【課題】測定対象物上に薄膜が形成されている場合でも、測定対象物の温度を従来に比べて正確に測定できる温度測定方法を提供する。
【解決手段】光源からの光を、基板上に薄膜が形成された測定対象物の測定ポイントまで伝送する工程と、基板の表面での反射光による第１の干渉波と、基板と薄膜との界面及び薄膜の裏面での反射光による第２の干渉波を測定する工程と、第１の干渉波から第２の干渉波までの光路長を算出する工程と、第２の干渉波の強度に基づいて、薄膜の膜厚を算出する工程と、算出した薄膜の膜厚に基づいて、基板の光路長と算出した光路長との光路差を算出する工程と、算出した光路差に基づいて算出した第１の干渉波から第２の干渉波までの光路長を補正する工程と、補正された光路長から測定ポイントにおける測定対象物の温度を算出する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】無機化合物半導体のキャリア濃度を非破壊で簡易に測定する。
【解決手段】非破壊キャリア濃度測定装置１００は、テラヘルツ光に対する無機化合物半導体の反射率と、キャリア濃度との相関関係を記憶する記憶部１０１と、試料となる無機化合物半導体にテラヘルツ光１０５を照射する光照射部１０３と、照射されたテラヘルツ光１０５に対する無機化合物半導体の反射光１０８を検出する検出部１０９と、照射されたテラヘルツ光１０５と反射光１０８とを対比して無機化合物半導体の反射率の実測値を算出する反射率算出部１１１と、記憶された相関関係を参照し、反射率の実測値に対応する試料のキャリア濃度を読み取る読取部１１３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】エッチングなどの表面処理における膜厚測定において、照明光などの外乱によって受光部の検出精度が損なわれるのを防止する。
【解決手段】表面処理装置１０に膜厚測定設備２０Ｘを付設する。その発光部２１は、所定波長の測定光Ｌ１を被処理物９０に出射し、受光部２２は、被処理物９０からの光を検出し、膜９２の厚さの測定に供する。さらに照明部２３を設け、処理チャンバー１２内を前記所定波長の光を含まない照明光Ｌ３で照明する。受光部２２は、前記所定波長の光に感応する一方、前記照明光Ｌ３の波長の光に感応しない。処理チャンバー１２を画成する仕切りには、前記所定波長の光をカットする入射フィルタ１１ｆを設ける。 （もっと読む）

【課題】 より簡便かつ短時間に酸化膜の膜厚測定を行うことができるようにする。
【解決手段】 膜厚測定方法は、予め準備された金属または合金の酸化膜または薄膜の膜厚とエリプソメトリで測定される位相差Δとの関係から、エリプソメトリで測定される位相差Δのみを用いて金属または合金の酸化膜または薄膜の膜厚を求める。基板処理装置は、予め準備された金属または合金の酸化膜または薄膜の膜厚とエリプソメトリで測定される位相差Δとの関係から、エリプソメトリで測定される位相差Δのみを用いて金属または合金の酸化膜または薄膜の膜厚を求める膜厚測定器を有する。 （もっと読む）

【課題】 ＣＣＤ型の固体撮像素子における、水平ＣＣＤ飽和レベル測定方法を提供する。
【解決手段】 半導体基板と、その表面近傍に形成されたウエルと、ウエルに行列状に形成され、信号電荷を蓄積する複数の電荷蓄積領域と、その列に沿って形成され、電荷蓄積領域から読み出された信号電荷を列方向に転送する垂直ＣＣＤと、その端部に結合され、垂直ＣＣＤから転送された信号電荷を行方向に転送する水平ＣＣＤと、その出力端に接続された電荷検出回路とを有する固体撮像素子の水平ＣＣＤ飽和レベル測定方法であって、（ａ）ウエルの電位を第１電位として電荷蓄積領域に光を入射させ、蓄積された第１画像信号を示す信号電荷を垂直ＣＣＤに読み出す工程と、（ｂ）第１画像信号を示す信号電荷を垂直ＣＣＤから電荷蓄積領域の複数分を加算して水平ＣＣＤに転送する工程と、（ｃ）第１画像信号を示す信号電荷のオーバフローを、第２画像信号を示す信号電荷として検出する工程とを有する水平ＣＣＤ飽和レベル測定方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】任意の色の光を照射することのできる光照射装置及びこれを備えた受光素子検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】光源からの光を色分解光学系で、第１色光、第２色光、第３色光に色分解する。色分解された各色光は、第１色光、第２色光、第３色光の光路にそれぞれ配置されたＮＤフィルターによって減光される。ＮＤフィルターを透過した各色光は、光量測定装置によって各色の光強度を測定し、所定の光強度になっているかどうか測定を行う。所定の光強度に調整された各色光は、第１色光、第２色光、第３色光を色合成する色合成光学系によって色合成され任意の色になり、受光素子に照射される。 （もっと読む）

【課題】変調光に対する撮像素子の応答を検査することのできる撮像素子検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】光源から射出された光は可変カラーフィルタ、色温度フィルタ、ＮＤフィルタを通過して所定の色、強度の光に調整される。所定の色、強度に調整された光は、投射レンズにより撮像素子に照射され、撮像素子の性能が検査される。
光源は、撮像素子の１フィールドまたは１フレームのスキャンに同期した信号で制御され、１フィールドまたは１フレーム内で、所定時間光源が点灯する。 （もっと読む）

【課題】 光照射面における照明の均一性と入射光束の開口数と色温度とを一定に保ちつつ照明光量を調整可能な照明光学装置を提供する。
【解決手段】 光源１１と、光源と光照射面１０ａとの間に配置され、光源側から順にコレクタレンズ１２とアフォーカル系１３とフライアイレンズ１４とコンデンサレンズ１５とを含み、光照射面をテレセントリック照明する光学系と、アフォーカル系の中に配置された径可変な絞り部材１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板の裏面反射による影響を取り除いて薄膜の偏光解析を行うことを可能にするとともに、測定点内に含まれる微細な構造を測定することを可能にする。
【解決手段】 入射光路中に光を通すスリットを設けることによって、サンプルに当る光の形状と大きさを制約し測定のための基線とすることを原理とする偏光解析装置。
スリットはサンプルの表面に近接して表面に平行に配置するか、入射光の光路に直交するよう配置する。スリットの幅またはエリアセンサーの読み出し範囲はサンプルの基板の裏面反射が影響しない範囲に設定する。
その共通の開口部より光をサンプルに照射するようにした２枚のスリットの相対位置を微小にずらすことによってサンプルに当る光の形状、大きさを変えながら測定を繰り返し、その逐次の測定データの差分を計算することによって微細な測定が可能になるようにした。 （もっと読む）