【課題】 良好な形状のレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、アセタール型保護基を有する構成単位（ａ１）と、一般式（ａ２−１）で表されるラクトン含有多環式基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）と、極性基含有脂肪族炭化水素基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）とを含む共重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】


［式中、Ｒは水素原子、フッ素原子、低級アルキル基またはフッ素化低級アルキル基；Ｒ’は水素原子、低級アルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基；ｍは０または１の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】ホメオトロピックなどの配向を有する、欠陥がない（または少ない）配向を有する、大きな光学異方性を有する、支持基板に密着する、充分な硬度を有する、無色透明である、大きな耐熱性を有する、大きな耐候性を有する、などの特性において、少なくとも２つの特性を満たす重合体、およびその前駆体の組成物の提供。
【解決手段】特定の液晶性基を含有するジアクリレート化合物（１）、特定の液晶性基を含有するフッ素化ジアクリレート化合物（２）、特定の液晶性基を含有するアクリレート化合物を含有する重合体およびその組成物。 （もっと読む）

重合性組成物を、下記式（１）で表されるフルオレン骨格を有する多官能性（メタ）アクリレートで構成する。重合性組成物は、重合開始剤（光重合開始剤など）やポリシランを含んでいてもよい。
【化１】


（式中、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは置換基を示し、Ｒ^３ａおよびＲ^３ｂはアルキレン基を示し、Ｒ^４ａおよびＲ^４ｂは水素原子又はメチル基を示す。ｋ１及びｋ２は０〜４の整数を示し、ｍ１及びｍ２は０〜３の整数を示し、ｎ１およびｎ２は０又は１以上の整数を示し、ｐ１およびｐ２は２〜４の整数を示す。ただし、ｍ１＋ｐ１及びｍ２＋ｐ２は、２〜５の整数である） （もっと読む）