【課題】 ガラス基板の熱処理時間を短くすることでガラス収納枚数を低減し、外形の小型化を実現することができるガラス基板処理装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板処理装置１は、加熱室２を備え、加熱室２は、公知の断熱材で作られた断熱壁３で６面が覆われている。加熱室２には、排気ダクト２１が取り付けられている。排気ダクト２１は、加熱室２の天井面に接続されている。加熱室２の内部には、基板載置部材３０と複数のハロゲンヒータ３１が設けられている。ガラス基板３２の加熱は、主としてハロゲンヒータ３１によって行われる。 （もっと読む）

【課題】ワークに設けられた液状材料の被膜から溶媒を除去する際、乾燥ムラを防止（または抑制）することができる溶媒除去装置および溶媒除去方法を提供する。
【解決手段】溶媒除去装置１は、液状材料の被膜３１が設けられたワークを支持するワーク支持手段と、前記ワークを加熱する加熱手段と、ガスを一時的に貯留する貯留室６６と、前記貯留室６６に連通する複数のノズルとを有するガス噴出手段と、前記貯留室６６にガスを供給するガス供給手段７とを備え、前記加熱手段により前記ワークを加熱しつつ、前記複数のノズルからガスを噴出し、前記被膜３１に対してガスを吹き付け、前記被膜３１から溶媒を除去するよう構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】焼成炉内部における温度のばらつきがあったとしても、焼成炉の温度条件を変えることなく、焼成時に被処理体が受ける影響を低減させることができる焼成炉を提供し、この焼成炉による被処理体の焼成方法、並びに太陽電池素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】内側に処理空間１５を有する炉体と、積載面１ａを有するとともに、積載面に被処理体５を積載して処理空間内を所定方向に移動させる搬送手段１と、処理空間内に配置され、被処理体を加熱するヒーター２ａ、２ｂと、を備えた焼成炉であって、積載面は、所定方向と略直交する方向に対して、被処理体を載置可能な載置部を有する複数のセクション８を含むとともに、少なくとも一つのセクションの載置部の高さを、隣接するセクションの載置部の高さと異ならせている。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェハ等の板状被加熱物の面内照度分布を半径方向で均一化し、照度分布がブロードになるまでの距離を短くすることができる熱処理装置を提供することにある。
【解決手段】 ランプ、抵抗ヒータ等の加熱サークル４を同心円状に配置した面状加熱装置１に対し、板状被加熱物５を対向させ且つ回転させるように構成し、板状被加熱物５の回転中心Ｃ２を、相対的に上記面状加熱装置の加熱源サークル群の円弧の中心Ｃ１からずらせ、板状被加熱物５が温度の異なる高低区域を通過する過程で板状被加熱物５の面内温度差が緩和されるように偏心させる。 （もっと読む）