【課題】プローブの位置決めを、比較的広いレンジにおいて、精度良く行うことができる装置を提供する。
【解決手段】プローブ１及び２は、試料２０の近傍に配置される。電子銃３は、試料２０の近傍のＸ−Ｙ平面において、電子ビームを走査させる。プローブ用吸収電流測定部４及び５は、電子ビームの走査に伴ってプローブ１及び２に生じる吸収電流を測定する。プローブにおける吸収電流を測定した時点での電子ビームの照射位置の情報を用いて、プローブの位置を特定することができる。電子ビームの走査によりＳＥＭ画像を取得していれば、ＳＥＭ画像中におけるプローブを特定することも可能である。 （もっと読む）

【課題】加速電圧を下げたＳＴＥＭ観察での電子ビームの試料透過能力の低下やイオンビームの照射により生じるダメージ層の悪影響を防ぎ、試料の所望の領域への損傷を最小限にしてダメージ層を効果的に除去すること、および薄膜試料の厚さがより薄くなっても最適な加工終了時点を検出して加工失敗を防ぐ。
【解決手段】仕上げ加工に使用するイオンビームのエネルギーを低くすると共に、試料への入射角度を試料形状に合わせて最適化し、ＳＴＥＭ像の着目する要素の変化をモニタして加工の終了時点を検出する。 （もっと読む）

【課題】 １つの装置でウエーハと微小サンプルの両方を扱えるようにし、一連のウエーハ、微小サンプルの加工、高解像度の分析等の処理を簡単にする。
【解決手段】 イオンビーム３は収束、走査偏向され、微小サンプル５上の所望の微小領域に照射される。照射された部分はスパッタ、除去される。このエッチング加工処理により、サンプルに穴あけ加工、切断加工、薄膜化加工を行うことができる。電子ビーム４は収束、走査偏向され、微小サンプル５の上の所望の微小領域に照射される。微小サンプル用ホルダ７に保持・搭載された微小サンプル５に照射するイオンビームや電子ビームは、ウエーハ６やウエーハホルダ９上に搭載した微小サンプル１０に照射する場合よりも、対物レンズとサンプルとの距離であるワーキングディスタンス（ＷＤ）を短くできるため、より細く収束することができる。従って、加工、観察、分析をより高解像度に行うことができるという利点がある。 （もっと読む）

【課題】所望の観察倍率を選択するだけで、低倍率の明視野像では電子線の回折に基づく高コントラストな画像を観察することができ，高倍率の明視野像では電子線の干渉に基づく結晶格子縞が観察できる走査透過電子顕微鏡装置を提供する。これにより装置の操作性の向上、並びに観察や解析に費やす時間の短縮を可能にする。
【解決手段】１段目走査コイル８と２段目走査コイル９による偏向により走査透過像の像倍率を決定し，１段目収束レンズ３，２段目収束レンズ４及び前磁場対物レンズ５を該像倍率とリンクして制御し，収束絞り７を固定したまま低倍率像観察時の電子線プローブの収束角度１６が高倍率像観察時の電子線プローブの収束角度１７より小さくなるように制御し，かつ電子線の加速電圧と観察する結晶の面間隔で決定される回折角度に対し，収束角度１６は該回折角度より小さく，収束角度１７は該回折角度より大きくなるようにする。 （もっと読む）

【課題】 試料上での微少領域を荷電粒子ビームで走査する際に、荷電粒子ビームの走査幅の校正を正確に行うこと。
【解決手段】 試料室内に配置された試料１５上に荷電粒子ビーム１を走査し、これにより試料表面のビーム走査像を取得するとともに、試料室内に設けられたプロービング機構２３のプローブ７を試料１５上で走査し、これにより試料表面のプローブ走査像を取得する顕微装置における荷電粒子ビームの走査幅校正方法において、プローブ７の走査移動量をビーム走査像に基づいて検出し、また当該プローブの走査移動量をプローブ走査像に基づいて検出し、検出された双方の走査移動量を比較し、その比較結果に基づいて荷電粒子ビームの走査幅の校正を行う。 （もっと読む）

【課題】異なる倍率レンジを有する複数の撮像装置を使用する試料表示装置において、各撮像装置間の位置合わせ作業を容易に行えるようにする。
【解決手段】試料表示装置は、表示可能な倍率範囲の異なる複数の撮像部を備える試料表示装置であって、観察対象の画像を所定の倍率範囲で撮像可能な第１撮像部と、同一の観察対象について、第１撮像部と異なる倍率範囲で撮像可能な第２撮像部と、第１撮像部又は第２撮像部で撮像した観察画像を表示するための表示部と、表示部に表示される第１撮像部で撮像した第１基準画像に基づき、第１撮像部で撮像される観察画像と第２撮像部で撮像される観察画像の位置合わせを行うために、少なくとも一方の観察画像に対して座標位置及び／又は大きさを調整する補正部９０と、補正部９０による位置合わせ作業の手順及び／又は補正項目の説明を表示する手順説明部７８とを備える。 （もっと読む）

荷電粒子により試料を調査及び／又は改変する装置、特には走査電子顕微鏡が提供される。この装置は、荷電粒子のビーム（１，２）と、該荷電粒子のビームが通過する開口（３０）を持つ遮蔽エレメント（１０）とを有し、該開口（３０）は充分に小さく、上記遮蔽エレメント（１０）は上記試料の表面（２０）に対して十分に接近して配置されて、上記荷電粒子のビームに対する該表面における電荷蓄積効果の影響を減少させる。 （もっと読む）