣｕ（ＣＦ３ＣＯ２）２などが挙げられる。
鉄化合物としては、例えば、ＦｅＣｌ２、ＦｅＢｒ２、ＦｅＩ２、ＦｅＣｌ３、ＦｅＢｒ３、ＦｅＩ３、Ｆｅ２（ＣＯ）９、Ｆｅ３（ＣＯ）１２、（ＮＨ４）４Ｆｅ（ＣＮ）６、（ＮＨ４）４Ｆｅ（ＳＯ４）２・６Ｈ２Ｏ、Ｆｅ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ、Ｆｅ（ＣｌＯ４）３・ｘＨ２Ｏ、Ｆｅ（ＢＦ４）２・６Ｈ２Ｏ、Ｋ３Ｆｅ（ＣＮ）６、又はＫ３Ｆｅ（ＣＮ）６などが挙げられる。
ロジウム化合物としては、例えば、ＲｈＣｌ３、ＲｈＣｌ３・ｘＨ２Ｏ、ＲｈＢｒ３・ｘＨ２Ｏ、ＲｈＩ３・ｘＨ２Ｏ、［Ｒｈ（ＯＡｃ）２］２、［Ｒｈ（Ｃ７Ｈ１５ＣＯ２）２］２、［Ｒｈ（ＣＦ３ＣＯ２）２］２、Ｒｈ（ａｃａｃ）３、Ｒｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）２、［ＲｈＣｌ（ｃｏｄ）］２、［ＲｈＣｌ（ｎｂｄ）］２、［ＲｈＣｌ（Ｃ２Ｈ４）］２、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＰｈ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＢＰｈ４、Ｒｈ６（ＣＯ）１６、又はＲｈ４（ＣＯ）１２などが挙げられる。
ルテニウム化合物としては、例えば、ＲｕＣｌ３、ＲｕＣｌ３・ｘＨ２Ｏ、ＲｕＢｒ３・ｘＨ２Ｏ、ＲｕＩ３、ＲｕＩ３・ｘＨ２Ｏ、［ＲｕＣｌ２（ｃｏｄ）］ｘ、［ＲｕＣｌ２（ａｒｅｎｅ）］２、［ＲｕＢｒ２（ａｒｅｎｅ）］２、［ＲｕＩ２（ａｒｅｎｅ）］２、Ｒｕ（ａｃａｃ）３、又はＲｕ３（ＣＯ）１２などが挙げられる。
イリジウム化合物としては、例えば、ＩｒＣｌ３・ｘＨ２Ｏ、ＩｒＣｌ４・ｘＨ２Ｏ、ＩｒＢｒ３・ｘＨ２Ｏ、［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］２、［ＩｒＢｒ（ｃｏｄ）］２、［ＩｒＩ（ｃｏｄ）］２、［ＩｒＣｌ（ｃｏｅ）２］２、［Ｉｒ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４、Ｉｒ（ｃｏｄ）（ａｃａｃ）、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＢＦ４、Ｉｒ４（ＣＯ）１２、［ＩｒＣｌ（ＣＯ）３］Ｘなどが挙げられる。
亜鉛化合物としては、例えば、ＺｎＣｌ２、ＺｎＢｒ２、ＺｎＩ２、Ｍｅ２Ｚｎ、Ｅｔ２Ｚｎ、Ｐｈ２Ｚｎ、Ｚｎ（ＯＡｃ）２・２Ｈ２Ｏ、Ｚｎ（ａｃａｃ）２・ｘＨ２Ｏ、Ｚｎ（ＮＯ３）２、Ｚｎ（ＣｌＯ４）２、又はＺｎ３（ＰＯ４）２などが挙げられる。
錫化合物としては、例えば、Ｍｅ２ＳｎＯ、Ｅｔ２ＳｎＯ、（ｎ−Ｃ３Ｈ７）２ＳｎＯ、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）２ＳｎＯ、（ｎ−Ｃ８Ｈ１７）２ＳｎＯ、（ｎ−Ｃ１２Ｈ２５）２ＳｎＯ、（ＰｈＣＨ２）２ＳｎＯ、Ｐｈ２ＳｎＯ、（４−Ｃｌ−Ｃ６Ｈ４）２ＳｎＯ、（４−ＭｅＯ−Ｃ６Ｈ４）２ＳｎＯ、（１−Ｃ１０Ｈ７）２ＳｎＯ（ジ−（１−ナフチル）スズオキサイド）、又は（２−Ｃ１０Ｈ７）２ＳｎＯ（ジ−（２−ナフチル）スズオキサイド）などが挙げられる。
金化合物としては、例えば、ＡｕＣｌ、ＡｕＢｒ、ＡｕＩ、ＡｕＣｌ３、ＡｕＢｒ３、ＡｕＩ３、Ａｕ（ＣＯ）Ｃｌ、ＡｕＣＮ、Ｍｅ２Ａｕ（ａｃａｃ）、ＫＡｕ（ＣＮ）２、ＮａＡｕ（ＣＮ）２、Ａｕ（ＯＨ）３、ＨＡｕＣｌ４、ＨＡｕＢｒ４、ＫＡｕＣｌ４、又はＫＡｕＢｒ４などが挙げられる。
銀化合物としては、例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＩ、ＡｇＮＯ３、ＡｇＳｂＦ６、ＡｇＢＦ４、ＡｇＣＮ、Ａｇ（ＯＡｃ）、ＫＡｇ（ＣＮ）２、Ａｇ（ＰｈＣＯ２）、Ａｇ（ａｃａｃ）、ＡｇＣｌＯ４、ＡｇＰＦ６、又はＡｇ３ＰＯ４などが挙げられる。
白金化合物としては、例えば、ＰｔＣｌ２、ＰｔＢｒ２、ＰｔＩ２、ＰｔＣｌ４、ＰｔＢｒ４、Ｋ２ＰｔＣｌ４、Ｋ２ＰｔＢｒ４、Ｋ２ＰｔＩ４、Ｋ２Ｐｔ（ＣＮ）４、Ｈ２ＰｔＣｌ６、Ｈ２ＰｔＢｒ６、Ｋ２ＰｔＣｌ６、Ｋ２ＰｔＢｒ６、Ｋ２ＰｔＩ６、Ｋ２Ｐｔ（ＣＮ）６、Ｈ２Ｐｔ（ＯＨ）６、Ｐｔ（ＣＮ）２、ＰｔＣｌ２（ｃｏｄ）、ＰｔＢｒ２（ｃｏｄ）、ＰｔＩ２（ｃｏｄ）、Ｐｔ（ａｃａｃ）２、ＰｔＣｌ２（ＰｈＣＮ）、ＰｔＣｌ２（ＣＨ３ＣＮ）、Ｍｅ２Ｐｔ（ｃｏｄ）、ＰｔＣｌ２（Ｃ５Ｈ５Ｎ）２、ＰｔＣｌ２（ＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２）２、（ＮＨ３）２ＰｔＣｌ４、（ＮＨ３）２ＰｔＣｌ６、又は（ＮＨ３）２ＰｔＢｒ６などが挙げられる。
このようにして製造された錯化合物は、種々の化学反応の触媒として用いることができる。そのような化学反応の典型例は、不斉合成反応である。不斉合成反応としては、例えば、不斉水素化反応、不斉移動型還元反応、不斉ヒドロシリル化反応、不斉Ｈｅｃｋ反応、不斉アルドール反応、不斉エン反応、不斉酸化反応、不斉エポキシ化反応、不斉Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応、又は重合反応等が挙げられる。さらに、そのような反応の具体例としては、例えば、ケトンから光学活性なアルコールを製造するＭｅｅｒｗｅｉｎ−Ｐｏｎｎｄｏｒｆ−Ｖｅｒｌｅｙ還元反応などが挙げられる。
【実施例】
以下に実施例を挙げ、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例中において、下記の分析機器を用いた。
核磁気共鳴スペクトル；ＭＥＲＣＵＲＹ３００−Ｃ／Ｈ（ＶＡＲＩＡＮ）
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．０９ ＭＨｚ）
高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）；Ｇｕｌｌｉｖｅｒ（ＪＡＳＣＯ Ｃｏｒｐ．）
【実施例１】
１，３−ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（（２Ｒ）−２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル）アミノメチル］−ベンゼン（配位子）の合成
ｍ−キシレンジアミン１ｍＬ（７．８４ｍｍｏｌ）をエタノール２ｍＬに溶解させ、０℃に冷却して撹拌しながら、（Ｒ）−（＋）−スチレンオキサイド３．６ｍＬ（３１．３ｍｍｏｌ）をエタノール４ｍＬに溶解させたものを加えた。反応液を０℃に１時間保った後、加熱を開始し、２０時間還流した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し黄色油状物（２．３５３６ｇ、３．８１ｍｍｏｌ，４９％収率）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．３２−７．１８（ｍ，２４Ｈ，フェニルプロトン），４．７３（ｄｄ，Ｊ＝９．７５，３．４３Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｐｈ），３．９９（ｄ，Ｊ＝１３．４６Ｈｚ，２Ｈ，Ｐｈ−ＣＨＨ−Ｎ−），３．７１（ｄ，Ｊ＝１３．４６Ｈｚ，２Ｈ，Ｐｈ−ＣＨＨ−Ｎ−），２．８３（ｄｄ，Ｊ＝１３．３２，９．７５Ｈｚ，４Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ（ＯＨ）Ｐｈ），２．７４（ｄｄ，Ｊ＝１３．３２，３．４３Ｈｚ，４Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ（ＯＨ）Ｃ６Ｈ５Ｐｈ）．
上記の化合物は、下式で示される。
【実施例２】
１，３−ビス［Ｎ，Ｎ−ジ｛（２Ｒ）−２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル｝−アミノメチル］−２−ヒドロキシ−５−メチルベンゼン（配位子）の合成
（１）（１Ｒ，５Ｒ）−３−アザ−１，５−ジヒドロキシ−１，５−ジフェニルペンタンの合成
アルゴン雰囲気下で（１Ｒ，５Ｒ）−３−アザ−３−ベンジル−１，５−ジヒドロキシ−１，５−ジフェニルペンタン０．６８２５ｇ（１．９６ｍｍｏｌ）をオートクレーブを用いて、基質の１０重量％のＰｄ／Ｃを入れ、メタノール１０ｍＬを加えて、水素圧７ＭＰａにて室温で２日間撹拌した。ろ過によりＰｄ／Ｃを除き溶媒を留去し、黄色油状物（０．４０１５ｇ，１．５６ｍｍｏｌ，８０％収率）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．３５−７．１８（ｍ，１０Ｈ，フェニルプロトン），４．７７（ｄｄ，Ｊ＝１２．２９，３．９９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｐｈ），２．９３（ｄｄ，Ｊ＝１２．２９，８．５２Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ（ＯＨ）Ｐｈ），２．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．５２，３．９９Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ（ＯＨ）Ｐｈ）．
（２）配位子の合成
２，６−ビス（ヒドロキシメチル）−ｐ−クレゾール０．６７７９ｇ（４．０３ｍｍｏｌ）をＣＨ２Ｃｌ２１０ｍＬに懸濁させ、氷浴下ＳＯＣｌ２３ｍＬ（４１．１ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えた後、室温にて１８時間撹拌した。反応液の色は黄色の溶液となった。反応終了後、溶媒を留去して２，６−ビス（クロロメチル）−ｐ−クレゾールを得た。
２，６−ビス（クロロメチル）−ｐ−クレゾール０．０３６８ｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）と（１Ｒ，５Ｒ）−３−アザ−１，５−ジヒドロキシ−１，５−ジフェニルペンタン０．０９５３ｇ（０．３７０ｍｍｏｌ）をメタノール５ｍＬに溶解させ、トリエチルアミン１ｍＬを加えて室温で一晩撹拌した。反応混合物をガラスフィルターでろ過し、ろ液の溶媒を留去し、黄色油状物（０．０８５２ｇ，７４％収率）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．２０−７．３２（ｍ，２２Ｈ，フェニルプロトン），４．８３（ｄｄ，Ｊ＝３．０２，１０．３７Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ−ＯＨ），４．１４（ｄ，Ｊ＝１３．０４Ｈｚ，２Ｈ，Ｃ６Ｈ２−（ＣＨＨ）２−），３．６５（ｄ，Ｊ＝１３．０４Ｈｚ，２Ｈ，Ｃ６Ｈ２−（ＣＨＨ）２−），２．８３（ｄｄ，Ｊ＝１０．３７，１３．１９Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ２−Ｎ−（ＣＨＨ−）２），２．６８（ｄｄ，Ｊ＝３．０２，１３．１９Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ２−Ｎ−（ＣＨＨ−）２），２．２８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３）．
上記化合物は、下式で示される。
【実施例３】
サマリウム触媒の製造及び不斉水素移動型反応
▲１▼ アルゴン雰囲気下、シュレンク管に実施例１で得られた化合物０．１５０５ｇ（２４４μｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフランを２ｍｌ加えた。０℃にてｎ−ＢｕＬｉ（ｎ−ブチルリチウム）ヘキサン溶液０．７３ｍｌ（１．３４Ｍ ９７８μｍｏｌ）をシリンジでゆっくりと加えた。反応液は赤色へと変化した。
▲２▼ アルゴン雰囲気下、シュレンク管に金属サマリウム０．０７３６ｇ（４８９μｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２ｍｌに懸濁させ、ジヨードエタン０．２０６５ｇ（７３２μｍｏｌ）を入れてテトラヒドロフラン２ｍｌを加え、室温で１時間攪拌した。反応液は、緑色から黄色に変化した。
▲３▼ ▲１▼の反応溶液を▲２▼の反応溶液に室温でシリンジを用いて滴下した。反応液は、黄褐色となった。この反応液中にサマリウム触媒が生成している。
▲４▼ ▲３▼の反応液にアセトフェノン０．５６ｍｌ（４．８１ｍｍｏｌ）と２−プロパノール９．４ｍｌ（１２１ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応混合物をクーゲルロール蒸留にて精製し、（Ｒ）−１−フェニルエタノール（０．５４１ｇ、９２％収率）を得た。生成物の不斉収率は、ＨＰＬＣにてキラルセル ＯＤ（４．６ｘ２５０ｍｍ、ダイセル化学工業社製）カラムを用いて測定したところ、９９％ｅｅ以上であった。なお、下記表には、比較のため、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９３，１１５，９８００−９８０１の第９８００頁に記載されたｍｅｔａｌ−ｌｉｇａｎｄ ｃｏｍｐｌｅｘ ４（以下、比較品という）の結果をも併記した。
注１：サマリウム触媒の構造式
注２：比較品の構造式
なお、上記第１表から、目的物である光学活性アルコールが、高収率で、しかも極めて高い不斉収率で得られ、本発明の錯化合物が優れた触媒能を示すことが分かる。
【実施例４】
１，３−ビス［Ｎ，Ｎ−ジ｛４，５−ジヒドロ−４（Ｒ）−フェニル−１，３−オキサゾール−２−イル−メチル｝アミノメチル］ベンゼン（配位子）の合成
２０ｍＬのシュレンクにＮ，Ｎ−ジ｛４，５−ジヒドロ−４（Ｒ）−フェニル−１，３−オキサゾール−２−イル−メチル｝アミン（Ｊｉａｎｇ，Ｙ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９８，１２０，３８１７．の記載に準じて合成）（１９６．３ｍｇ，５８．５μｍｏｌ）をメタノール１ｍＬに溶かし、トリエチルアミン（０．１３ｍＬ、５７．３μｍｏｌ）とα，α’−ジブロモ−ｍ−キシレン（０．０４ｍＬ、２７．４μｍｏｌ）を加え、室温で４０時間撹拌した。溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３（容量比）及び３％容量トリエチルアミン）により精製し、標題化合物を褐色油状物として８１．７ｍｇ得た。収率３０％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．４３−７．２０（ｍ，２４Ｈ，フェニルプロトン），５．２１（ｄｄ，Ｊ＝９．９，１４．８Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−），４．６０（ｄｄ，Ｊ＝９．９，８．５Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨＨ−ＣＨ−Ｐｈ），４．１１（ｄｄ，Ｊ＝１４．８，８．５Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨＨ−ＣＨ−Ｐｈ），３．９９（ｓ，４Ｈ，Ａｒ−ＣＨ２−Ｎ−），３．７１（ｓ，８Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−Ｃ）．
ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ ７７３
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｆｏｕｎｄ． ７７３．９５８２．
Ｃａｌｃｄ． ７７３．９５４９．
【実施例５】
１，３−ビス［Ｎ，Ｎ−ジ｛４，５−ジヒドロ−４（Ｓ）−イソプロピル−１，３−オキサゾール−２−イル−メチル｝アミノメチル］ベンゼン（配位子）の合成
２０ｍＬのシュレンクにＮ，Ｎ−ジ｛４，５−ジヒドロ−４（Ｓ）−イソプロピル−１，３−オキサゾール−２−イル−メチル｝アミン（３９６．１ｍｇ、１．４８ｍｍｏｌ）をメタノール１ｍＬに溶かし、トリエチルアミン（０．２ｍＬ、１．４３ｍｍｏｌ）とα、α’−ジクロロ−ｍ−キシレン（０．０７ｍＬ，４８０μｍｏｌ）を加え、室温で１６時間撹拌した。溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：５（容量比）及び３％容量トリエチルアミン）により精製し、標題化合物を褐色油状物として１４９．９ｍｇ得た。収率は４９％であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．４２−７．２５（ｍ，４Ｈ，フェニルプロトン），４．２２（ｄｄ，Ｊ＝８．２，７．２Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ−ＣＨＨ−），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝１３．８，７．２Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ−ＣＨＨ−），３．９０−３．８８（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ＣＨＨ−），３．８５（ｓ，４Ｈ，Ａｒ−ＣＨ２−Ｎ−），３．５１（ｓ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２−），１．７５（ｄ セプテット，Ｊ＝６．６，６．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３），０．９７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，６Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３），０．８８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，６Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３）．
【実施例６】
１，３−ビス［｛（２Ｓ，６Ｓ）−１，７−ジ（トリフルオロメタンスルホニル）−２，６−ジイソプロピル−１，４，７−トリアザヘプタン−４−イル｝メチル］ベンゼン（配位子）の合成
（１）（Ｒ）−Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル−２−イソプロピルアジリ
ジン（５）の合成
セルナルド（Ｃｅｒｎｅｒｕｄ，Ｍ．）らの方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１９９７，１５，２６５５．）に準じてアジリジン（５）を合成した。この合成をより具体的に下記に示す。
アルゴン雰囲気下で８０ｍＬシュレンク中に、塩化メチレン４０ｍＬ，トリエチルアミン５．６ｍＬ（４０．１ｍｍｏｌ）にＬ−バリノール２．４ｍＬ（２１．５ｍｍｏｌ）を溶解させ、−７８℃に冷却した。滴下ロートを用いてトリフルオロメタンスルホン酸無水物７．２ｍＬ（３３．７ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えていった。温度を−３０℃まで上げ一晩撹拌した。反応液を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（５０ｍＬで２回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬで２回）で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、３．１３０７ｇの（Ｒ）−Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル−２−イソプロピルアジリジン（５）を褐色油状物として得た。収率は６７％であった。
（２）配位子（６）の合成
セルナルド（Ｃｅｒｎｅｒｕｄ，Ｍ．）らの方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１９９７，２０，３４３７．）に準じて、下記のようにして化合物（６）を合成した。
（Ｒ）−Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル−２−イソプロピルアジリジン（５）をメタノール２ｍＬに溶解させ、ｍ−キシレンジアミン０．３１ｍＬ（２．３４ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で２日間撹拌後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４（容量比））を行い無色固体として配位子（６）を１．０４９２ｇ得た。収率４５％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．４９−７．２０（ｍ，４Ｈ，フェニルプロトン），３．９１（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，４Ｈ，Ａｒ−ＣＨ２−Ｎ−），３．５３（ｍ，４Ｈ，Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ−），２．６７（ｄｄ，Ｊ＝１３．５，９．６Ｈｚ，４Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ−），２．５１（ｄｄ，Ｊ＝１３．５，５．１Ｈｚ，４Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ−），１．９７（ｍ，４Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３），０．９０（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１２Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３），０．８６（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１２Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３）．
［α］Ｄ−７１．９（ｃ １．０，ＣＨ３ＯＨ）．
ＭＳ （ＦＡＢ）： ｍ／ｚ １００５
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｆｏｕｎｄ １００６．０４９１．
Ｃａｌｃｄ． １００６．０５３１．
融点：１９６−２０１℃
【実施例７】
（Ｓ）−４−イソブチル−２−オキセタノンの合成
アルゴン雰囲気下、シュレンク管に実施例６で得られた配位子（６）０．１０ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン５ｍＬ中に懸濁させ、室温下、トリメチルアルミニウムトルエン溶液０．２０ｍＬ（１Ｍ溶液、０．２０ｍｍｏｌ）をシリンジで加え３時間撹拌した。反応液は白色懸濁から無色透明の溶液へと変化した。撹拌終了後、減圧下、溶媒を留去し、ヘキサンを５ｍＬ加え、さらに１時間撹拌した。撹拌終了後、しばらく静置し、上澄みをシリンジで取り除き、沈殿物を減圧乾固させ触媒とした。得られた触媒に塩化メチレンを１６ｍＬ加え、さらにＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン０．５９ｍＬ（３．４ｍｍｏｌ）を加え、ドライアイス−エタノール浴で−７８℃に冷却し、臭化アセチル０．２８ｍＬ（３．８ｍｍｏｌ）とイソバレルアルデヒド０．２１ｍＬ（２．０ｍｍｏｌ）をシリンジで加え、−５０℃で２４時間撹拌した。反応溶液は淡黄色に変化し、反応終了後、室温まで温めると橙色になった。反応混合物をシリカゲルを詰めたグラスフィルターでろ過し、ろ液の溶媒を留去することにより、（Ｓ）−４−イソブチル−２−オキセタノン０．２０ｇ（７７％収率）を得た。生成物の不斉収率は、ＧＬＣにてキャピラリーカラムＣｈｉｒａｓｉｌ−ＤＥＸ ＣＢ（０．２５ｍｍ×２５ｍ、膜厚０．２５μｍ、ジーエルサイエンス社製）を用いて測定したところ９３％ｅｅであった。
【産業上の利用可能性】
本発明の配位子を利用して製造された錯化合物は、不斉合成用触媒として有用であり、産業的に極めて有用である。
【技術分野】
本発明は、配位子、錯化合物及びそれらの製造方法に関する。
【背景技術】
従来、種々の配位子と金属原子とを配位又は結合させて製造した錯化合物は、例えば不斉水素化反応、不斉移動型還元反応、不斉ヒドロシリル化反応、不斉Ｈｅｃｋ反応、不斉アルドール反応、不斉エン反応、不斉酸化反応、不斉エポキシ化反応、不斉Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応、重合反応等の種々の化学反応の触媒として用いられてきた（例えば特許文献１、特許文献２、特許文献３、非特許文献１又は非特許文献２等）。
今日、化学産業界において、優れた触媒活性を有する触媒の出現が強く望まれ、多くの研究がなされている。一般的に優秀な触媒は、より少量の触媒を用いて化学反応を触媒し、高い収率及び不斉収率で目的化合物を得ることができるものとされている。
【特許文献１】 特開２０００−２５６３８４号公報
【特許文献２】 特開２００２−２５５９８５号公報
【特許文献３】 特開２００２−３６３１４３号公報
【非特許文献１】 Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００１，１２３，３３６７−３３６８
【非特許文献２】 Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９３，１１５，９８００−９８０１
【発明の開示】
本発明は、新規な配位子並びに当該配位子を構成要素とする錯化合物を提供することを課題とする。より詳しくは、上記化学反応に触媒として使用した場合に触媒特性、より具体的には、収率、不斉収率、触媒活性において優れた錯化合物並びにそのような錯化合物のための配位子を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、下記式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっていてもよく、下記式（２）
（式（２）中、Ｑ３は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Ｒ６は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はＲ５とＲ６とが一緒になって環を形成していてもよい）で示される基を表し、Ｑ１及びＱ２は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Ｘは二価のスペーサーを表す）で示されることを特徴とする配位子並びに当該配位子と金属原子から形成される錯化合物が上記課題を解決することを知見し、さらに検討を重ねて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１） 下記式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっていてもよく、下記式（２）
（式（２）中、Ｑ３は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Ｒ６は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はＲ５とＲ６とが一緒になって環を形成していてもよい）で示される基を表し、Ｑ１及びＱ２は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Ｘは二価のスペーサーを表す）で示されることを特徴とする配位子、
に関する。
また、本発明は、
（２） 光学活性体であることを特徴とする（１）記載の配位子、
（３） 式（２）中、不斉炭素原子が存在しないことを特徴とする（１）記載の配位子、
（４） スペーサーが、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の配位子、
（５） Ｑ１−Ｘ−Ｑ２の長さが、２〜３０Åであることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の配位子、
に関する。
また、本発明は、
（６） Ｑ３が、炭素数１乃至６のアルキレン基であることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の配位子、
（７） Ｒ５が、アリール基であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の配位子、
（８） Ｒ６が、水酸基、炭素数１乃至６のアルコキシ基、アミノ基又は置換アミノ基であることを特徴とする（１）〜（７）のいずれかに記載の配位子、
（９） Ｒ５とＲ６とが一緒になって形成された環が、オキサゾリン、ピロリジン又はピペリジンであることを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の配位子、
に関する。
また、本発明は、
（１０） （１）〜（９）のいずれかに記載の配位子と金属原子とを構成要素として含有することを特徴とする錯化合物、
（１１） 金属原子が、周期律表第３族から第１４族のいずれかの族に属することを特徴とする（１０）記載の錯化合物、
（１２） 金属原子が、ランタン、サマリウム、チタン、ジルコニウム、バナジウム、レニウム、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛、アルミニウム、錫、金、銀又は白金であることを特徴とする（１０）又は（１１）に記載の錯化合物、
（１３） （１０）〜（１２）のいずれかに記載の錯化合物製造のための（１）〜（９）のいずれかに記載の配位子の使用、
（１４） （１０）〜（１２）のいずれかに記載の錯化合物の不斉合成反応用触媒としての使用、
に関する。
また、本発明は、
（１５） 式（３）
（式中、Ｑ１、Ｘ及びＱ２は前記の定義と同じであり、Ｚ及びＺ’は同一又は異なって離脱基を表す）
で示される化合物と式（４）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、前記の定義と同じである）
で示される化合物とを反応させることを特徴とする式（１）
（式中、各記号は前記の定義と同じである）
で表される化合物の製造方法、
（１６） （１）〜（９）のいずれかに記載の配位子と金属化合物とを接触させることを特徴とする（１０）〜（１２）のいずれかに記載の錯化合物の製造方法、
に関する。
【発明を実施するための最良の形態】
上記式中、Ｑ３で表されるアルキレン基としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の炭素数１〜６のアルキレン基等が挙げられ、このアルキレン基が置換基を有していてもよく、このような置換基としては、例えば、アルコキシ基（たとえばメトキシ基、エトキシ基等の炭素数１乃至６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（たとえばフッ素、塩素、臭素など）等が挙げられる。置換基の数は１乃至５が好ましい。
Ｑ３で表されるシクロアルキレン基としては、例えばシクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基又はシクロヘキシレン基等の炭素数３〜７のシクロアルキレン基等が挙げられ、このシクロアルキレン基が置換基を有していてもよく、このような置換基としては、例えば、アルコキシ基（たとえばメトキシ基、エトキシ基等の炭素数１乃至６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（たとえばフッ素、塩素、臭素など）等が挙げられる。置換基の数は１乃至５が好ましい。
Ｑ３で表される置換基を有していてもよいアリーレン基のアリーレン基としては、フェニレン、ナフタレンジイル又はアントラセンジイルなどが挙げられ、置換基としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基などの直鎖または分岐状の炭素数１乃至６のアルキル基等）、上記したアルコキシ基、水酸基又は上記したハロゲン原子等が挙げられる。
Ｑ３で表される置換基を有していてもよい二価の複素環基の二価の複素環基は、複素環化合物から２個の水素原子を除去して形成される基であり、そのような複素環化合物としては、例えば５員又は６員の単環の芳香族複素環化合物や多環の芳香族複素環化合物が好ましく、異性原子として１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる炭素数４〜１４の芳香族複素環化合物が挙げられ、その具体例としては、例えばピリジン、イミダゾール、フラン、ピラジン、ベンゾフラン、ピロール等が挙げられる。
置換基としては、上記したアルキル基、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシルなどの炭素数３乃至６のシクロアルキル基など）、ハロゲン化アルキル基（例えば上記したハロゲン原子と上記したアルキル基から形成されるハロゲン化アルキル基等）、上記したアルコキシ基、上記したハロゲン原子等の置換基などが挙げられる。置換基の数は１乃至５が好ましい。
Ｒ５で表される置換基を有していてもよいアルキル基のアルキル基は、例えば炭素数１〜６のアルキル基が挙げられ、置換基としては、例えばシクロアルキル基（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロヘキシルなどの炭素数３乃至６のシクロアルキル基など）、ハロゲン化アルキル基（例えば上記したハロゲン原子と上記したアルキル基から形成されるハロゲン化アルキル基等）、上記したアルコキシ基、上記したハロゲン原子等が挙げられる。
Ｒ５で表される置換基を有していてもよいアリール基のアリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられる。
置換アリール基としては、上記アリール基の少なくとも１個の水素原子が上記したアルキル基、上記したアルコキシ基、上記したハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等の置換基で置換されたアリール基が挙げられる。
Ｒ５で表される置換基を有していてもよい複素環基は、５員又は６員の単環の芳香族複素環基や多環の芳香族複素環基が好ましく、異性原子として１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる炭素数４〜１４の芳香族複素環基が挙げられ、具体的には、例えばピリジル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、ピラニル基、フリル基、ベンゾフリル基、チエニル基、ピロリドニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
Ｒ６で表される金属原子と配位又は結合可能な置換基における金属原子としては、周期律表の第３族〜第１４族から選ばれる金属が好ましく、具体的には、ランタン、サマリウム、チタン、ジルコニウム、バナジウム、レニウム、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛、アルミニウム、錫、金、銀又は白金等が挙げられる。金属原子と配位又は結合可能な置換基としては、例えば、Ｏ、Ｎ、Ｐ及びＳからなる群から選ばれる１以上を含有する置換基が挙げられ、具体的には、水酸基、上記したアルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基（たとえばメチルアミノ基、エチルアミノ基などのモノ置換アミノ基、たとえばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基などのジ置換アミノ基等）、ホスホノ基、ホスフィノ基、例えばジエチルホスホノ基、ジメチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基などの置換ホスホノ若しくは置換ホスフィノ基、メルカプト基、又はアルキルチオ基（アルキル基は上記定義と同じ）などが挙げられる。
Ｒ５とＲ６が一緒になって形成する環としては、例えば金属原子に配位又は結合可能なヘテロ原子を有する５員または６員環が挙げられ、該ヘテロ原子は環に置換している置換基の構成原子の一部として存在してもよく、また、複素環の場合は複素環の構成原子として存在してもよい。これらの環は上記したようなアルキル基、又はアリール基で置換されていてもよく、また、不斉炭素原子を有してもよい。具体的な環の構造としては、例えばオキサゾリン、ピロリジン又はピペリジン等が挙げられる。
Ｘで表される二価のスペーサーは、好ましくは置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基であるが、このようなアルキレン基、アリーレン基及び二価の複素環基は、それぞれ上記したものと同じであってよい。Ｑ１−Ｘ−Ｑ２の長さは、通常約２〜３０Å、好ましくは約３〜２５Å、より好ましくは約４〜２０Åである。
Ｑ１及びＱ２で表される置換基を有していてもよいアルキレン基は上記したものと同一でよい。
式（２）において、Ｑ３、Ｒ５及びＲ６が結合している炭素原子、及びＲ５並びにＲ６の炭素原子から選ばれる一つ以上の炭素原子が、不斉炭素原子であることが好ましい。
式（１）で表される化合物は、公知方法又は自体公知の方法によって製造できる。例えば、式（３）
（式中、Ｑ１、Ｘ及びＱ２は前記の定義と同じであり、Ｚ及びＺ’は同一又は異なって離脱基を表す）
で示される化合物と式（４）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、前記の定義と同じである）
で示される化合物とを反応させることによって製造できる。
Ｚ及びＺ’で表される離脱基としては、たとえば上記したハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。反応における式（３）の化合物と式（４）の化合物との比率は、通常、化合物（３）１モルに対して化合物（４）約０．６モル〜１．６モルの範囲から選ばれる。反応温度は、通常、約２０℃〜２００℃である。反応時間は、通常、約５分〜２週間である。反応には溶媒を用いるのが好ましく、反応を阻害しない溶媒であればどのようなものでもよい。反応溶媒の具体例としては、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン又はジメチルホルムアミドなどが挙げられる。本反応は、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、炭酸カリウム等の塩基存在下で好適に行われ得る。これら塩基類の使用量は、通常、化合物（３）１モルに対して約２〜１００モル、好ましくは約２〜５０モルの範囲である。反応終了後、反応成積体を濃縮、転溶、抽出、結晶化、クロマトグラフィーなどの精製手段に付して精製してもよいし、そのまま金属原子との反応に付してもよい。
また、式（１）の化合物は、式（５）
（式中、Ｑ１、Ｘ及びＱ２は前記と同一意味である）
で示される化合物の２つのアミノ基の４つの水素原子に上記した基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４を導入することによっても製造できる。アミノ基に上記した置換基を導入する手段は、従来十分に確立されているので、本発明においても、そのような公知手段に従ってよい。
このようにして得られた式（１）の化合物は、そのまま触媒成分として下記する種々の不斉合成反応に用いてもよいが、これを金属化合物と接触させて錯化合物とした後、不斉合成反応用触媒として用いてもよい。
錯化合物は、式（１）の化合物と金属化合物を反応させることにより製造される。錯化合物製造のための金属化合物は、従来この分野で極めて多数知られており、本発明においてもそのような公知の金属化合物が便宜に使用され得る。金属化合物は特に限定されないが、例えば、金属−ハロゲン化物（例えば、塩素、臭素、ヨウ素など）、金属−カルボニル、金属−カルボニルと酸化剤（例えばヨウ素、臭素、ジヨードメタン、ジヨードエタンなど）を組み合わせたもの、金属−有機酸塩（例えばアセテート、トリフルオロアセテートなどのカルボン酸塩、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホン酸塩等）、金属−有機酸誘導体塩（例えばアセチルアミド、ホルムアミド、ベンズアミド等の有機酸アミド等）、金属−無機酸塩（例えば硫酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩等）、金属−環状アルケン（例えばシクロオクタジエン、シクロオクテン、ノルボルナジエン等）又は水酸基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、シアノ基、チオラート基といった金属に配位できる配位子を有する金属化合物などが挙げられる。これらの金属化合物の中で、金属−ハロゲン化物、金属−有機酸塩、金属−無機酸塩、金属−アルコキシを用いるのが好ましい。金属化合物の使用量は特に限定されないが、通常、式（１）の化合物１モルに対して約１〜４モル、好ましくは約１．５〜３モルの範囲である。反応温度は、通常、約−１０℃〜２５０℃である。反応時間は、通常、約５分〜１０日間である。反応には溶媒を用いるのが好ましく、反応を阻害せず、反応を円滑に進行させる溶媒であればどのようなものでもよい。反応溶媒の具体例としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ヘプタン、ペンタン、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン又はジメチルホルムアミドなどが挙げられる。反応終了後、反応成積体を濃縮、転溶、抽出、結晶化、クロマトグラフィーなどの精製手段に付して精製してもよいし、反応成績体をそのまま不斉合成反応用触媒として使用してもよい。
上記金属の中からいくつかの金属について具体例を挙げるが、もちろんこれらの例に限定されることはない。尚、以下に示す金属化合物の式中で使用されている記号は、それぞれ、ｘは整数を、ｄｂａはジベンジリデンアセトンを、Ａｃはアセチル基を、ａｃａｃはアセチルアセトナト基を、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエンを、ｃｏｅはシクロオクテンを、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基（ＳＯ２ＣＦ３）を、ｎｂｄはノルボルナジエンを、Ｐｈはフェニル基を、ａｒｅｎｅはベンゼン、メシチレン、ｐ−シメン及びヘキサメチルベンゼンのいずれかを、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
サマリウム化合物としては、例えば、ＳｍＣｌ２、ＳｍＣｌ３、ＳｍＢｒ２、ＳｍＢｒ３、ＳｍＩ２、ＳｍＩ３、Ｓｍ（ＯＣＨ（ＣＨ３）２）３、又はＳｍ（ＮＯ３）３、Ｓｍ（ＯＡｃ）３・ｘＨ２Ｏなどが挙げられる。
チタン化合物としては、例えば、ＴｉＣｌ４、ＴｉＢｒ４、ＴｉＩ４、又はＴｉ（ＯＣＨ（ＣＨ３）２）４などが挙げられる。
パラジウム化合物としては、例えば、Ｐｄ（ｄｂａ）２、Ｐｄ（ｄｂａ）３、Ｐｄ２（ｄｂａ）３、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、ＰｄＣｌ２、ＰｄＢｒ２、ＰｄＩ２、Ｐｄ（ＯＡｃ）２、ＰｄＣｌ２（ＣＨ３ＣＮ）２、ＰｄＣｌ２（ＰｈＣＮ）２、［ＰｄＣｌ（π−アリル）］２、［ＰｄＣｌ（２−メチルアリル）］２、又はＰｄ（ａｃａｃ）２などが挙げられる。
ニッケル化合物としては、例えば、Ｎｉ（ｃｏｄ）２、ＮｉＣｌ２、ＮｉＢｒ２、又はＮｉＩ２などが挙げられる。
銅化合物しては、例えば、ＣｕＣｌ２、ＣｕＢｒ２、ＣｕＩ２、Ｃｕ（ＯＣＨ３）２、Ｃｕ（ＮＯ３）２・ｘＨ２Ｏ、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、Ｃｕ（ＯＡｃ）２、Ｃｕ（ａｃａｃ）２、又はＣｕ（ＣＦ３ＣＯ２）２などが挙げられる。
鉄化合物としては、例えば、ＦｅＣｌ２、ＦｅＢｒ２、ＦｅＩ２、ＦｅＣｌ３、ＦｅＢｒ３、ＦｅＩ３、Ｆｅ２（ＣＯ）９、Ｆｅ３（ＣＯ）１２、（ＮＨ４）４Ｆｅ（ＣＮ）６、（ＮＨ４）４Ｆｅ（ＳＯ４）２・６Ｈ２Ｏ、Ｆｅ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ、Ｆｅ（ＣｌＯ４）３・ｘＨ２Ｏ、Ｆｅ（ＢＦ４）２・６Ｈ２Ｏ、Ｋ３Ｆｅ（ＣＮ）６、又はＫ３Ｆｅ（ＣＮ）６などが挙げられる。
ロジウム化合物としては、例えば、ＲｈＣｌ３、ＲｈＣｌ３・ｘＨ２Ｏ、ＲｈＢｒ３・ｘＨ２Ｏ、ＲｈＩ３・ｘＨ２Ｏ、［Ｒｈ（ＯＡｃ）２］２、［Ｒｈ（Ｃ７Ｈ１５ＣＯ２）２］２、［Ｒｈ（ＣＦ３ＣＯ２）２］２、Ｒｈ（ａｃａｃ）３、Ｒｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）２、［ＲｈＣｌ（ｃｏｄ）］２、［ＲｈＣｌ（ｎｂｄ）］２、［ＲｈＣｌ（Ｃ２Ｈ４）］２、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＰｈ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＢＰｈ４、Ｒｈ６（ＣＯ）１６、又はＲｈ４（ＣＯ）１２などが挙げられる。
ルテニウム化合物としては、例えば、ＲｕＣｌ３、ＲｕＣｌ３・ｘＨ２Ｏ、ＲｕＢｒ３・ｘＨ２Ｏ、ＲｕＩ３、ＲｕＩ３・ｘＨ２Ｏ、［ＲｕＣｌ２（ｃｏｄ）］ｘ、［ＲｕＣｌ２（ａｒｅｎｅ）］２、［ＲｕＢｒ２（ａｒｅｎｅ）］２、［ＲｕＩ２（ａｒｅｎｅ）］２、Ｒｕ（ａｃａｃ）３、又はＲｕ３（ＣＯ）１２などが挙げられる。
イリジウム化合物としては、例えば、ＩｒＣｌ３・ｘＨ２Ｏ、ＩｒＣｌ４・ｘＨ２Ｏ、ＩｒＢｒ３・ｘＨ２Ｏ、［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］２、［ＩｒＢｒ（ｃｏｄ）］２、［ＩｒＩ（ｃｏｄ）］２、［ＩｒＣｌ（ｃｏｅ）２］２、［Ｉｒ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４、Ｉｒ（ｃｏｄ）（ａｃａｃ）、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＢＦ４、Ｉｒ４（ＣＯ）１２、［ＩｒＣｌ（ＣＯ）３］Ｘなどが挙げられる。
亜鉛化合物としては、例えば、ＺｎＣｌ２、ＺｎＢｒ２、ＺｎＩ２、Ｍｅ２Ｚｎ、Ｅｔ２Ｚｎ、Ｐｈ２Ｚｎ、Ｚｎ（ＯＡｃ）２・２Ｈ２Ｏ、Ｚｎ（ａｃａｃ）２・ｘＨ２Ｏ、Ｚｎ（ＮＯ３）２、Ｚｎ（ＣｌＯ４）２、又はＺｎ３（ＰＯ４）２などが挙げられる。
錫化合物としては、例えば、Ｍｅ２ＳｎＯ、Ｅｔ２ＳｎＯ、（ｎ−Ｃ３Ｈ７）２ＳｎＯ、（ｎ−Ｃ４Ｈ９）２ＳｎＯ、（ｎ−Ｃ８Ｈ１７）２ＳｎＯ、（ｎ−Ｃ１２Ｈ２５）２ＳｎＯ、（ＰｈＣＨ２）２ＳｎＯ、Ｐｈ２ＳｎＯ、（４−Ｃｌ−Ｃ６Ｈ４）２ＳｎＯ、（４−ＭｅＯ−Ｃ６Ｈ４）２ＳｎＯ、（１−Ｃ１０Ｈ７）２ＳｎＯ（ジ−（１−ナフチル）スズオキサイド）、又は（２−Ｃ１０Ｈ７）２ＳｎＯ（ジ−（２−ナフチル）スズオキサイド）などが挙げられる。
金化合物としては、例えば、ＡｕＣｌ、ＡｕＢｒ、ＡｕＩ、ＡｕＣｌ３、ＡｕＢｒ３、ＡｕＩ３、Ａｕ（ＣＯ）Ｃｌ、ＡｕＣＮ、Ｍｅ２Ａｕ（ａｃａｃ）、ＫＡｕ（ＣＮ）２、ＮａＡｕ（ＣＮ）２、Ａｕ（ＯＨ）３、ＨＡｕＣｌ４、ＨＡｕＢｒ４、ＫＡｕＣｌ４、又はＫＡｕＢｒ４などが挙げられる。
銀化合物としては、例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＩ、ＡｇＮＯ３、ＡｇＳｂＦ６、ＡｇＢＦ４、ＡｇＣＮ、Ａｇ（ＯＡｃ）、ＫＡｇ（ＣＮ）２、Ａｇ（ＰｈＣＯ２）、Ａｇ（ａｃａｃ）、ＡｇＣｌＯ４、ＡｇＰＦ６、又はＡｇ３ＰＯ４などが挙げられる。
白金化合物としては、例えば、ＰｔＣｌ２、ＰｔＢｒ２、ＰｔＩ２、ＰｔＣｌ４、ＰｔＢｒ４、Ｋ２ＰｔＣｌ４、Ｋ２ＰｔＢｒ４、Ｋ２ＰｔＩ４、Ｋ２Ｐｔ（ＣＮ）４、Ｈ２ＰｔＣｌ６、Ｈ２ＰｔＢｒ６、Ｋ２ＰｔＣｌ６、Ｋ２ＰｔＢｒ６、Ｋ２ＰｔＩ６、Ｋ２Ｐｔ（ＣＮ）６、Ｈ２Ｐｔ（ＯＨ）６、Ｐｔ（ＣＮ）２、ＰｔＣｌ２（ｃｏｄ）、ＰｔＢｒ２（ｃｏｄ）、ＰｔＩ２（ｃｏｄ）、Ｐｔ（ａｃａｃ）２、ＰｔＣｌ２（ＰｈＣＮ）、ＰｔＣｌ２（ＣＨ３ＣＮ）、Ｍｅ２Ｐｔ（ｃｏｄ）、ＰｔＣｌ２（Ｃ５Ｈ５Ｎ）２、ＰｔＣｌ２（ＮＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２）２、（ＮＨ３）２ＰｔＣｌ４、（ＮＨ３）２ＰｔＣｌ６、又は（ＮＨ３）２ＰｔＢｒ６などが挙げられる。
このようにして製造された錯化合物は、種々の化学反応の触媒として用いることができる。そのような化学反応の典型例は、不斉合成反応である。不斉合成反応としては、例えば、不斉水素化反応、不斉移動型還元反応、不斉ヒドロシリル化反応、不斉Ｈｅｃｋ反応、不斉アルドール反応、不斉エン反応、不斉酸化反応、不斉エポキシ化反応、不斉Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応、又は重合反応等が挙げられる。さらに、そのような反応の具体例としては、例えば、ケトンから光学活性なアルコールを製造するＭｅｅｒｗｅｉｎ−Ｐｏｎｎｄｏｒｆ−Ｖｅｒｌｅｙ還元反応などが挙げられる。
【実施例】
以下に実施例を挙げ、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例中において、下記の分析機器を用いた。
核磁気共鳴スペクトル；ＭＥＲＣＵＲＹ３００−Ｃ／Ｈ（ＶＡＲＩＡＮ）
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．０９ ＭＨｚ）
高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）；Ｇｕｌｌｉｖｅｒ（ＪＡＳＣＯ Ｃｏｒｐ．）
【実施例１】
１，３−ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（（２Ｒ）−２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル）アミノメチル］−ベンゼン（配位子）の合成
ｍ−キシレンジアミン１ｍＬ（７．８４ｍｍｏｌ）をエタノール２ｍＬに溶解させ、０℃に冷却して撹拌しながら、（Ｒ）−（＋）−スチレンオキサイド３．６ｍＬ（３１．３ｍｍｏｌ）をエタノール４ｍＬに溶解させたものを加えた。反応液を０℃に１時間保った後、加熱を開始し、２０時間還流した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し黄色油状物（２．３５３６ｇ、３．８１ｍｍｏｌ，４９％収率）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．３２−７．１８（ｍ，２４Ｈ，フェニルプロトン），４．７３（ｄｄ，Ｊ＝９．７５，３．４３Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｐｈ），３．９９（ｄ，Ｊ＝１３．４６Ｈｚ，２Ｈ，Ｐｈ−ＣＨＨ−Ｎ−），３．７１（ｄ，Ｊ＝１３．４６Ｈｚ，２Ｈ，Ｐｈ−ＣＨＨ−Ｎ−），２．８３（ｄｄ，Ｊ＝１３．３２，９．７５Ｈｚ，４Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ（ＯＨ）Ｐｈ），２．７４（ｄｄ，Ｊ＝１３．３２，３．４３Ｈｚ，４Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ（ＯＨ）Ｃ６Ｈ５Ｐｈ）．
上記の化合物は、下式で示される。
【実施例２】
１，３−ビス［Ｎ，Ｎ−ジ｛（２Ｒ）−２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル｝−アミノメチル］−２−ヒドロキシ−５−メチルベンゼン（配位子）の合成
（１）（１Ｒ，５Ｒ）−３−アザ−１，５−ジヒドロキシ−１，５−ジフェニルペンタンの合成
アルゴン雰囲気下で（１Ｒ，５Ｒ）−３−アザ−３−ベンジル−１，５−ジヒドロキシ−１，５−ジフェニルペンタン０．６８２５ｇ（１．９６ｍｍｏｌ）をオートクレーブを用いて、基質の１０重量％のＰｄ／Ｃを入れ、メタノール１０ｍＬを加えて、水素圧７ＭＰａにて室温で２日間撹拌した。ろ過によりＰｄ／Ｃを除き溶媒を留去し、黄色油状物（０．４０１５ｇ，１．５６ｍｍｏｌ，８０％収率）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．３５−７．１８（ｍ，１０Ｈ，フェニルプロトン），４．７７（ｄｄ，Ｊ＝１２．２９，３．９９Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｐｈ），２．９３（ｄｄ，Ｊ＝１２．２９，８．５２Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ（ＯＨ）Ｐｈ），２．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．５２，３．９９Ｈｚ，２Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ（ＯＨ）Ｐｈ）．
（２）配位子の合成
２，６−ビス（ヒドロキシメチル）−ｐ−クレゾール０．６７７９ｇ（４．０３ｍｍｏｌ）をＣＨ２Ｃｌ２１０ｍＬに懸濁させ、氷浴下ＳＯＣｌ２３ｍＬ（４１．１ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えた後、室温にて１８時間撹拌した。反応液の色は黄色の溶液となった。反応終了後、溶媒を留去して２，６−ビス（クロロメチル）−ｐ−クレゾールを得た。
２，６−ビス（クロロメチル）−ｐ−クレゾール０．０３６８ｇ（０．１７８ｍｍｏｌ）と（１Ｒ，５Ｒ）−３−アザ−１，５−ジヒドロキシ−１，５−ジフェニルペンタン０．０９５３ｇ（０．３７０ｍｍｏｌ）をメタノール５ｍＬに溶解させ、トリエチルアミン１ｍＬを加えて室温で一晩撹拌した。反応混合物をガラスフィルターでろ過し、ろ液の溶媒を留去し、黄色油状物（０．０８５２ｇ，７４％収率）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．２０−７．３２（ｍ，２２Ｈ，フェニルプロトン），４．８３（ｄｄ，Ｊ＝３．０２，１０．３７Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ−ＯＨ），４．１４（ｄ，Ｊ＝１３．０４Ｈｚ，２Ｈ，Ｃ６Ｈ２−（ＣＨＨ）２−），３．６５（ｄ，Ｊ＝１３．０４Ｈｚ，２Ｈ，Ｃ６Ｈ２−（ＣＨＨ）２−），２．８３（ｄｄ，Ｊ＝１０．３７，１３．１９Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ２−Ｎ−（ＣＨＨ−）２），２．６８（ｄｄ，Ｊ＝３．０２，１３．１９Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ２−Ｎ−（ＣＨＨ−）２），２．２８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３）．
上記化合物は、下式で示される。
【実施例３】
サマリウム触媒の製造及び不斉水素移動型反応
▲１▼ アルゴン雰囲気下、シュレンク管に実施例１で得られた化合物０．１５０５ｇ（２４４μｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフランを２ｍｌ加えた。０℃にてｎ−ＢｕＬｉ（ｎ−ブチルリチウム）ヘキサン溶液０．７３ｍｌ（１．３４Ｍ ９７８μｍｏｌ）をシリンジでゆっくりと加えた。反応液は赤色へと変化した。
▲２▼ アルゴン雰囲気下、シュレンク管に金属サマリウム０．０７３６ｇ（４８９μｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２ｍｌに懸濁させ、ジヨードエタン０．２０６５ｇ（７３２μｍｏｌ）を入れてテトラヒドロフラン２ｍｌを加え、室温で１時間攪拌した。反応液は、緑色から黄色に変化した。
▲３▼ ▲１▼の反応溶液を▲２▼の反応溶液に室温でシリンジを用いて滴下した。反応液は、黄褐色となった。この反応液中にサマリウム触媒が生成している。
▲４▼ ▲３▼の反応液にアセトフェノン０．５６ｍｌ（４．８１ｍｍｏｌ）と２−プロパノール９．４ｍｌ（１２１ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応混合物をクーゲルロール蒸留にて精製し、（Ｒ）−１−フェニルエタノール（０．５４１ｇ、９２％収率）を得た。生成物の不斉収率は、ＨＰＬＣにてキラルセル ＯＤ（４．６ｘ２５０ｍｍ、ダイセル化学工業社製）カラムを用いて測定したところ、９９％ｅｅ以上であった。なお、下記表には、比較のため、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９３，１１５，９８００−９８０１の第９８００頁に記載されたｍｅｔａｌ−ｌｉｇａｎｄ ｃｏｍｐｌｅｘ ４（以下、比較品という）の結果をも併記した。
注１：サマリウム触媒の構造式
注２：比較品の構造式
なお、上記第１表から、目的物である光学活性アルコールが、高収率で、しかも極めて高い不斉収率で得られ、本発明の錯化合物が優れた触媒能を示すことが分かる。
【実施例４】
１，３−ビス［Ｎ，Ｎ−ジ｛４，５−ジヒドロ−４（Ｒ）−フェニル−１，３−オキサゾール−２−イル−メチル｝アミノメチル］ベンゼン（配位子）の合成
２０ｍＬのシュレンクにＮ，Ｎ−ジ｛４，５−ジヒドロ−４（Ｒ）−フェニル−１，３−オキサゾール−２−イル−メチル｝アミン（Ｊｉａｎｇ，Ｙ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９８，１２０，３８１７．の記載に準じて合成）（１９６．３ｍｇ，５８．５μｍｏｌ）をメタノール１ｍＬに溶かし、トリエチルアミン（０．１３ｍＬ、５７．３μｍｏｌ）とα，α’−ジブロモ−ｍ−キシレン（０．０４ｍＬ、２７．４μｍｏｌ）を加え、室温で４０時間撹拌した。溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３（容量比）及び３％容量トリエチルアミン）により精製し、標題化合物を褐色油状物として８１．７ｍｇ得た。収率３０％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．４３−７．２０（ｍ，２４Ｈ，フェニルプロトン），５．２１（ｄｄ，Ｊ＝９．９，１４．８Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−），４．６０（ｄｄ，Ｊ＝９．９，８．５Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨＨ−ＣＨ−Ｐｈ），４．１１（ｄｄ，Ｊ＝１４．８，８．５Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨＨ−ＣＨ−Ｐｈ），３．９９（ｓ，４Ｈ，Ａｒ−ＣＨ２−Ｎ−），３．７１（ｓ，８Ｈ，−Ｎ−ＣＨ２−Ｃ）．
ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ ７７３
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｆｏｕｎｄ． ７７３．９５８２．
Ｃａｌｃｄ． ７７３．９５４９．
【実施例５】
１，３−ビス［Ｎ，Ｎ−ジ｛４，５−ジヒドロ−４（Ｓ）−イソプロピル−１，３−オキサゾール−２−イル−メチル｝アミノメチル］ベンゼン（配位子）の合成
２０ｍＬのシュレンクにＮ，Ｎ−ジ｛４，５−ジヒドロ−４（Ｓ）−イソプロピル−１，３−オキサゾール−２−イル−メチル｝アミン（３９６．１ｍｇ、１．４８ｍｍｏｌ）をメタノール１ｍＬに溶かし、トリエチルアミン（０．２ｍＬ、１．４３ｍｍｏｌ）とα、α’−ジクロロ−ｍ−キシレン（０．０７ｍＬ，４８０μｍｏｌ）を加え、室温で１６時間撹拌した。溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：５（容量比）及び３％容量トリエチルアミン）により精製し、標題化合物を褐色油状物として１４９．９ｍｇ得た。収率は４９％であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．４２−７．２５（ｍ，４Ｈ，フェニルプロトン），４．２２（ｄｄ，Ｊ＝８．２，７．２Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ−ＣＨＨ−），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝１３．８，７．２Ｈｚ，４Ｈ，−ＣＨ−ＣＨＨ−），３．９０−３．８８（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ＣＨＨ−），３．８５（ｓ，４Ｈ，Ａｒ−ＣＨ２−Ｎ−），３．５１（ｓ，４Ｈ，ＮＨ−ＣＨ２−），１．７５（ｄ セプテット，Ｊ＝６．６，６．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３），０．９７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，６Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３），０．８８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，６Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３）．
【実施例６】
１，３−ビス［｛（２Ｓ，６Ｓ）−１，７−ジ（トリフルオロメタンスルホニル）−２，６−ジイソプロピル−１，４，７−トリアザヘプタン−４−イル｝メチル］ベンゼン（配位子）の合成
（１）（Ｒ）−Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル−２−イソプロピルアジリ
ジン（５）の合成
セルナルド（Ｃｅｒｎｅｒｕｄ，Ｍ．）らの方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１９９７，１５，２６５５．）に準じてアジリジン（５）を合成した。この合成をより具体的に下記に示す。
アルゴン雰囲気下で８０ｍＬシュレンク中に、塩化メチレン４０ｍＬ，トリエチルアミン５．６ｍＬ（４０．１ｍｍｏｌ）にＬ−バリノール２．４ｍＬ（２１．５ｍｍｏｌ）を溶解させ、−７８℃に冷却した。滴下ロートを用いてトリフルオロメタンスルホン酸無水物７．２ｍＬ（３３．７ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えていった。温度を−３０℃まで上げ一晩撹拌した。反応液を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（５０ｍＬで２回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬで２回）で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、３．１３０７ｇの（Ｒ）−Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル−２−イソプロピルアジリジン（５）を褐色油状物として得た。収率は６７％であった。
（２）配位子（６）の合成
セルナルド（Ｃｅｒｎｅｒｕｄ，Ｍ．）らの方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１９９７，２０，３４３７．）に準じて、下記のようにして化合物（６）を合成した。
（Ｒ）−Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル−２−イソプロピルアジリジン（５）をメタノール２ｍＬに溶解させ、ｍ−キシレンジアミン０．３１ｍＬ（２．３４ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で２日間撹拌後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４（容量比））を行い無色固体として配位子（６）を１．０４９２ｇ得た。収率４５％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，３５℃）δ：７．４９−７．２０（ｍ，４Ｈ，フェニルプロトン），３．９１（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，４Ｈ，Ａｒ−ＣＨ２−Ｎ−），３．５３（ｍ，４Ｈ，Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ−），２．６７（ｄｄ，Ｊ＝１３．５，９．６Ｈｚ，４Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ−），２．５１（ｄｄ，Ｊ＝１３．５，５．１Ｈｚ，４Ｈ，−Ｎ−ＣＨＨ−ＣＨ−），１．９７（ｍ，４Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３），０．９０（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１２Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３），０．８６（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１２Ｈ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ３）．
［α］Ｄ−７１．９（ｃ １．０，ＣＨ３ＯＨ）．
ＭＳ （ＦＡＢ）： ｍ／ｚ １００５
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ） Ｆｏｕｎｄ １００６．０４９１．
Ｃａｌｃｄ． １００６．０５３１．
融点：１９６−２０１℃
【実施例７】
（Ｓ）−４−イソブチル−２−オキセタノンの合成
アルゴン雰囲気下、シュレンク管に実施例６で得られた配位子（６）０．１０ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン５ｍＬ中に懸濁させ、室温下、トリメチルアルミニウムトルエン溶液０．２０ｍＬ（１Ｍ溶液、０．２０ｍｍｏｌ）をシリンジで加え３時間撹拌した。反応液は白色懸濁から無色透明の溶液へと変化した。撹拌終了後、減圧下、溶媒を留去し、ヘキサンを５ｍＬ加え、さらに１時間撹拌した。撹拌終了後、しばらく静置し、上澄みをシリンジで取り除き、沈殿物を減圧乾固させ触媒とした。得られた触媒に塩化メチレンを１６ｍＬ加え、さらにＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン０．５９ｍＬ（３．４ｍｍｏｌ）を加え、ドライアイス−エタノール浴で−７８℃に冷却し、臭化アセチル０．２８ｍＬ（３．８ｍｍｏｌ）とイソバレルアルデヒド０．２１ｍＬ（２．０ｍｍｏｌ）をシリンジで加え、−５０℃で２４時間撹拌した。反応溶液は淡黄色に変化し、反応終了後、室温まで温めると橙色になった。反応混合物をシリカゲルを詰めたグラスフィルターでろ過し、ろ液の溶媒を留去することにより、（Ｓ）−４−イソブチル−２−オキセタノン０．２０ｇ（７７％収率）を得た。生成物の不斉収率は、ＧＬＣにてキャピラリーカラムＣｈｉｒａｓｉｌ−ＤＥＸ ＣＢ（０．２５ｍｍ×２５ｍ、膜厚０．２５μｍ、ジーエルサイエンス社製）を用いて測定したところ９３％ｅｅであった。
【産業上の利用可能性】
本発明の配位子を利用して製造された錯化合物は、不斉合成用触媒として有用であり、産業的に極めて有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっていてもよく、下記式（２）
（式（２）中、Ｑ３は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Ｒ６は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はＲ５とＲ６とが一緒になって環を形成していてもよい）で示される基を表し、Ｑ１及びＱ２は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Ｘは二価のスペーサーを表す）で示されることを特徴とする配位子。
【請求項２】
光学活性体であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の配位子。
【請求項３】
式（２）中、不斉炭素原子が存在しないことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の配位子。
【請求項４】
スペーサーが、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載の配位子。
【請求項５】
Ｑ１−Ｘ−Ｑ２の長さが、２〜３０Åであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第４項のいずれかに記載の配位子。
【請求項６】
Ｑ３が、炭素数１乃至６のアルキレン基であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第５項のいずれかに記載の配位子。
【請求項７】
Ｒ５が、アリール基であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第６項のいずれかに記載の配位子。
【請求項８】
Ｒ６が、水酸基、炭素数１乃至６のアルコキシ基、アミノ基又は置換アミノ基であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第７項のいずれかに記載の配位子。
【請求項９】
Ｒ５とＲ６とが一緒になって形成された環が、オキサゾリン、ピロリジン又はピペリジンであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第６項のいずれかに記載の配位子。
【請求項１０】
請求の範囲第１項〜第９項のいずれかに記載の配位子と金属原子とを構成要素として含有することを特徴とする錯化合物。
【請求項１１】
金属原子が、周期律表第３族から第１４族のいずれかの族に属することを特徴とする請求の範囲第１０項に記載の錯化合物。
【請求項１２】
金属原子が、ランタン、サマリウム、チタン、ジルコニウム、バナジウム、レニウム、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛、アルミニウム、錫、金、銀又は白金であることを特徴とする請求の範囲第１０項又は第１１項に記載の錯化合物。
【請求項１３】
請求の範囲第１０項〜第１２項のいずれかに記載の錯化合物製造のための請求の範囲第１項〜第９項のいずれかに記載の配位子の使用。
【請求項１４】
請求の範囲第１０項〜第１２項のいずれかに記載の錯化合物の不斉合成反応用触媒としての使用。
【請求項１５】
式（３）
（式中、Ｑ１、Ｘ及びＱ２は請求の範囲第１項の定義と同じであり、Ｚ及びＺ’は同一又は異なって離脱基を表す）
で示される化合物と式（４）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、請求の範囲第１項の定義と同じである）
で示される化合物とを反応させることを特徴とする式（１）
（式中、各記号は請求の範囲第１項の定義と同じである）
で表される化合物の製造方法。
【請求項１６】
請求の範囲第１項〜第９項のいずれかに記載の配位子と金属化合物とを接触させることを特徴とする請求の範囲第１０項〜第１２項のいずれかに記載の錯化合物の製造方法。
【請求項１】
下記式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっていてもよく、下記式（２）
（式（２）中、Ｑ３は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Ｒ５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Ｒ６は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はＲ５とＲ６とが一緒になって環を形成していてもよい）で示される基を表し、Ｑ１及びＱ２は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Ｘは二価のスペーサーを表す）で示されることを特徴とする配位子。
【請求項２】
光学活性体であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の配位子。
【請求項３】
式（２）中、不斉炭素原子が存在しないことを特徴とする請求の範囲第１項に記載の配位子。
【請求項４】
スペーサーが、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載の配位子。
【請求項５】
Ｑ１−Ｘ−Ｑ２の長さが、２〜３０Åであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第４項のいずれかに記載の配位子。
【請求項６】
Ｑ３が、炭素数１乃至６のアルキレン基であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第５項のいずれかに記載の配位子。
【請求項７】
Ｒ５が、アリール基であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第６項のいずれかに記載の配位子。
【請求項８】
Ｒ６が、水酸基、炭素数１乃至６のアルコキシ基、アミノ基又は置換アミノ基であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第７項のいずれかに記載の配位子。
【請求項９】
Ｒ５とＲ６とが一緒になって形成された環が、オキサゾリン、ピロリジン又はピペリジンであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第６項のいずれかに記載の配位子。
【請求項１０】
請求の範囲第１項〜第９項のいずれかに記載の配位子と金属原子とを構成要素として含有することを特徴とする錯化合物。
【請求項１１】
金属原子が、周期律表第３族から第１４族のいずれかの族に属することを特徴とする請求の範囲第１０項に記載の錯化合物。
【請求項１２】
金属原子が、ランタン、サマリウム、チタン、ジルコニウム、バナジウム、レニウム、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛、アルミニウム、錫、金、銀又は白金であることを特徴とする請求の範囲第１０項又は第１１項に記載の錯化合物。
【請求項１３】
請求の範囲第１０項〜第１２項のいずれかに記載の錯化合物製造のための請求の範囲第１項〜第９項のいずれかに記載の配位子の使用。
【請求項１４】
請求の範囲第１０項〜第１２項のいずれかに記載の錯化合物の不斉合成反応用触媒としての使用。
【請求項１５】
式（３）
（式中、Ｑ１、Ｘ及びＱ２は請求の範囲第１項の定義と同じであり、Ｚ及びＺ’は同一又は異なって離脱基を表す）
で示される化合物と式（４）
（式中、Ｒ１及びＲ２は、請求の範囲第１項の定義と同じである）
で示される化合物とを反応させることを特徴とする式（１）
（式中、各記号は請求の範囲第１項の定義と同じである）
で表される化合物の製造方法。
【請求項１６】
請求の範囲第１項〜第９項のいずれかに記載の配位子と金属化合物とを接触させることを特徴とする請求の範囲第１０項〜第１２項のいずれかに記載の錯化合物の製造方法。
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０６９７８６
【国際公開日】平成１６年８月１９日（２００４．８．１９）
【発行日】平成１８年５月２５日（２００６．５．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−５０４８５９（Ｐ２００５−５０４８５９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００１１４６
【国際出願日】平成１６年２月４日（２００４．２．４）
【出願人】（０００１６９４６６）高砂香料工業株式会社 (194)
【Ｆターム（参考）】
【国際公開日】平成１６年８月１９日（２００４．８．１９）
【発行日】平成１８年５月２５日（２００６．５．２５）
【国際特許分類】
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００１１４６
【国際出願日】平成１６年２月４日（２００４．２．４）
【出願人】（０００１６９４６６）高砂香料工業株式会社 (194)
【Ｆターム（参考）】
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