【課題】 腐食雰囲気又は酸化雰囲気のもと熱衝撃を受ける用途での使用及び基材との反応性を有する部材と接した状態で熱衝撃を受ける用途での使用に適した溶射皮膜をより確実に形成可能な溶射用粉末を提供する。
【解決手段】 本発明の溶射用粉末は、イットリウム及びアルミニウムを含む原料粉末を造粒及び焼結して得られるイットリウム−アルミニウム複酸化物造粒−焼結粒子を含有する。造粒−焼結粒子における直径６μｍ以下の細孔の総容積は０．０６〜０．２５ｃｍ^３／ｇである。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマ性、耐ハロゲンガス性に優れたイットリアが、アルミナ基材あるいはアルミニウム基材に設けられたガス噴出孔の全面に渡って強固に施され、ガス噴出孔内部の放電による材料のエッチングを防止してパーティクル発生をなくし、半導体製造の歩留を向上させることができ、かつ安価な拡散プレートおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本ガス拡散プレートは、１個あるいは多数の円形透孔が設けられたアルミナ基材あるいはアルミニウム基材と、円形透孔に焼嵌され、ガス噴出孔が設けられたイットリア製円筒パイプからなる。また、その製造方法。 （もっと読む）

【課題】紫外線の照射なしでも超親水性を長期間に渡って保持し得且つ紫外線によって容易に超親水性を回復し得る特性を有する薄膜及びその形成方法を提供すること。
【解決手段】遷移金属酸化物及び希土類元素酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸化物の粒径が１〜１００μｍの粒子をプラズマ溶射することにより基体上に０.０５〜１ｍｍの厚さの超親水性薄膜を形成するか、又は粒径が１〜１００μｍで酸化処理により遷移金属酸化物及び希土類元素酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸化物となる粒子をプラズマ溶射することにより基体上に０.０５〜１ｍｍの厚さの薄膜を形成し、その薄膜をガスバーナーの炎で酸化処理して超親水性薄膜を形成する。並びに、その形成方法で得られる超親水性薄膜。 （もっと読む）

プラズマ噴射法は、被覆すべき材料が粉末ジェットの形態で金属基材（２）の表面上に噴射される被覆法である。１００００Ｐａ未満の低いプロセス圧力で、粉末ジェットを発散させるプラズマ内に被覆材料が噴射され、プラズマ内で部分的または完全に溶融され、それによって、被覆材料のかなりの部分、すなわち被覆材料の少なくとも５重量％が、蒸気相内に通る程度に十分に高いエンタルピーを有するプラズマを形成する。異方性組織化層が、被覆材料を有する基材に付与される。異方性マイクロ組織を形成する細長い粒子（１０）が、前記異方性組織化層において、基材表面に対して略直角に指向する。材料の少ない遷移領域（１１、１２）が粒子相互間を規定する。
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