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Fターム[5F043CC06]の内容

ウェットエッチング (11,167) | レジスト (158) | フィルム状レジスト (3)

Fターム[5F043CC06]に分類される特許

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【課題】半導体薄膜を基板上に形成した後剥離する方法において、剥離のためのエッチング液の浸透速度が高く、エッチング速度の均一性を高め、短時間で良好な半導体薄膜を得ることができるようにする。
【解決手段】複数の半導体薄膜(20)が基板(11)上にあるときに、複数の半導体薄膜(20)を互いに連結して支持するための、感光性のシート状部分(101)を有する連結支持体(100)を設ける。連結支持体(100)のシート状部分(101)を半導体薄膜(20)の上に設けた後、シート状部分(101)に貫通孔(103)を形成する。貫通孔(103)が、エッチング液を少なくとも基板(11)の面に垂直な方向に通過させる。これにより、複数の半導体薄膜(20)を基板(11)から剥離する。 (もっと読む)


【課題】 結晶系半導体基板のエッチング工程における保護膜の形成と剥離を簡略化し、生産性を向上させることができる表面保護部材を提供する。
【解決手段】 結晶系半導体基板をエッチング液に接触させてエッチングする工程において、結晶系半導体基板をエッチング液から部分的に保護するための表面保護部材であって、該表面保護部材が基材とその上に積層された粘着性樹脂組成物を含み、該粘着性樹脂組成物が、ポリブタジエン骨格及び/又はポリイソプレン骨格を有するウレタン樹脂及びラジカル重合開始剤を含有することを特徴とする表面保護部材。 (もっと読む)


【課題】ウェットエッチング時には良好に保護が可能であり、且つ被保護面からの除去が容易な保護フィルムを提供する。
【解決手段】ウェットエッチング工程において被処理体である基板1の表面の保護に適用できる保護フィルム2であって、例えばデカリンのような有機溶剤に溶解可能な無架橋のポリオレフィンを形成材料として得られ、酸性またはアルカリ性のエッチャントから良好に基板1の表面を保護することを特徴とする保護フィルム2。 (もっと読む)


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