Fターム[4J246GB16]の内容
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Fターム[4J246GB16]に分類される特許
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含ケイ素粒子、その製造方法、オイル組成物、セラミック、およびその製造方法
【課題】界面活性剤等を使用することなく、簡単なプロセスで、粒径の極めて小さい含ケイ素粒子を製造する方法、粒径がコントロールさあれ、オイルに対する分散性が優れ、焼成によるセラミック化収率の高い含ケイ素粒子を提供する。
【解決手段】分子中に、ケイ素原子50個あたり1個以上の反応性官能基を有する含ケイ素化合物を含む硬化性組成物と、該組成物の硬化反応に関与しないオイルとを少なくとも含む均一相中で、前記組成物を硬化反応することにより、前記オイルからの相分離が誘起され含ケイ素粒子を形成することを特徴とする含ケイ素粒子の製造方法、その方法により得られる含ケイ素粒子。
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ケイ素−ホウ素−炭素−窒素セラミック及び前駆物質化合物、RnHal3−nSi−X−BRmHal2−mの塩フリー重合方法
本発明は、構造的特徴Si−N−Bを有するボロシリルアミン、及び構造的特徴Si−X−Bを有するボロシリル炭化水素[ここでXは、メチレン基又は炭化水素鎖CxHy又は環状の炭化水素単位であることができる]を、それらとジシラザンR3Si−NR−SiR3との反応により塩フリーで重合する新規方法に関する。 (もっと読む)
絶縁膜形成用組成物、半導体装置用絶縁膜、その製造方法および半導体装置
【課題】低誘電率で、かつ、優れた耐ストレス性と優れた耐クラック性とを有する半導体装置用絶縁膜を得ることができる絶縁膜形成用組成物、その絶縁膜形成用組成物から得られる半導体装置用絶縁膜および、その半導体装置用絶縁膜を利用して得られる高品質で信頼性の高い半導体装置を歩留まりよく提供する。
【解決手段】 本絶縁膜形成用組成物は、実質的に炭素とケイ素と水素とのみからなる鎖部分を主鎖とし、かつ、主鎖以外の部分に窒素を含有するポリマーを含んでなる。ポリマー中に、窒素が、式1で表される構造要素として存在することが好ましい。
【化17】
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シロキサン星形グラフトポリマー、それによりコーティングされたセラミック粉末、及びコーティングされたセラミック粉末を調製する方法
【課題】フラクタル性が制御されたポリマーによりコーティングされたセラミック粉末を提供すること。
【解決手段】複数のセラミック粒子とそれらの粒子の少なくとも一部を封入しているシロキサン星形グラフトコーティング用ポリマーを含んで成るコーティングされたセラミック粉末であって、前記コーティング用ポリマーが、
Si(w,x,y,z)
(式中、w、x、y及びzはそれぞれ4官能性、3官能性、2官能性及び単官能性モノマー単位のモル%であり、w、x、y及びzはそれぞれ約45〜75、約5〜25、約5〜45及び約5〜10である)
を含んで成る、コーティングされたセラミック粉末。
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