【課題】複数枚の基板を棚状に保持する基板保持具において、移載マージンを確保しながら、基板の配列間隔を狭くすること。
【解決手段】基板保持具（ウエハボート３）において、互いに分割可能に合体された第１のボート部１及び第２のボート部２を設ける。第１のボート部１のウエハＷ１の保持部１６ａ〜１６ｃと、第２のボート部２のウエハＷ２の保持部２６ａ〜２６ｃとは、ボート部１上のウエハＷ１とボート部２上のウエハＷ２とが交互に配列されるように、夫々の高さ位置が設定される。第１及び第２のボート部１、２に夫々ウエハＷ１、Ｗ２を移載してから、これらボート部１、２を合体させてウエハボート３を構成するため、ウエハボート３には、第１及び第２のボート部１，２へのウエハＷの移載時の配列間隔よりも狭い配列間隔でウエハＷを搭載することができる。 （もっと読む）

【課題】基板保持具に棚状に積載された複数の基板に対して成膜ガスを供給して成膜処理を行うにあたり、パーティクルの発生や基板と基板保持具との張り付きを抑えることのできる縦型熱処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの各々の収納位置毎に、ウエハＷの周方向に互いに離間した位置において当該ウエハＷの周縁部を下方側から各々支持する複数の主保持部３３ａと、これら主保持部３３ａに対してウエハＷの周方向に離れた位置に設けられ、各々の主保持部３３ａに支持されるウエハＷの周縁部に対して前記傾斜軸方向において下方側から臨む位置に配置された補助保持部３３ｂと、を設けて、このウエハボート１１が１回転する度に、ウエハＷの姿勢が各々の主保持部３３ａで支持される姿勢と主保持部３３ａの少なくとも１つ及び補助保持部３３ｂにより支持される姿勢との間で変わるようにする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ロッドマークと呼ばれているウエハ裏面に発生する傷を抑止し、パーティクルの発生を防止することのできる縦型ボートを提供することである。
【解決手段】 本発明の縦型ウエハボートは、鉛直方向に互いに平行状態に配置された３本以上のウエハ支持棒と、これらの上下端部に配置され、これらを固定する上支持プレート及び下支持プレートを具備する縦型ウエハボートであって、上記ウエハ支持棒には、該ウエハ支持棒長手軸方向に垂直に複数の溝部が形成されており、その溝部によって構成されるウエハ支持腕部は、ウエハ中心部に向かって先細り形状であって、上方に傾斜しており、それら各ウエハ支持椀部の先端部に水平な半円状のウエハ支持面が存在し、前記溝部の奥側に前記傾斜に対し、８７°〜９３°の角度で、溝部背面が存在することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スリップの抑制、ウエハ裏面の傷の抑制、ガスの流れの滞留を抑制できる縦型ウエハボート用ウエハ支持部材を提供する。
【解決手段】縦型ウエハボートの溝部に載置され、ウエハを上面に載置、支持する、リング形状の縦型ウエハボート用ウエハ支持体１であって、前記ウエハ支持体１の上面内周部の角部ｃ及び上面外周部の角部ａが、曲面形状の面取りがなされ、ウエハ支持体の下面外周部の角部ｅが、平面形状の面取りがなされている。 （もっと読む）

【課題】熱処理中に被処理体が反った際に発生するボート接触部への応力集中を緩和し、且つ被処理体の自重応力による影響が最も抑制された表面形状を保ち、被処理体のスリップ等の欠陥の発生ないし誘発を防止する。
【解決手段】高さ方向に所定の間隔で形成された爪部１１を有する複数の支柱１２に、被処理体ｗを搭載する支持板１３を上記爪部１１を介して多段に取付けてなる熱処理用ボート９において、上記支持板１３を環状に形成すると共に支持板１３の上面を中心に向けて傾斜して形成し、その傾斜が大直径の被処理体ｗの自重及び熱処理時の熱膨張に伴う反りに合わせた傾斜とされている。 （もっと読む）

【課題】２枚の半導体基板の裏面同士を重ね合わせて熱処理する際に、２枚の半導体基板の間に隙間を発生させることなく半導体基板を保持することができる熱拡散用ボートを提供する。
【解決手段】２枚の半導体基板の裏面同士を重ね合わせて熱処理する際に該半導体基板を保持するための熱処理用ボート１であって、少なくとも、前記半導体基板を支持するための溝４、７が設けられた複数の支柱３ａ、３ｂ、３ｄと該支柱３ａ、３ｂ、３ｄの両端に連結される側板２とを有し、かつ、前記複数の支柱３ａ、３ｂ、３ｄのうち少なくとも１本の支柱３ｄが、該支柱３ｄに設けられている溝７の位置を他の支柱３ａ、３ｂの溝４の位置に対して移動させる機能を有する熱処理用ボート１。 （もっと読む）

基板保持具を構成する支柱や基板載置部などの影響による基板上の膜厚不均一部分
を無くし、基板の膜厚均一性を向上する。
基板処理装置は、ボート（基板保持具）に保持された複数のウェハ（基板）を処理室に収容し、加熱された処理室に処理ガスを供給して、ウェハを成膜処理する。ボートは、略垂直に設けられた少なくとも３本の支柱１５と、支柱に多段に設けられて複数のウェハを所定の間隔で略水平に載置する複数のウェハ支持部１６（基板載置部）と、支柱１５に設置され、ウェハ支持部１６に支持されるウェハに対して所定の間隔で略水平に設けられる複数のリング状プレート１３とを有する。 （もっと読む）