リソグラフィシステムにおいて、ステージに影響を与える物理的な外乱を最小化しながら、レチクルステージ又はウエハステージにあるいはレチクルステージ又はウエハステージからユーティリティを輸送する技術が記述される。これらの技術は、ステージと物理的に接触することなく、ステージに又はステージからユーティリティを輸送することを含む。また、ユーティリティは、ステージが静止位置にある間に、ステージと物理的に接触することによって輸送される。ステージに又はステージからユーティリティを輸送することに加えて、処理装置、バッファ（記憶媒体）、電気構成要素、及び機械構成要素をステージ内に配置して、輸送されたユーティリティを使用又は制御することができる。
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