Fターム[4J015AA06]の内容
重合触媒 (2,607) | アゾ化合物触媒 (220) | アゾ化合物(−N=N−) (205) | 炭素直結アゾ三C−N=N−C三 (163) | アゾカルボン酸(エステル)=C(COOR)−N=N−C(COOR)= (23)
Fターム[4J015AA06]に分類される特許
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有機テルル化合物を用いた水性液の製造方法
【課題】 精密な分子量及び分子量分布(PD=Mw/Mn)の制御されたポリマーを含む水性液を製造する方法を提供する。
【解決手段】 水性媒体中で、(a)式(1)で表される有機テルル化合物、(b1)界面活性剤及び/又は分散剤を用いて、ビニルモノマーを重合することを特徴とするポリマーを含む水性液の製造方法。
【化1】
(式中、R1は、C1〜C8のアルキル基、アリール基、置換アリール基又は芳香族ヘテロ環基を示す。R2及びR3は、水素原子又はC1〜C8のアルキル基を示す。R4は、アリール基、置換アリール基、芳香族ヘテロ環基、アシル基、オキシカルボニル基又はシアノ基を示す。)
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ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
【課題】液浸露光によるパターン形成において、表面ラフネス、ラインウイズスラフネスが改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
(B)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジストであって、(B)成分の樹脂が、主鎖の少なくとも一方の末端にラクトン構造を有する基を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
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フォトレジスト用共重合体の製造法
【課題】 耐熱性、感度、解像度等のレジスト性能に優れ、微細なパターンを鮮明且つ精度よく形成できるフォトレジスト用共重合体を提供する。
【解決手段】 フォトレジスト用共重合体の製造法では、(A)(i)アルキル基で置換されていてもよいスチレン、(ii)下記式(1)
(式中、R1は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を示し、R2は炭素数1〜12の第1級若しくは第2級アルキル基、オキシラン環若しくはオキセタン環含有基等を示す)で表される不飽和カルボン酸エステル、及び(iii)N−置換マレイミドの3種の単量体群より選択された少なくとも2種の単量体群に含まれる2以上のモノマーと、(B)アルカリ可溶性基含有モノマーとを、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)等の重合開始剤を用いて共重合させる。
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