【課題】 装置の小型化、搬送速度の高速化を実現する。
【解決手段】 第１ハンド部１２４及び第２ハンド部１３４の一方のハンド部が所定の受渡位置Ｐ８にあるときに、他方のハンド部が前記一方のハンド部に干渉することなく受渡位置Ｐ８に対して進行又は待避可能なように、第１ハンド部１２４の一対の第１指部１２５ａ，１２５ｂを所定の中心軸Ａ１に対して左右非対称に構成するとともに、第２ハンド部１３４の一対の第２指部１３５ａ，１３５ｂを所定の中心軸Ａ２に対して左右非対称な形状とした。 （もっと読む）

【課題】物体の位置ずれや落下等の不具合の発生を抑制しつつ処理速度を向上する搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送アームによる物体の保持の有無を例えば吸着圧により検出し、保持無しと検出された場合における前記搬送アームが速度零から所定の移動速度Ｍａｘに到達するまでに要する時間ｔ１が、保持有りと検出された場合における前記搬送アームが速度零から当該所定の移動速度Ｍａｘに到達するまでに要する時間ｔ２よりも短くなるように、該搬送アームの移動を制御する。 （もっと読む）

【課題】測定システムにおける非理想性の作用に対する補償をサポートするために、較正の方法を提供すること。
【解決手段】一実施例による較正の方法は、テーブルを複数の露光位置に移動するステップを含む。各位置で、測定システムの第１の部分が、平面内の２つの直交軸のそれぞれに沿ってテーブルの位置を測定し、マークが基板上に露光される。各マークについて、また、基板の２つの異なる向きについて、測定システムの第２の部分が、マークに対応するテーブルの測定位置を測定する。測定された位置に基づいて、直交軸の双方に沿った位置の関数として、直交軸の１つに沿った測定システムの位置測定誤差の特徴付けが得られる。 （もっと読む）

【課題】 雰囲気温度の変動に伴う反射面の形状変化や可動部の加減速に伴う反射鏡の傾きを有効に防止して計測誤差を小さくする。
【解決手段】 移動可能な試料台５０と、試料台５０の位置又は姿勢を測定する干渉計システムと、試料台５０に固定され干渉計システムから射出された計測光を反射する反射面を備えた反射鏡１００とを有し、反射鏡１００は、干渉計システムから射出された第１計測光を反射する第１反射面１０３と、第１反射面１０３に垂直であり且つ干渉計システムから射出された第２計測光を反射する第２反射面１０４とを備えた第１部材１０１と、第１部材１０１の第１反射面１０３と反対側の面に突出するように第１部材１０１と一体的に設けられ、且つ第２反射面１０４に実質的に平行であり試料台５０に当接固定される取付面１０５を備えた第２部材１０２とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高速化に伴う移動ステージの温度変動によって生じる制御位置精度の悪化を、高精度に補正する位置決めステージ装置を得ることを目的とする。
【解決手段】 定盤４のガイドに沿って所定の方向に往復移動自在である移動ステージ２と、移動ステージ２を駆動させるリニアモーター３と、前記移動ステージ２と一体であるミラー５の反射光に基づいて移動ステージの現在位置を検出するレーザー干渉計６を有し、さらに、移動ステージの駆動の履歴を記憶する記憶手段と、予め求めた補正式と前記記憶手段に記憶させたデータから移動ステージのその時点での補正量を算出する演算手段と、前記レーザー干渉計６の出力及び前記演算手段の出力に基づいて前記リニアモーターの駆動量を制御する制御手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 広視野センサと狭視野センサを切り替えてマークを検出する位置計測装置において、広視野センサと狭視野センサの切り替え頻度を抑えることができる位置計測装置等を提供する。
【解決手段】 第１計測系５１を用いて、マスクＲ上に形成されたパターンＲＡＭを観察し、パターンＲＡＭの位置情報をマスクＲを識別するための識別情報と共に対応付けて記憶する。また、第１計測系５１よりも狭い計測視野を備えた第２計測系５２（５２Ｘ、５２Ｙ）を用いて、パターンＲＡＭを第１計測系５１よりも高倍な計測倍率で観察する。そして、所定マスクＲ上のパターンＲＡＭを第１計測系５１で計測する前に、記憶された情報の中に所定マスクＲに関する識別情報の存在が認識されるとその情報に対応する位置情報に基づいて、第２計測系５２の計測視野とパターンＲＡＭとの位置関係を決定する。
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リフトアセンブリは基板を基板サポートから持ち上げ、かつ該基板を移送することができる。該リフトアセンブリは、該基板サポートの周辺に嵌合するようにサイズ設定されたフープと、該フープ上に搭載された１対のアーチ状フィンとを有しており、各アーチ状フィンは半径方向内側に延びる出っ張りを有する１対の対向端を備えており、各出っ張りは基板を持ち上げるための隆起した突起を有しており、該基板は実質的に該隆起した突起のみに接触して、該１対のフィンが該基板サポートから該基板を持ち上げるのに使用される場合に、該出っ張りとの接触を最小化することができる。該リフトアセンブリおよび他のプロセスチャンバコンポーネントは、（i）炭素および水素と（ii）シリコンおよび酸素の相互リンクネットワークを有するダイアモンド状コーティングを有することができる。該ダイアモンド状コーティングは、約０．３未満の摩擦係数と、少なくとも約８ＧＰａの硬度と、約５×１０^１２原子／ｃｍ^２未満の金属の金属濃度レベルとを有する接触表面を有する。該接触表面は、直接的または間接的に基板に接触する場合に、基板の汚染を削減する。 （もっと読む）

【課題】カセット内のウェハの情報を収集するための画像センサを備える撮像システムを提供すること。
【解決手段】カセット内のウェハが、カセットを開放する必要なくマッピングされる。カセットは、特定のタイプの放射に対して少なくとも部分的に透過性である。放射源が、カセットの透過性または透明な部分を通ってカセット内に方向付けられ、前記放射に対して感受性の高い画像センサが、カセットの内部のウェハから反射された放射を検知する。第２の放射源および第２のカメラが、好ましくは、異なる角度から追加のウェハの画像のために提供される。これらの画像を処理することによって、ウェハの特定の方向おおよびカセットの装填状態を判定することができる。 （もっと読む）

一般的に、第１の態様において、本発明の特徴は、ステージ上のアライメント・マークの箇所を決定するための方法であって、干渉計とミラーとの間の経路に沿って測定ビームを送ることであって、少なくとも干渉計またはミラーがステージ上に載置される、測定ビームを送ること、測定ビームを他のビームと組み合わせて、ステージの箇所についての情報を含む出力ビームを生成すること、出力ビームから、第１の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_１を測定すること、第１の測定軸に実質的に平行な第２の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_２を測定すること、ミラーの表面変化を異なる空間周波数に対して特徴付ける所定の情報から補正項Ψ_３を計算することであって、補正項に対する異なる空間周波数からの寄与を、異なる仕方で重み付けする、補正項Ψ_３を計算すること、第１の測定軸に平行な第３の軸に沿って、アライメント・マークの箇所を、ｘ_１、ｘ_２、および補正項に基づいて決定すること、を含む方法である。
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試料位置合わせ機構（１０）が、複数の軸に沿って動かせる可動ステージ（１２）と、試料取り付けチャック（１４）と結合され、それを支持する板（３５）と、板を可動ステージに結合し、可動ステージと板との間の異なる位置に相隔たり、かつ可動ステージと板との間の距離を変化させるために別々に制御できる、複数の直線変位機構（３６，３８）と、可動ステージおよび板に結合する可撓性部材（２２）と、を含む。可撓性部材は３つの運動軸で応従して動く。直線変位機構の直線変位に対応する可撓性部材は、試料取り付けチャックの直線および回転運動を３つの応従運動軸で可能にする。 （もっと読む）

【課題】 リニア増幅器とＰＷＭ増幅器を効率よく組み合わせた出力電流制御装置、この出力電流制御装置を使用したステージ装置および露光装置を提供すること。
【解決手段】 出力電流に応じてリニア増幅器１０５とＰＷＭ増幅器１０４とを使い分け、出力電流検出器Ｒ５、１０７と比較器１０６とを共通に使用する。 （もっと読む）