【課題】 蛍光体のチャージ荷電を減少させ、そして、容易に精度良くスペーサを配設でき、さらに、観視側に出射する色光の色純度を向上させて良好な画質を表示可能とする。
【解決手段】 電子を放出する多数の冷陰極素子１９が絶縁性基板１０上に形成された背面基板１と、背面基板１に対向して配置された透光性基板１１０上に冷陰極素子１９からの電子線によって励起され発光する蛍光体１１１が形成された表示基板１０１と、枠部材１１６とを備える。透光性基板１１０上に、蛍光体１１１を内在して発光領域を形成する微細孔１２２をマトリクス状に多数設けた金属シート１２０を配置される。そして、該微細孔の透光性基板と蛍光体との間に蛍光体の所定の発光色を透過するカラーフィルタを設ける。 （もっと読む）

【課題】 メタルバック膜間の面放電を抑制しつつ、生産性が高く、低コストかつ高品質である画像表示装置の製造方法及びそれにより製造された画像表示装置を提供する。
【解決手段】 多数の電子放出素子が配列された背面基板２と対向配置される前面基板上に遮光層２２ｂをパターン形成する工程と、前記遮光層が存在しない部分に、複数の蛍光体層６ａを互いに間隔をあけて不連続にパターン形成する工程と、前記蛍光体層の上面にアノード電極機能を有するメタルバック層７を成膜する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 環境負荷が小さく、薄層で高遮光性を有し、かつ観察者側から見た時に反射率の低いＦＥＤとこのＦＥＤに用いられる遮光膜付基板を提供すること。
【解決手段】 基板と、該基板の少なくとも一方の側の、少なくとも一部に遮光膜を有す、フィールドエミッションディスプレイ用遮光膜付基板であって、該遮光膜が、金属微粒子を含有する樹脂層を含み、該遮光膜の５５５ｎｍにおける厚さ１μｍあたりの光学濃度（ＯＤ）が３から２０であるフィールドエミッションディスプレイ用遮光膜付基板とこの基板を用いたフィールドエミッションディスプレイ （もっと読む）

【課題】電子源側と蛍光面側との間で放電が生じても、放電電流のピーク値を抑止でき、しかも生産性の高い画像表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】この発明のＦＥＤ１において、蛍光面３１の蛍光体層３２，３３，３４を区画する遮光壁３５は、メタルバック層向け金属層３６およびゲッタ層向け金属層３７を、少なくとも電気抵抗が所定の大きさよりも大きくなるような非連続領域を提供可能な凹凸を、蛍光面を支持するガラス基材３０と接していない側の端部に有する。遮光層の高さすなわち厚さは、第２基板の面方向の少なくとも一部の領域において、蛍光体領域の厚さと金属層の厚さとガス吸着材層の厚さの合計の厚さと等しいか第２基板の高さに対して所定の高さに規定される。 （もっと読む）

【課題】 蛍光体層の帯電を防止でき、蛍光体層の発光強度を増大させるとともに、コントラストを向上させる。
【解決手段】 光透過性のフェースプレート２の内面に形成された蛍光体層８と、フェースプレート２の内面に蛍光体層８を各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂに区画して形成されたブラックマトリクス膜６と、蛍光体層８に対向して配置され、且つ蛍光体層８に電子線１３を出射する電子線源１２と、フェースプレート２の画像表示側から見たブラックマトリクス膜６の面積占有率を６０％乃至９５％の範囲に設定することにより、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂとブラックマトリクス膜６との接触面積を増大させることで、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂの電子線１３の照射に起因する帯電が抑制される。また、好ましくは、ブラックマトリクス膜６の表面に金属層７を積層させることにより、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂと金属層７との接触面積をより増大させることで、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂの電子線１３の照射に起因する帯電がさらに抑制される。 （もっと読む）

【課題】 カラー陰極線管において、パネルガラス内面に型抜きのために形成されているステップルの凹凸、即ち内面粗度に起因して生じている蛍光面の輝度ムラを解消させること。
【解決手段】 パネルガラスの内面に蛍光面を構成するカーボンストライプと蛍光体とを塗布したカラー陰極線管であって、前記パネルガラスの内面粗度をカーボンストライブ幅の０．０３〜０．００６倍に形成した構成としたことにより、ストライプパターンの露光工程のために塗布した感光剤の膜厚が全体的にそれ程大きく変化しないので、ストライプパターンのエッジ部に大きなうねりが生じないようになり、カーボンストライプを予定した幅でスッキリと形成でき、従来例のような黒ムラが解消されるので輝度ムラの生じないカラー陰極管になる。 （もっと読む）