【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有し、物体と射出面との間に液体が保持される第１空間を形成する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面の周囲に配置される光学部材の第１面との間で第１空間の液体の少なくとも一部が流入可能な第２空間を形成する第２面を有する液浸部材と、第２空間の圧力変動を抑制するバッファ装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置の制御方法を提供する。
【解決手段】制御方法は、基板の露光時において、供給口から光学部材及び液浸部材と基板との間の第１空間に液体を供給し、液体の少なくとも一部を第１回収口から回収して第１液浸空間を形成することと、第１回収口を介して回収された流体が流れる回収流路に面するように配置された第１排出口及び第１排出口よりも液体の流入が抑制された第２排出口から回収流路の流体を排出することと、基板の非露光時において、光学部材及び液浸部材と物体との間の第２空間に供給口から液体を供給し、第１、第２排出口から第１、第２排出量で流体を排出して第２空間の液体を第１回収口から回収することと、供給口から液体を供給しつつ、第１、第２排出口から第１、第２排出量より低減された第３、第４排出量で流体を排出して、第１液浸空間よりも大きい第２液浸空間を形成することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるクリーニング工具を提供する。
【解決手段】クリーニング工具４０は、光学部材の射出面から射出される露光光で基板を露光する露光装置に搬入され、露光装置の少なくとも一部をクリーニングする。クリーニング工具４０は、異物を捕捉可能な捕捉部４２を有し、捕捉部４２の上面と基板をリリース可能に保持する保持部３１を有する基板ステージ２が対向可能な露光装置の所定部材の下面とが所定ギャップを介して対向するように保持部３１に保持された状態で、所定部材の少なくとも一部をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】光学部材の射出面から射出される露光光で液体を介して基板を露光する露光装置のメンテナンス方法は、脱気処理された第１の液体を介して射出面からの露光光が照射された非晶質フッ素樹脂を含有する膜の表面に、第１の液体よりも所定ガス濃度が高い第２の液体を供給することと、膜の表面に第２の液体を介して紫外光を照射することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】液浸露光における露光不良の発生を抑制する。
【解決手段】第１の態様の液浸部材３は、液浸露光装置において、光学部材８と物体との間の液体ＬＱを通過する露光光の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材３である。第１面、第１面と異なる方向を向く第２面、及び前記第１面と第２面とを結ぶ孔３２を有し、第１面と対向する物体上の液体の少なくとも一部を孔３２から回収可能な第１部材３１と、孔３２を通った液体ＬＱを含む流体Ｆ中の気泡の膨張を抑制する第２部材３４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】過酸化水素を含む溶液で洗浄する際にチタンが溶出しにくい、液浸用液体と接触するチタン含有部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液体を介して基板を露光する際に用いる、前記液体と接するチタン含有部材の製造方法であって、前記チタン含有部材を用意することと、前記チタン含有部材を酸素を含む雰囲気中で加熱して、前記チタン含有部材の表面に酸化チタン膜を形成することを含む。液体を介して基板を露光する際に用いる、前記液体と接するチタン含有部材であって、前記チタン含有部材の表面が人工的に酸化されて形成された酸化チタン膜を備える。 （もっと読む）

【課題】 基板の基板ステージ側の面と基板ステージとの間に液体が残留することを低減する露光装置を実現する。
【解決手段】 液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置において、基板１を移動するステージを有し、ステージは、基板１を保持する保持部２と、保持部２の外周に配置され、基板１と伴に液体を支持する補助部３と、保持部２の外周面と補助部３の内周面との隙間を通った液体を回収口４を介して回収する回収部５とを有し、保持部２の外周面と補助部３の内周面との隙間は、回収口４に向けて小さくなっていることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【解決課題】
消耗部品の交換による運転停止が最小限ですみ、かつ装置構成を小型化可能な液浸露光用超純水の製造方法及び装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
液浸露光装置における投影光学系の最下面とレジスト間の露光光通過空間に供給される液浸露光用の超純水を製造するにあたり、流路に沿って複数の紫外線照射装置を直列配置し、その下流にイオン交換装置を配置して、ＴＯＣ１０ｐｐｂ以下の一次超純水を供給し、紫外線照射装置の一つを使用して液浸露光用の超純水を連続的に製造するとともに使用中の紫外線照射装置の性能を監視する。この紫外線照射装置の性能が所定のレベル以下になったとき、他の紫外線照射装置に切替えて連続運転を続ける。 （もっと読む）

【課題】液体の漏洩や浸入を抑えることのできる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって、基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸは、基板Ｐを保持する基板ホルダ５２を有し、基板ホルダ５２に基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダ５２に基板Ｐもしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージＰＳＴの可動領域を変更する制御装置ＣＯＮＴとを備える。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ投影装置の液浸液内の泡の封入を最小化または防止する流体ハンドリング構造を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置の流体ハンドリング構造である。流体ハンドリング構造は、流体ハンドリング構造の外部領域に液浸流体を備えるように構成された空間の境界に、使用時に基板および／またはテーブルの方に向けられる第１ラインに配置される少なくとも一つの開口を備える抽出器と、使用時に基板および／またはテーブルと対向する表面上にあり、表面上の液滴が合体する可能性を低下させる液体マニピュレータと、を連続的に備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、基板の露光において射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように基板との間に第１液浸空間を形成する液浸部材と、光路に対する放射方向に関して液浸部材の外側に配置され、基板の露光において第１吸引力で気体を吸引し、液浸部材のクリーニングの少なくとも一部において第１吸引力よりも小さい第２吸引力で気体を吸引する吸引口とを備える。 （もっと読む）

【課題】イメージング中に泡が投影ビームに入ることが防止されるリソグラフィ装置を提供することが望まれる。
【解決手段】液浸リソグラフィ投影装置の流体ハンドリング構造体の下側のプレート１２ａが形成するメニスカス固定デバイスは、同心円リングの複数の開口５０を有し、その複数の開口５０を通じて環境から液体および気体が抽出される。複数の開口５０は中間のサイズを有し、約７５μｍから約１５０μｍの範囲の直径を有する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。
【解決手段】液浸部材は、物体に照射される露光光の光路が第１液体で満たされるように、物体との間で第１液体を保持して液浸空間を形成する。液浸部材は、物体上の第１液体の少なくとも一部を回収する回収口と、光路に対して回収口の外側に配置され、第１液体に面するときに第２液体を供給し、第１液体に面しないときに第２液体を供給しない供給口と、回収口から回収される第１液体の少なくとも一部が流れる回収流路と、供給口に供給される第２液体の少なくとも一部が流れる供給流路と、回収流路の少なくとも一部と供給流路とを結ぶ接続流路とを備えている。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置において、液浸フードおよび／または液浸流体の汚染を除去方法を提供する。
【解決手段】剛性支持層および剛性支持層上に設けられた変形可能層を備えるクリーニング基板ＣＷ１を装置内に装填すること、クリーニング基板ＣＷ１の変形可能層２を汚染がそこから除去される装置の表面に接触させること、変形可能層２と汚染がそこから除去される装置の表面との間の相対運動を導入することにより、液浸フード表面から分離した汚染を除去する。 （もっと読む）

【課題】例えば紫外放射および／または浸液からの負の影響に対して適切に保護されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】少なくともその装置の一部分の上にコーティングを付けた取り外しできる粘着性フィルムを有するリソグラフィ装置が開示される。１つの実施形態において、投影システムと基板サポートとの間の空間の境界の少なくとも一部分に沿って延在する液体閉じ込め構造体を有する液体供給システムが開示され、コーティングを付けたフィルムは、この液体閉じ込め構造体の少なくとも一部分の上に存在する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出可能な射出面を有する光学部材と、射出面に対向する第１面上又は第２面上に形成される液浸空間の液体の界面の周囲の少なくとも一部に第１流量で気体を供給し、第１面と第２面との境界上に形成される液浸空間の液体の界面の周囲の少なくとも一部に第１流量よりも少ない第２流量で気体を供給する給気口と、を備え、射出面と基板との間に形成される液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と基板との間を液体で満たして露光処理する場合においても、基板とホルダとの間に液体が浸入することを防止する。
【解決手段】液体１を介して露光される基板Ｐを保持して移動するステージ装置であって、前記基板Ｐを支持する複数の支持部３４と、前記複数の支持部３４の周囲に設けられ、該複数の支持部３４が支持する前記基板Ｐの側面との間にギャップを形成する周囲部材３０と、を備え、前記周囲部材３０は、該周囲部材の側面部に開口する流路６２と、前記ギャップから前記流路６２に向かって傾斜する傾斜面５と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 温度環境の変化や、組み付けの際に発生する歪みに起因するレンズ面の変形を軽減することができ、安定で、収差が小さく、高い解像力を得ることが可能となる光学要素の支持構造、および該支持構造を用いて構成された露光装置等の光学装置と、該装置による半導体デバイス等の製造方法を提供する。
【解決手段】 光学要素を支持する光学要素の支持構造であって、 （もっと読む）

【課題】液浸液中の洗浄液の濃度を確実に規定値以下とすることが可能な液浸露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系１４下端部の鉛直下方に配設可能で、露光対象膜を有する半導体基板を載置し、退避可能な基板ステージ１７、投影光学１４系下端部と露光対象膜との間に液浸液を満たすように供給する液浸液供給部３２及び液浸液を排出する液浸液排出部３６と液浸液排出管３７、基板ステージ１７を置き換えて、投影光学系１４下端部の鉛直下方に配設可能で、供給口から排出口へ流れる洗浄液２５または液浸液を保持し、退避可能な洗浄ステージ１５、洗浄ステージ１５中に、液浸液と接した接触領域を含むように洗浄液２５を供給する洗浄液供給部２１及び洗浄液を排出する洗浄液排出管２８、並びに、液浸液排出管３７に配設され、液浸液中の洗浄液２５の濃度を測定する濃度測定器３０を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸法に基づく露光処理及び計測処理を精度良く行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置（ＥＸ）は、投影光学系（ＰＬ）の像面側に液体（ＬＱ）の液浸領域（ＡＲ２）を形成し、投影光学系（ＰＬ）と液浸領域（ＡＲ２）の液体（ＬＱ）とを介して基板（Ｐ）を露光するものであって、液浸領域（ＡＲ２）を形成するための液体（ＬＱ）の性質及び成分のうち少なくともいずれか一方を計測する計測装置（６０）を備えている。 （もっと読む）