電界放射デバイスの形成方法、及び得られた、ファイバーセグメントによって形成されたエミッタを有するデバイス。相当小さな半径を有するチップは、チップを反応液にある期間さらすことによってファイバーセグメント上に形成される。チップは、低い仕事関数を有する伝導性材料でコーティングされてエミッタを形成する。
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ナノ構造炭素材料を容易にかつ様々な基材上に形成し得る製造方法を提供する。前記製造方法として、導電層が形成された基材上にリソグラフィによりナノ構造炭素材料をパターニングするパターニング工程を有する電子放出源の製造方法であって、前記パターニング工程は前記導電層上にナノ構造炭素材料を形成するナノ構造炭素材料形成工程を含み、このナノ構造炭素材料形成工程が、大気圧または大気圧近傍の圧力下で高周波電圧を対向する電極間に印加して放電プラズマを発生させる大気圧プラズマ法により行われることを特徴とする電子放出源の製造方法である。 （もっと読む）

基板上にナノ構造材料のパターニングされたコーティングを成膜する方法は、（１）前記ナノ構造材料を含む溶液又は懸濁液を形成する工程；（２）前記基板の少なくとも１つの表面の一部にマスクを形成する工程；（３）前記溶液中に電極を浸す工程であって、その上に前記電極の１つとして機能する前記ナノ構造材料が成膜されるか又は少なくとも前記電極の１つに電気的に接続される工程；（４）前記２つの電極の間に所定の期間の間、直流電流電界及び／又は交流電流電界を印加し、それによって前記溶液中のナノ構造材料を前記基板電極に向けて移動させて付着させる工程；（５）その後の随意的な処理を行う工程、を含む。
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本発明に係る電子放出性織布は、極めて簡単に製造することが可能であり、大面積に容易形成することができると共に、表示装置をはじめ各種用途に利用可能である電子放出源の提供することを目的としている。 本発明の電子放出性織布は、導電性層１を絶縁層２で被覆した第１の線状体３と、導電性材料からなる第２の線状体４とを交差させてなることを特徴としている。 及び、本発明の電子放出性織布は、第１の線状体の浮部及び／又は沈部における、第２の線状体の第１の線状体との交差部表面に、カーボン系材料が設けられていることを特徴としている。 （もっと読む）