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Fターム[5C127DD84]の内容

Fターム[5C127DD84]に分類される特許

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【課題】この発明は、電子の放出効率が高い電子放出素子、この電子放出素子を複数整列配置した電子放出装置、この電子放出装置に画像表示部を組み合わせた表示装置、および上記電子放出素子の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】電子放出素子16は、基板上に互いに離間して形成した一対の素子電極40、40、および一対の素子電極をつなぐように形成された導電膜44を有する。導電膜44は、素子電極40よりアノード電極に向けて突出した凸面42を介して、一対の素子電極40、40をつなぐように形成され、凸面42の中央に電子放出部32を有する。凸面42の幅をある値より狭くすることで、電子放出部32を飛び越えた電子が導電膜44上でスキャッタリングする際に、電子が着地する領域を狭くし、電子の放出効率を向上させる。 (もっと読む)


【課題】 電子放出特性のばらつきを抑制するために、「活性化工程」中において間隙7に実効的に印加される実効電圧V’を所望の値になるように制御する。
【解決手段】 「活性化工程」において、第1の導電膜と第2の導電膜との間に第1設定電圧加えた時の電流値と第2設定電圧を加えた時の電流値から求めたβeffectが所望の値になるように、電源51から出力する電圧の制御を行いながら、第1導電膜4aと第2導電膜4bとの間に、繰り返し電圧を印加する。 (もっと読む)


【課題】 表面伝導型の電子放出素子を用いてなる電子源において、高抵抗膜を用いて素子部の帯電防止を図ると同時に、該高抵抗膜の存在により発生するリーク電流を防止する。
【解決手段】 導電性膜4を形成後、該導電性膜4とその周囲を除く領域に高抵抗膜7を形成し、フォーミング処理を施して導電性膜4に亀裂5を形成した後、炭素化合物含有雰囲気下において素子電極2,3間に電圧を印加することにより、亀裂5内及び亀裂5の端部から高抵抗膜7に渡るカーボン膜6を堆積させる。 (もっと読む)


【課題】 電子放出素子のリーク電流を低減し、また、電子放出素子を連続して駆動した時のリーク電流の増加を抑制する。更に、消費電力の低減および駆動回路のコストを低減する。
【解決手段】 絶縁体1の表面上において互いに対向するように配置された、一対の導電性膜を有する電子放出素子であって、前記絶縁体1が、ハロゲンを含む酸化シリコンであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 良好な電子放出特性を備える電子放出素子の簡便な方法を提供する。
【解決手段】 金属をその表面に有する電子放出体を具備する電子放出素子の製造方法であって、電子放出体を備える基体を用意する工程と、前記電子放出体を、酸素含有ガスと金属含有ガスとに交互に曝す工程と、を有する。 (もっと読む)


基板上にナノ構造材料のパターニングされたコーティングを成膜する方法は、(1)前記ナノ構造材料を含む溶液又は懸濁液を形成する工程;(2)前記基板の少なくとも1つの表面の一部にマスクを形成する工程;(3)前記溶液中に電極を浸す工程であって、その上に前記電極の1つとして機能する前記ナノ構造材料が成膜されるか又は少なくとも前記電極の1つに電気的に接続される工程;(4)前記2つの電極の間に所定の期間の間、直流電流電界及び/又は交流電流電界を印加し、それによって前記溶液中のナノ構造材料を前記基板電極に向けて移動させて付着させる工程;(5)その後の随意的な処理を行う工程、を含む。
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