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Fターム[5E049AC08]の内容

磁性薄膜 (4,742) | 磁性材料(構造・その他) (348) | 不特定の磁性材料 (3)

Fターム[5E049AC08]に分類される特許

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【課題】書き換え回数が十分に維持され、高速で再現性良く記録・再生が可能な透明磁性膜とその再生方法、透明磁性膜の製造方法及び磁化パターンを提供する。
【解決手段】支持体上に、分散剤で覆われたチタニアナノシート(透明且つ印加磁界により支持体面に対し垂直方向に磁気異方性を発現可能なもの)と水溶性高分子を含む分散液を塗工法又は印刷法により連続膜形状又はパターン膜形状で設け磁界を印加(、磁力線方向が支持体に平行)しながら乾燥してチタニアナノシート積層膜を形成(例えば、波長依存性を有する複数のナノシートを分割配置又は厚さ方向積層して形成)して透明磁性膜とする。透明磁性膜に情報を磁化パターンとして磁気又は/及び光により記録・再生する。 (もっと読む)


【課題】高周波領域での透磁率を簡易に向上させることが可能な薄膜磁気デバイスを提供する。
【解決手段】下部磁性膜11および上部磁性膜14の表面または裏面のうちの少なくとも一方側に、コイル13の延在方向(例えば、第2のコイルパターンの延在方向であるY軸方向)に沿って延在するキズ状溝16,17を形成する。キズ状溝16,17の形成領域(下部磁性膜11B,11Dおよび上部磁性膜14B,14Dの形成領域)において、異方性磁化Mb,Mdの磁化方向が制御され、異方性磁化Mb,Mdの磁化方向の変位(回転)がキズ状溝16,17によってピン止めされる。したがって、高周波領域でもある程度の透磁率が維持される。また、このようなキズ状溝16,17の形成によって、製造工程が複雑化することはない。 (もっと読む)


【課題】裏打層の上部の酸化による中間層及び記録層の結晶配向性の低下を回避でき、従来に比してより一層の高密度記録が可能な磁気記録媒体、その磁気記録媒体の製造方法、及びその磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を提供する。
【解決手段】基板21上に軟磁性体により裏打層22を形成した後、裏打層22の上にTb、Gd、Sm及びY等の希土類金属により酸化防止層23を0.1〜1.0nmの厚さに形成する。この酸化防止層23中の希土類金属が酸化することにより、その下の裏打層22の酸化が防止される。次に、酸化防止層23の上に中間層24を形成し、その上に記録層25を形成する。このようにして形成された磁気記録媒体20は、中間層24及び記録層25の結晶配向の乱れが防止され、データを高密度に記録することができる。 (もっと読む)


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