Fターム[4J246FA53]の内容
珪素重合体 (47,449) | 重合体の形成方法 (6,643) | 特定の条件下で行う反応 (192) | グリニャール反応 (4)
Fターム[4J246FA53]に分類される特許
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ポリシランの製造方法
【課題】金属マグネシウム成分を用い、末端が封鎖されたポリシランを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】非プロトン性溶媒中で、金属マグネシウム成分の存在下、ハロシランを重合させてポリシランを製造する際に、重合後の反応混合物中に残存する金属マグネシウム成分と有機ハロゲン化物とを反応させて、グリニャール試薬を生成させるとともに、生成したグリニャール試薬と、重合末端としてハロゲン原子を有するポリシランとをグリニャール反応させ、重合末端が封鎖されたポリシランを製造する。
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末端封鎖されたネットワーク状ポリシラン
【課題】安定化されたネットワーク状ポリシランを得る。
【解決手段】少なくともトリハロシランを含むハロシランが重合したネットワーク状のポリシラン(例えば、ポリアルキルトリハロシラン、アリールトリハロシラン−アルキルトリハロシラン共重合体、アリールトリハロシラン−アルキルアリールジハロシラン共重合体など)の重合末端(ハロシリル基、シラノール基など)を、炭化水素基(例えば、アルキル基など)などの封鎖基により封鎖する。
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シリルフェニレン系ポリマー含有中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法
【課題】耐エッチング特性、短波長光に対する反射防止能(短波長光の吸収能)、低温硬化性を改善した中間層形成用組成物を提供する。
【解決手段】中間層形成用組成物を、
下記一般式(1)
(式中、R1、R2の少なくとも一方が架橋性基であり、mおよびnはそれぞれ0〜20の整数であり、lは繰り返し単位数を表す整数である。)で表される繰り返し単位を有するシリルフェニレン系ポリマー(A)と、溶剤(C)と、を含有させて構成する。
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ポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、および絶縁膜
本発明のポリマーの製造方法は、1種以上の(A)ポリカルボシランの存在下、(B)加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記(A)ポリカルボシランのうち少なくとも1種が、以下のポリカルボシラン(I)である。
(I)下記一般式(1)で表される化合物をアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下に反応させて得られる、重量平均分子量500以上のポリカルボシラン(I):
R1mY3−mSiCR2nX3−n ・・・・・(1)
(式中、R1,R2は同一または異なり、それぞれ1価の有機基または水素原子を示し、Xはハロゲン原子を示し、Yはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、kは0〜3の整数を示し、mおよびnは同一または異なり、0〜2の整数を示す。)
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