【課題】 複数の構成機器を気体バネを用いて支持した場合でも構成機器同士の接触を防止する。
【解決手段】 移動ステージ４０を用いてパターンの像を投影光学系ＰＬにより基板Ｗに露光する。第１気体室３００ａに供給した気体の圧力により投影光学系ＰＬを支持する第１支持装置３００と、第２気体室１８０に供給した気体の圧力により移動ステージ４０を支持する第２支持装置５８と、第１気体室３００ａの排気量と第２気体室１８０の排気量とを異ならせて、投影光学系ＰＬと移動ステージ４０との干渉を防止する排気装置７０、８０と、を備えた。 （もっと読む）