【課題】複数の露光装置間の露光特性をより高精度に合わせる。
【解決手段】露光装置の露光条件の調整方法は、互いに異なる複数の露光条件のもとで複数のパターンの像の線幅の実測値と計算値との第１の比率を複数回求めるステップ１０６，１１４と、複数の第１の比率に基づいて第２の比率を求めるステップ１２０と、複数のパターンの像の線幅の計算値を第２の比率で補正した値を用いて露光装置の比較対象の露光特性を予測するステップ１２２と、比較対象の露光特性と目標となる露光特性との比較により調整用の条件を求めるステップ１２４と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 露光装置における投影光学系を介してマスク面とプレート面の位置検出をするにあたり、前記投影光学系における非点隔差の影響をできる限り受けない位置で位置検出マークを検出し、精度良くマスク面とプレート面の位置検出をする方法を提供する。
【解決手段】 露光装置（１００）は、物体面（１１）上に形成されたパターンを像（２１）面上に結像させる投影光学系（３０）と、露光波長と異なる波長を有し物体面と像面の相対的な位置ずれ量を前記投影光学系を介して検出する位置検出装置（５０）を備えている。位置検出を投影光学系（３０）で生ずる非点隔差の影響が少ない位置で実施することで、位置検出の精度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】複数枚の個別基板となる領域が形成された基板を露光する際に、短い露光タクトで高精度且つ高解像度の露光を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、光源１１とマスク１２とを透過した露光光が入射され、正立等倍像を基板上に結像させる複数個のマイクロレンズが所定の規則性をもって配置されたマイクロレンズアレイ１３が設けられている。そして、基板２が所定位置に到達したときに、光源１１からパルス的にレーザ光を照射して、基板を順次露光し、基板の露光対象領域の全域が露光された後、マイクロレンズアレイ１３とマスク１２との相対的な位置関係を、マイクロレンズ１３１の行ピッチだけ、列方向に順次切り替えて、次順の露光を行う。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で優れた形状精度を持つミラーを得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】ミラーの製造方法は、熱により膜厚が変化する形状修正層１２を基板１１の上に配置する第１工程と、第１層、第２層、および、前記第１層と前記第２層との間に配置されて前記第１層を構成する材料と前記第２層を構成する材料との反応を防止するバリア層１６を含む反射層１３を前記形状修正層１２の上に配置する第２工程と、前記第２工程の後に、前記形状修正層１２の膜厚分布を変化させることによって前記反射層１３の形状を目標形状に近づける第３工程とを含み、前記第３工程は、前記形状修正層１２を部分的にアニールする処理を含む。 （もっと読む）

【課題】回収口での液体の回収に有利な技術を提供する。
【解決手段】投影光学系を有し、前記投影光学系及び液体を介して基板を露光する露光装置であって、前記投影光学系と前記基板との間に供給された前記液体を回収する複数の回収口と、前記複数の回収口に接続されたチャンバと、前記複数の回収口及び前記チャンバを介して前記液体を吸引するポンプと、を有し、前記複数の回収口は、多角形の各辺の頂点間及び各頂点に離散的に配列され、前記複数の回収口のうち前記各頂点に位置する回収口と前記ポンプとの間の圧力差は、前記複数の回収口のうち前記各辺の頂点間に位置する回収口と前記ポンプとの間の圧力差より小さい、ことを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】マイクロレンズアレイ２はその反転結像位置の６角視野絞り１２の一部を、６角視野絞りの開口面積より大きな円形絞り１８ａに変更する。スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ２により、マスクの露光パターンが基板１上に投影される。このとき、基板１上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスク３の露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。この場合に、円形絞りは６角視野絞りよりも開口面積が広いので、基板上の画像を広範囲に観察できる。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系のフォーカス位置を調整し、基板の平坦度の影響を低減して原版のパターンを基板上に投影する投影光学系を提供する事を目的とする。
【解決手段】 本発明の投影光学系は、原版のパターンの像を基板上に投影する投影光学系であって、投影光学系は、複数の光学透過素子を備えており、複数の光学透過素子の表面形状は、連続的であって、互いに異なる周期を有し、複数の光学透過素子の少なくとも１つを周期方向にシフトさせることでフォーカス調整を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光領域の拡大を容易になし得るようにする。
【解決手段】電気光学結晶材料からなる角柱状の部材の長軸に平行な対向面に夫々電極を設けて形成したスイッチング素子９と、該スイッチング素子９の長軸方向の両端面側に該スイッチング素子９を間にしてクロスニコルに配置された一対の偏光板１２Ａ，１２Ｂとで構成した複数の光スイッチ１１を被露光体６の面に平行な面内に配置して有するパターンジェネレータ３を備え、複数の光スイッチ１１を個別に駆動して一定の明暗模様の露光パターンを生成し、これを被露光体６に照射して露光する露光装置であって、パターンジェネレータ３の光射出面側に各スイッチング素子９の長手中心軸に光軸を合致させて設けられ、スイッチング素子９の光射出端面９ａの像を被露光体６上に縮小投影する複数のマイクロレンズ１７を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ投影露光装置に備わる投影光学系の瞳面内の透過率分布を高精度に計測することのできる技術を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ投影露光装置において、反射光に位相差を与える複数のライン状の位相差パターンＭＰを有する検査用マスクを用いて、ウエハの主面上に位相差パターンＭＰの投影像を形成し、位相差パターンＭＰの一方のエッジ部に対応する投影像光強度の低下量と、位相差パターンＭＰの他方のエッジ部に対応する投影像光強度の低下量とを比較することにより、ＥＵＶ投影露光装置の瞳面内の透過率分布を把握する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系が大型である場合でも、結像性能の変化を抑制した露光装置を提供することができる。
【解決手段】投影光学系５を収容する鏡筒１１の内部に対して給気を実施する給気手段１２と、該給気手段１２を制御することで鏡筒１１の内部温度を調整する温度制御手段１３とを備える露光装置１であって、温度制御手段１３は、露光処理に伴う内部温度の上昇に合わせて、給気温度を上昇させるように給気手段１２を制御する。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の歪曲収差と非点収差とをともに目標範囲内に収めるのに有利な露光装置の提供。
【解決手段】 露光装置は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有し、前記基板の露光を行う。前記投影光学系は、その瞳の前側に第１平行平板を含み、かつ、前記瞳の後側に第２平行平板を含み、前記第１平行平板および前記第２平行平板の互いに対応する点をそれぞれ同方向に移動するように撓ませて得られる２つの形状を第１形状および第２形状とし、かつ、前記第１平行平板および前記第２平行平板の互いに対応する点を反対方向に移動するように撓ませて得られる２つの形状を第３形状および第４形状としたとき、前記第１形状と前記第３形状とを合成した第５形状となるように前記第１平行平板を変形させ、かつ、前記第２形状と前記第４形状とを合成した第６形状となるように前記第２平行平板を変形させて、前記投影光学系の歪曲収差および非点収差を調整する。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイとマスクが所定間隔をおいて固定された露光装置において、マイクロレンズアレイと露光用基板との間のギャップを容易に高精度でマイクロレンズの合焦点位置に調整することができるマイクロレンズ露光装置を提供する。
【解決手段】露光用のレーザ光はマイクロレンズアレイ３のマイクロレンズ３ａによりレジスト膜２上に照射される。顕微鏡１０からの光は、マスク４のＣｒ膜５の孔５ｂを通過し、マイクロレンズ３ｂを透過してレジスト膜２上に照射される。このマイクロレンズ３ｂを透過した光がレジスト膜２上で合焦点か否かを顕微鏡１０で観察することにより、マイクロレンズ３ａによりレジスト膜２に収束される露光光の合焦点を判別できる。 （もっと読む）

【課題】計測用光学系の偏光特性の影響を軽減させて、被検光学系のジョーンズ行列で表される偏光特性を計測する。
【解決手段】投影光学系及び対物光学系よりなる光学系を介して偏光状態の異なる複数の光のストークスパラメータを計測してその光学系の第１のジョーンズ行列を求めるステップ１０６〜１１１と、対物光学系の瞳面を移動するステップ１１２と、その光学系の第２のジョーンズ行列を求めるステップ１１３と、その第１及び第２のジョーンズ行列のリー環表現上での差分情報を用いて投影光学系ＰＬ及び対物光学系１６Ｓの個別のジョーンズ行列を求めるステップ１１５、１１６とを含む。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の像面位置を精度高く計測すること。
【解決手段】基板の露光量をラインパターンのレジスト像が解像する露光量以上になる大きさ、換言すれば、ラインパターンのレジスト像のコントラスト値が所定値以上になる大きさに制御する。また、フォーカス位置を変化させた際にパターン倒れが発生しない大きさ以上の線幅を有するラインパターンを使用してベストフォーカス位置を算出する。これにより、デフォーカスによってパターン倒れが発生することを抑制しつつ、算出されるベストフォーカス位置の露光量依存性を無視することができるので、投影光学系の像面位置を精度高く計測することができる。 （もっと読む）

【課題】使用時の投影光学系の光学特性を計測することができる計測用光学部材、マスク、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】計測用光学部材２３は、計測用パターン４６が形成されるパターン形成領域４４及び該パターン形成領域４４とは異なる位置に配置される非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃを有する複数の計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃを備えている。非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃは、計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ毎に互いに異なる形成条件で形成されている。 （もっと読む）

【課題】コストの低い合成石英ガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】ＶＡＤ法を用いて形成されたガラス微粒子堆積体１を反応容器Ａ１内で焼結して透明ガラス化する合成石英ガラス母材２の製造方法において、反応容器Ａ１内の酸素濃度を１００ppm〜５，０００ppmとし、且つ、焼結工程中または焼結工程前のいずれかにおいて、ガラス微粒子堆積体１にフッ素を添加する。 （もっと読む）

【課題】 マスクレス露光工程で仮想のマスクを用いてレイヤ別にオーバーレイする方法を通してマスクレス積層露光を行うことができる整列方法を提案する。
【解決手段】 マスクレス露光で既存のマスク露光のマスクと同一の役割をする仮想のマスクという概念を導入し、既存のマスク露光の整列マークと同一の役割をする仮想のターゲットマークという概念を導入してレイヤ別にオーバーレイを行うことによって、マスクレス露光でも積層露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】設計パターン寸法に応じた寸法のパターンを基板面内の全面で一様に形成すること。
【解決手段】実施の形態によれば、光学条件補正関数を作成する補正関数作成ステップと、照明パラメータ補正量を算出する補正量算出ステップと、第１の基板を露光する露光ステップと、を含んでいる。補正関数作成ステップでは、第１の基板上への露光処理に用いる露光量以外の照明パラメータを前記第１の基板面内の露光座標に基づいて補正する光学条件補正関数を、第２の基板上に形成したパターンの基板面内寸法分布に基づいて作成する。補正量算出ステップでは、前記光学条件補正関数および前記第１の基板上に設定される各露光ショットの露光座標を用いて、前記照明パラメータの補正量を前記露光ショット毎に少なくとも１つずつ算出する。露光ステップでは、前記照明パラメータの補正量で前記照明パラメータを補正しながら、前記第１の基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】露光装置の特性が劣化するような露光条件においても、生産性を低下させることなく半導体装置を製造できる、半導体装置の製造方法、生産管理装置および生産管理システムを提供する。
【解決手段】露光装置に接続される生産管理システムにおいて、規定された基板処理計画を実行した場合に、露光装置ＰＭ１〜ＰＭｎを光Ｌが継続的に通過することに起因する露光装置ＰＭ１〜ＰＭｎの特性の変化を予測し、該特性の変化が露光処理中に閾値を超える場合に、その時刻を取得する予測部１４と、上記時刻に到達する前に、露光装置ＰＭ１〜ＰＭｎのそれぞれで上記特性が均一化されるように基板処理計画を変更して改めて規定する計画変更部１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被検光学系を通過した光の波面の状態を短い処理時間で高精度に評価する。
【解決手段】物体光の波面の評価方法において、物体光と物体光を相対的にシフトさせて得られる光束との干渉縞の強度分布から物体光のｘ方向及びｙ方向のシアリング波面の位相を求める段階と、確定領域２５Ａ内の画素の位相を定める段階と、確定領域２５Ａに対して積分ルート２７Ａに沿って隣接する画素Ｐ（ｍ−１，ｎ）について、確定領域２５Ａ内で画素Ｐ（ｍ−１，ｎ）に隣接する画素Ｐ（ｍ，ｎ）の位相、及び画素Ｐ（ｍ−１，ｎ），Ｐ（ｍ，ｎ）間の位相差から物体光の位相を求める段階とを有する。 （もっと読む）