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Fターム[4M113AD56]の内容

超電導デバイスとその製造方法 (1,906) | 超電導回路 (453) | 回路構造 (353) | 配線パターン (39) | 多層配線 (5)

Fターム[4M113AD56]に分類される特許

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ELR材料からなる極めて低い抵抗(「ELR」)フィルムの動作特性は、ELRフィルムの適切な表面上に変性材料を堆積して、変性ELRフィルムを生成することによって改善することができる。本発明のいくつかの実施態様では、ELRフィルムは、「c−フィルム」の形をとることができる。そのような動作特性は、高温でのELR状態での動作、追加の電荷の保持、改善された磁気的性質による動作、改善された機械的性質による動作、またはその他の改善された動作特性を含むことができる。本発明のいくつかの実施態様では、ELR材料は、YBCOなどであるがこれに限定されない混合原子価酸化銅ペロブスカイトである。本発明のいくつかの実施態様では、変性材料は、クロムなどであるがこれに限定することのない、酸素に容易に結合する伝導性材料である。
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【課題】磁束揺らぎに対して敏感な超伝導回路に使用される超伝導配線では、磁束雑音を抑制することが必要であり、超伝導磁気センサの測定雑音限界の改善や超伝導量子ビット回路における磁束雑音を抑制し、超伝導量子ビット回路の量子コヒーレンス向上に寄与する超伝導配線、磁束雑音の抑制方法、磁束センサ及び超伝導量子ビット回路を提供する。
【解決手段】超伝導配線の超伝導体層101の上下表面及び端面を磁気秩序層として機能する反強磁性絶縁体層102または強磁性絶縁体層で被覆した。 (もっと読む)


【課題】 超伝導配線表面における欠陥準位を多数含む表面酸化膜の形成を抑制することで、高周波損失が少なく、電荷雑音および磁気雑音の少ない超伝導配線を提供する。
【解決手段】 超伝導配線層を表面が酸化されない金属からなる常伝導金属層で被覆する。超伝導層と常伝導金属層の界面には酸化膜等電子の伝導を妨げるものがない清浄界面とし、常伝導金属層は超伝導近接効果により超伝導体中のクーパー対が常伝導金属中へ滲みだす特徴的な長さスケールであるコヒーレント長よりも十分薄くする。 (もっと読む)


【課題】超電導体薄膜を多層にしてもジョセフソン接合が劣化しない超電導素子とその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基板2と、基板2の上に形成された第1超電導体パターン3aと、第1超電導体パターン3a上に形成された絶縁パターン5aと、下面若しくは膜中にジョセフソン接合のバリア層8bが形成されたと共に、絶縁パターン5a上において回路要素を構成し、且つ多層の超電導体パターンの中で最上層に形成された第2超電導体パターン8aとを有する超電導素子による。 (もっと読む)


【課題】 大部分の製造工程に高温プロセスを採用することができ、また、メモリセルの小型化が可能であり、さらに、直流のバイアス電流供給線路に効率的にインダクタンスを形成でき且つこのバイアス電流による磁場の影響を受けない、超高速で、大規模な、超伝導ランダムアクセスメモリのデバイス構造を提供する。
【解決手段】 最上層の超伝導グランド層である第1の超伝導グランド層(M7)上に、ジョセフソン接合(JJ)を含んだ超伝導ループと、複数層の超伝導配線層(M8〜M11)と、第1の抵抗層(RES1)とを有している。第1の超伝導グランド層(M7)下に、複数の超伝導配線層(M2、M4、M6)と、複数の超伝導グランド層(M1、M3、M5)と、第2の抵抗層(RES2)とを有している。 (もっと読む)


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