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Fターム[4H050BA44]の内容

Fターム[4H050BA44]に分類される特許

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【課題】光集積回路などに利用可能な非線形光学材料などの光機能性材料として有用なα位アルケニル置換ホスホール化合物およびその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】化合物は下記の一般式(1)で表される。


〔式中、Arはアリール基またはヘテロアリール基を示す。Xは酸素または硫黄原子を示す。Yはアリール基またはヘテロアリール基を示す。R1,R2は一緒になって任意に酸素原子、-S(O)m-(mは0〜2の整数を示す)、-NR5-(R5はアリール基またはアルキル基を示す)によって中断されていてもよいアルキレン基を示す。R3,R4は同一または異なって水素原子、アリール基、ヘテロアリール基のいずれかを示す(但しR3,R4がいずれも水素原子である場合を除く)、R3,R4は一緒になって置換基を形成してもよい。〕 (もっと読む)


本発明は、有機レニウム(VII)−酸化物の新規の製造方法に関する。 (もっと読む)


強力なカルボキシペプチダーゼB阻害剤であるホスフィン酸誘導体を効率よく製造するための製造用中間体である一般式(1)で表される化合物若しくはその塩、又はその水和物若しくはその溶媒和物。


[式中、
及びRは、それぞれ独立して同一又は異なっていてもよく、水素原子又は容易に除去できる保護基を表し、
は、水素原子又は容易に除去できる保護基を表し、
は、水素原子又は容易に除去できる保護基を表し、
mは1〜8の整数を表す。]
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【課題】高温で生成した結晶化度および生産性が良好で、高分子量を有するポリマーを提供可能な触媒系を提供すること。
【解決手段】本発明は、次の化学式により表される遷移金属化合物に関する。式中、Mは周期律表の4族から選択される遷移金属であり、Rは水素等、Rはメチル等、Rは炭素または珪素、Rは水素等、Rは水素等、Rは炭素または珪素、Rは水素、Rは水素等、Rは水素等、R10は−M(R16−、R11は水素等、R12は炭素または珪素、R13は水素等、R14は水素等、およびR15は炭素または珪素であり、a、b、c、d、e、f、およびgは0か1または2である。

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