高周波電力供給システムは、高周波電源１の出力端Ａから負荷Ｌ側の回路で発生する異常を検出する異常検出装置３を備える。異常検出装置３は高周波の進行波の電圧値Ｖｆを検出する第１検波部２１と、高周波の反射波の電圧値Ｖｒを検出する第２検波部２２と、進行波電圧値Ｖｆと反射波電圧値Ｖｒとから反射係数の微分値ｄΓ／ｄｔを演算する反射係数演算部２３及び微分演算部２４と、反射係数の微分値ｄΓ／ｄｔに基づいて異常発生の有無を判定する異常判定部２５とで構成される。異常検出装置３から高周波電源１に異常検出信号が出力されると、高周波電源１の電力出力動作は停止させる。
（選択図 図１） （もっと読む）

規格外れの不良ウェハをリアルタイムに検出することができる半導体集積回路装置の製造方法を提供することにある。
異常検知サーバ５は半導体ウェハを処理する半導体製造装置から出力された装置ログデータを装置ログデータ記憶部１０に記憶する。その後、ロットエンド信号受信部１２において、半導体製造装置から出力されるロットエンド信号を受信すると、異常データ検知部１５は、第１検知条件記憶部１３に記憶されている異常検知条件設定ファイル１３ａを参照した後、参照した内容に基づいて装置ログデータ記憶部１０に記憶されている装置ログデータの中に異常データがあるか否かを判定する。そして、異常を検知するとエンジニアＰＣや作業者端末装置に検知結果を出力する。 （もっと読む）

【課題】処理対象ガスに窒素が含まれていてもＰＦＣの分解率が高く、ＮＯ_Ｘの生成量が少なく、大気圧下で使用可能な排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】ＰＦＣガスと窒素ガスとからなる排ガスを処理し、排ガス中のＰＦＣを分解する排ガス処理装置であって、処理対象の排ガスに炭化水素や水素、アンモニアなど水素原子を有する添加ガスを供給する添加ガス供給装置、および添加ガスを含んだ排ガスをプラズマ処理するプラズマチャンバーを有する。添加ガス供給装置をプラズマチャンバーの下流に設け、プラズマ処理後の排ガスに添加ガスを供給するように構成してもよい。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置から排出される流体を安定してかつ応答性よく制御することのできる半導体製造装置における排気流体の制御装置を提供すること。
【解決手段】 半導体製造装置１から排出される流体３が流れる排気流路４を主流路４Ａとバイパス流路４Ｂとに分岐し、主流路４Ａには流量または圧力制御弁７を設け、バイパス流路４Ｂにはパイロット弁８を設けた。 （もっと読む）