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Fターム[4H049VR30]の内容

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Fターム[4H049VR30]に分類される特許

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本発明は、低分子、中分子、および、高分子ハロゲン化ポリシランの、最終生成物関連の製造、これらのポリシランの選択された分画への蒸留、ポリシラン混合物またはポリシランの気相または液相からのシリコンの直接的堆積、ハロゲン化ポリシランの水素化または誘導化、ならびに、適当なシステムによる最終生成物と成すための加工処理のための方法に関する。
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金属塩を(ベンジル)nMgX2-n化合物と化合させることを含むジ−、トリ−またはテトラベンジル−金属化合物の合成方法であって、nは1または2であり、Xは一価のアニオン性基であり;化合は混合希釈液中で行い、該混合希釈液は、混合希釈液中0〜80体積%のエーテルの他に、芳香族化合物、ハロゲン化炭化水素およびそれらの混合物からなる群から選択される希釈液である方法を開示した。当該方法は、様々な種類の希釈液を使用することができ、ある場合には、エーテルを使用しない。 (もっと読む)


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