【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出した複数のレーザビームを被露光体４上に一定間隔に並べて集光するｆθレンズ７と、ｆθレンズ７を射出した複数のレーザビームを被露光体４の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子８と、を備え、音響光学素子８は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体４の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子４の光射出側には、複数のレーザビームの０次回折光を遮断する遮光マスク２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】回収口での液体の回収に有利な技術を提供する。
【解決手段】投影光学系を有し、前記投影光学系及び液体を介して基板を露光する露光装置であって、前記投影光学系と前記基板との間に供給された前記液体を回収する複数の回収口と、前記複数の回収口に接続されたチャンバと、前記複数の回収口及び前記チャンバを介して前記液体を吸引するポンプと、を有し、前記複数の回収口は、多角形の各辺の頂点間及び各頂点に離散的に配列され、前記複数の回収口のうち前記各頂点に位置する回収口と前記ポンプとの間の圧力差は、前記複数の回収口のうち前記各辺の頂点間に位置する回収口と前記ポンプとの間の圧力差より小さい、ことを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】密着性の良好な撥液処理層を形成するための液浸露光装置用撥液処理組成物、および撥液処理方法を提供する。
【解決手段】この組成物は、露光ビームを照射し液体を介して基材を露光する液浸露光装置の部材表面を撥液処理するための組成物であり、少なくとも下記一般式（１）で示される有機ケイ素化合物と溶剤とを含有することを特徴とする。式中、Ｒ^１は炭素数１４〜３０の１価の有機基、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の１価の有機基または加水分解性基であり、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４の少なくとも１つは加水分解性基である。
【化１】
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【課題】露光不良の発生を抑制できるクリーニング工具を提供する。
【解決手段】クリーニング工具４０は、光学部材の射出面から射出される露光光で基板を露光する露光装置に搬入され、露光装置の少なくとも一部をクリーニングする。クリーニング工具４０は、異物を捕捉可能な捕捉部４２を有し、捕捉部４２の上面と基板をリリース可能に保持する保持部３１を有する基板ステージ２が対向可能な露光装置の所定部材の下面とが所定ギャップを介して対向するように保持部３１に保持された状態で、所定部材の少なくとも一部をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の露光性能を劣化させることなく、露光装置の構成部材を洗浄して露光を開始することができる露光装置を供給すること
【解決手段】 液浸液を介して基板を露光する露光装置内において、露光装置を構成して液浸液と接触する構成部材を洗浄する洗浄方法であって、洗浄液を用いて構成部材を洗浄し、すすぎ液を用いて洗浄時における洗浄液の液面よりもすすぎ液の液面を高くした状態で洗浄液を洗い流す。 （もっと読む）

【課題】露光液体ＬＱ１と接触する液浸部材６を良好に洗浄できる技術の案出が望まれている。
【解決手段】
露光装置ＥＸは、露光液体ＬＱ１と接触する液浸部材６を備えている。液浸部材６と振動部材Ｃとの間で液浸空間ＬＳを形成した状態で、振動部材Ｃを振動させ、音波を液浸部材６に伝播することで、液浸部材６の洗浄を行う。液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液浸部材６と振動部Ｃとの位置関係もしくは、音波の波長の少なくとも一方を変更する。 （もっと読む）

【課題】露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ２により、マスクの露光パターンが基板１上に投影される。このとき、基板１上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスク３の露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。不一致の場合に、マイクロレンズアレイ２を基板１に平行な方向から傾斜させ、マイクロレンズアレイ２による基板上の露光領域を調整して、マスクの露光パターンを基準パターンに一致させる。 （もっと読む）

【課題】 ワーク基板に生じている歪み変形に極力対応するマスクパターン像を投影可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の露光装置は、ワーク基板１４に投影されるマスクパターン１３’の投影光路に設けられた平行平面板３１と、平行平面板３１の互いに交差する二辺により構成される角部３１Ａと角部３１Ａとの間の中間部を支点とする拘束部材と、平行平面板３１の各角部３１Ａに投影光路の光軸方向に加圧力を加えて拘束部材を支点にして平行平面板３１を歪み変形させる加圧部材とからなる歪み変形形成機構１７を備えている。 （もっと読む）

【課題】部材をクリーニングして露光不良の発生を抑制できるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置のクリーニング方法は、露光の前及び後の少なくとも一方において、露光において基板の周囲の少なくとも一部に位置する所定部材の表面の、露光において露光光が照射されない所定領域に洗浄光を照射することを含む。 （もっと読む）

【課題】 結像光学系に照明光を供給するための照明光学系の照明瞳に形成される瞳輝度分布を結像性能に着目して指標評価する。
【解決手段】 結像光学系に照明光を供給するための照明光学系の照明瞳に形成される瞳輝度分布を評価する方法は、所定の瞳輝度分布に対応した結像光学系の光学伝達関数である第１の光学伝達関数を算出すること（Ｓ１１）と、瞳輝度分布の変調パラメータの微小変化に応じた第１の光学伝達関数の変化をパラメータ毎に求めること（Ｓ１２）と、計測された瞳輝度分布に対応した結像光学系の光学伝達関数である第２の光学伝達関数を算出すること（Ｓ１３）と、第１の光学伝達関数と第２の光学伝達関数との差を、パラメータ毎の変化を用いた関数で近似すること（Ｓ１４）とを含む。 （もっと読む）

【課題】結像中に投影ビーム内へ泡が侵入することを防止するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置の液体閉じ込め構造では、細長い連続的な開口が投影システムの下の空間に液体を供給する出口を形成する。この細長いスリットは、イメージフィールドから泡を偏向させる高いせん断力及び圧力勾配の領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、開口数の高い結像光学系の空間像をも高精度に計測することのできる空間像計測方法、空間像計測装置、及び露光装置を提供する。
【解決手段】本発明を例示する空間像計測装置の一態様は、結像光学系（１０）から射出する結像光束の光路へスリット板を挿入するスリット挿入手段（１４Ａ、１５）と、前記スリット板のスリットで前記結像光束の断面を走査する走査手段（１５）と、前記スリットを透過した前記結像光束の前記走査中における強度変化を検出する検出手段（１４Ｃ）と、前記スリットを透過する際の入射角度による前記結像光束の光量ロスムラを前記走査中に補償する補償手段（１３）とを備える。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の露光領域外のフレアを効率的に計測する。
【解決手段】投影光学系を介して露光される面におけるフレアを計測するフレア計測方法において、投影光学系の露光領域１８Ｗ内の複数の計測点ＭＢ１１〜ＭＢ３３で第１の照度を計測する工程と、露光領域１８Ｗ外の計測領域２０Ａ〜２０Ｄ内の複数の計測点ＭＣ１〜ＭＣ４で第２の照度を計測する工程と、その第２の照度の計測値の平均値をその第１の照度の計測値の平均値で除算して、各計測領域２０Ａ〜２０Ｄ内のフレアを求める工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】プロセス区域内のエアフローおよび圧力波による結像誤差が非常に減少したリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイス２を支持するように構成された支持体１と、基板５を保持するように構成された基板テーブル４と、パターン付き放射ビームを基板５のターゲット部分に投影するように構成された投影システム３と、エアフローおよび／または圧力波のソースとエアフローおよび／または圧力波に敏感な要素との間に配置されたシールドデバイス９とを含む。 （もっと読む）

【課題】環境汚染物からのフォトレジストの汚染を防ぐために、トップバリヤコートを用いてフォトレジストに像形成する方法を提供すること。
【解決手段】約−９〜約１１の範囲のｐＫａを有する少なくとも一種のイオン化可能な基を有するポリマーを含む、深紫外線（ｄｅｅｐ ｕｖ）液浸リソグラフィ用トップコート組成物及び該トップコートを利用して深紫外線フォトレジストを像形成する方法。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】振動ミラーを用いて被検面の面位置を検出する際に、計測値のドリフトを小さくして、計測精度を向上させる。
【解決手段】被検面の面位置情報を検出するＡＦ系９０において、検出光ＤＬを被検面に斜めに投射する投射系９０ａと、その被検面で反射される検出光を受光する受光系９０ｂと、投射系９０ａ内で検出光ＤＬを反射する反射面が形成された可動部と、その可動部を支持する１対の支持部とを有する振動ミラー３８と、振動ミラー３８の支持部が固定される保持部材４８と、振動ミラー３８の可動部を振動させる駆動部４９と、受光系９０ｂで得られる検出信号をその可動部の振動に同期して処理する信号処理系２５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光を射出する射出面を有し、射出面側に液浸空間が形成される光学部材と、射出面との間に液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体に対して親液性の第１領域を含む上面を有する可動部材とを備える。露光装置は、基板の非露光期間において、第１領域と液浸空間の液体とが接触しない非接液状態が第１時間を経過するとき、射出面と第１領域との間に液浸空間を形成して第１領域と液浸空間の液体とが接触する接液状態に変化させる。 （もっと読む）