Fターム[4J033DA05]の内容
フェノール樹脂、アミノ樹脂 (6,263) | アルデヒド又はケトンと(ハロゲン化)芳香族炭化水素のみとの重合体原料 (77) | ケトン (4)
Fターム[4J033DA05]に分類される特許
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芳香族ポリケトンの製造方法と芳香族ポリケトン
【課題】脂環構造を導入した芳香族ポリケトンにおいて、低温での重合が可能である芳香族ポリケトンの製造方法と芳香族ポリケトンならびに透明フィルムを提供する。
【解決手段】脂環式ジカルボン酸またはその誘導体と、水酸基を有さず相互に非共役または相互の共役関係が弱い複数の芳香環を含む芳香族化合物とを、酸性媒体中において縮合反応させる工程を含むことを特徴としている。
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ナフタレン誘導体、レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法
【課題】反射防止膜として最適なレジスト下層膜と無機ハードマスクを組み合わせたパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(1)で表されるナフタレン誘導体又はそれを含有する高分子化合物をレジスト下層膜材料として用いた下層膜形成方法により、反射防止膜としての最適な特性、エッチング耐性、高耐熱性、耐溶媒性を有し、ベーク中のアウトガスの発生を抑制でき、基板のエッチング中によれのないレジスト下層膜を形成できる。
(環構造Ar1、Ar2はベンゼン環又はナフタレン環。Xは単結合又はC1〜20のアルキレン基。mは0又は1。nは分子量が10万以下となる自然数。)
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アルキルアリールケトンとホルムアルデヒドをベースとするホルムアルデヒド不含のOH官能性、カルボニル水素化及び核水素化ケトン−アルデヒド樹脂ならびにそれらの製法
本発明は、僅かな結晶化可能化合物の割合、僅かな粘度、極めて低い色数、広い溶解度及び極めて高い耐熱性と耐光性を有するアルキルアリールケトンとホルムアルデヒドをベースとする、ホルムアルデヒド不含のOH−官能性カルボニル水素化及び核水素化ケトン−アルデヒド樹脂ならびにその製法に関する。 (もっと読む)
僅かなOH官能性を有するアルキルアリールケトンとホルムアルデヒドをベースとするホルムアルデヒド不含のカルボニル水素化及び核水素化ケトン−アルデヒド樹脂ならびにこれらの製法
本発明は、僅かなOH官能性、結晶化可能な化合物の僅かな割合、僅かな粘度、極めて低い色数及び極めて高い耐熱性と耐光性を有するアルキルアリールケトンとホルムアルデヒドをベースとする、ホルムアルデヒド不含のカルボニル水素化及び核水素化ケトン−アルデヒド樹脂ならびにその製法に関する。 (もっと読む)
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