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Fターム[4H049VU19]の内容

第4族元素を含む化合物及びその製造 (22,055) | 用途(目的化合物) (2,516) | 高分子用材料 (1,061) | 高分子添加剤 (117) | 劣化防止剤、安定化剤 (5)

Fターム[4H049VU19]に分類される特許

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【課題】ゴム組成物のヒステリシスロスを大幅に低下させると共に、耐摩耗性を大幅に向上させることが可能な新規化合物、かかる化合物を含むゴム組成物及び該ゴム組成物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】特定の構造式で表わされる有機ケイ素化合物と、天然ゴム及び/又はジエン系合成ゴムからなるゴム成分(A)に対して、無機充填剤(B)と前記有機ケイ素化合物(C)とを配合してなるゴム組成物と、該ゴム組成物を用いたタイヤである。 (もっと読む)


本発明は、式RSnHal(式中、R=アルキルまたはシクロアルキル、およびHal=Cl、Br、またはI)の三ハロゲン化モノアルキルスズを生成する方法に関する。該方法は、少なくとも1つの遷移金属系触媒の存在下で、対応するアルケンまたはシクロアルケン、ハロゲン化第一スズSnHal、ハロゲン化水素HHal、および任意選択によりSn金属を接触させ、この後媒体から三ハロゲン化モノアルキルスズを単離することを含む。本発明は、さらに、式RSnHa1(式中、R=アルキルまたはシクロアルキル、およびHal=Cl、Br、またはI)の三ハロゲン化モノアルキルスズから、式RSnHalの二ハロゲン化ジアルキルスズを生成する方法にも関する。該方法は、三ハロゲン化モノアルキルスズRsnHalとSn金属を接触させ、任意選択により、この後媒体から二ハロゲン化ジアルキルスズRSnHalを単離させることを含む。 (もっと読む)


本発明は、与えられた式を持つ二つのアミノベンゾアート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有s-トリアジンを使用する、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体を紫外線に対して光安定化させるための方法に関する。また本発明は、(a)ジベンゾイルメタン型の少なくとも一の紫外線遮蔽剤と;(b)与えられた式の二つのアミノベンゾアート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有s-トリアジン化合物を含むことを特徴とする、生理学的に許容可能な担体中に少なくとも一の紫外線遮蔽系を含有する組成物に関する。さらに本発明は、紫外線に対するジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体を生理学的に許容可能な担体中に含有してなる組成物における、与えられた式の二つのアミノベンゾアート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有s-トリアジンの使用に関する。 (もっと読む)


ハロゲン含有樹脂のための優れた安定化剤としての用途を有する、特定の式のアルキル錫化合物。そのアルキル錫化合物は、1〜3個の末端チオール基を有する。
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【課題】経済的に認容可能である短い混合時間及び保証された加工であっても、高い増幅比、低いヒステリシス損失及び高い耐摩擦性、及び同時に、トリメトキシ−及びトリエトキシ−置換メルカプトシランと比較して低減されたアルコールの放出をもたらすメルカプトシランを提供する。
【解決手段】一般式Iのメルカプトシラン。


[式中、Rはアルキルポリエーテル基−O−(R−O)−R(もっと読む)


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