洗浄方法、露光装置及びデバイスの製造方法
【課題】露光液体ＬＱ１と接触する液浸部材６を良好に洗浄できる技術の案出が望まれている。
【解決手段】
露光装置ＥＸは、露光液体ＬＱ１と接触する液浸部材６を備えている。液浸部材６と振動部材Ｃとの間で液浸空間ＬＳを形成した状態で、振動部材Ｃを振動させ、音波を液浸部材６に伝播することで、液浸部材６の洗浄を行う。液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液浸部材６と振動部Ｃとの位置関係もしくは、音波の波長の少なくとも一方を変更する。
【解決手段】
露光装置ＥＸは、露光液体ＬＱ１と接触する液浸部材６を備えている。液浸部材６と振動部材Ｃとの間で液浸空間ＬＳを形成した状態で、振動部材Ｃを振動させ、音波を液浸部材６に伝播することで、液浸部材６の洗浄を行う。液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液浸部材６と振動部Ｃとの位置関係もしくは、音波の波長の少なくとも一方を変更する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄方法、露光装置及びデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス等のマイクロデバイスの製造工程において、露光光で基板を露光する露光装置が使用される。露光装置の部材、部品が汚染されると、例えば基板に形成されるパターンに欠陥が生じる等、露光不良が発生し、その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。そのため、例えば下記特許文献に開示されているような、露光装置内の所定部材を洗浄する技術が案出されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００８／００１８８６７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光不良の発生を抑制するために、所定部材を洗浄することは有効である。そのため、露光装置内の所定部材を良好に洗浄できる技術の案出が望まれる。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる洗浄方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第1の態様に従えば、第１液体を介して基板を露光する露光装置の、第１液体に接触する接液部材の洗浄方法であって、接液部材を、第２液体に接触させることと、振動部を振動させることによって、第２液体中に発生する音波を第２液体中で伝播させ、接液部材の表面の第１点に所定方向から到達させることで、第１点を洗浄することと、振動部を振動させることによって、第２液体中に発生する音波を第２液体中で伝播させ、接液部材の表面の第１点とは異なる第２点に所定方向から到達させることで、第２点を洗浄することと、第１点の洗浄と第２点の洗浄とで、音波の波長と、接液部材と振動部との所定方向の位置関係との少なくとも一方を変更することと、を含む洗浄方法が、提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、第1の態様の洗浄方法で、接液部材を洗浄することと、基板を露光することと、露光した基板を現像することと、を含むデバイスの製造方法が、提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、第１液体を介して基板を露光する露光装置であって、第１液体に接触する接液部材と、振動部と、を備え、接液部材と、第２液体とを接触させた状態で、振動部を振動させることによって、第２液体中に発生する音波を接液部材に伝播し、接液部材の表面に所定方向から到達させることで、接液部材を洗浄する場合に、所定方向からの音波を到達することで、接液部材の表面の第１点を洗浄する時と、所定方向からの音波を到達することで、接液部材の表面の第１点とは異なる第２点を洗浄する時とで、音波の波長と、接液部材と振動部との所定方向の位置関係との少なくとも一方を変更する露光装置が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、第３の態様の露光装置で接液部材を洗浄することと、基板を露光することと、露光した基板を現像することと、を含むデバイスの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１２】
〈第１実施形態〉
図１は、本実施形態における露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、露光液体ＬＱ１を介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が露光液体ＬＱ１で満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間は、液体で満たされた部分（空間、領域）である。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１を介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、露光液体ＬＱ１として、水（純水）を用いる。本実施形態の露光装置ＥＸは、基板Ｐの一部に液浸空間ＬＳを形成し、基板Ｐを露光する局所液浸方式を用いる。
【００１３】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）を保持して移動可能な計測ステージＩと、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が露光液体ＬＱ１で満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材６と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する不図示の制御装置とを備えている。
【００１４】
なお、基板を保持して移動可能な基板ステージ２と、基板を保持せずに、露光光を計測する計測部材（計測器）を保持して移動可能な計測ステージＩとを備えた露光装置の一例が、例えば米国特許第６８９７９６３号明細書、欧州特許出願公開第１７１３１１３号明細書等に開示されており、その内容を援用して本文の記載の一部とする。
【００１５】
ここで、本実施形態では、露光装置ＥＸとしてマスクＭと基板Ｐとを走査方向における互いに異なる向き（逆向き）に同期移動しつつマスクＭに形成されたパターンを基板Ｐに露光する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）を使用する場合を例にして説明する。なお、露光装置ＥＸとしてマスクＭと基板Ｐとの走査方向を同じ向きに同期移動し露光する走査型露光装置でも構わない。以下の説明において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内でマスクＭと基板Ｐとの同期移動方向（走査方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。なお、ここでいう「基板」は半導体ウエハ上にレジストを塗布したものを含み、「マスク」は基板上に縮小投影されるデバイスパターンを形成されたレチクルを含む。
【００１６】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を、均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。なお、レーザ光源から射出される露光光ＥＬを照明領域ＩＲに引き回すための光学系は、例えば、米国特許出願公開第２００９／０３１６１３２号明細書に一例が開示されている。
【００１７】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００１８】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲを含む不図示のベース部材のガイド面上を移動可能である。マスクステージ１は、例えばリニアモータ等を含む駆動システムの作動により、ガイド面上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００１９】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面１１を有する終端光学素子１０を備えている。終端光学素子１０は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。
【００２０】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００２１】
液浸部材６は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子１０の近傍に配置される。本実施形態においては、液浸部材６の少なくとも一部が、終端光学素子１０の周囲に配置されている。液浸部材６により形成される液浸空間ＬＳと、液浸部材６の少なくとも一部とは接触する。
【００２２】
終端光学素子１０の射出面１１と、露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）に対向して配置される物体の間の露光光ＥＬの光路が露光液体ＬＱ１で満たされるように、液浸部材６は液浸空間ＬＳを形成することができる。本実施形態において、投影領域ＰＲに配置可能な物体は、投影光学系ＰＬの像面側（終端光学素子１０の射出面１１側）で投影領域ＰＲに対して移動可能な物体であり、基板ステージ２、基板ステージ２に保持された基板Ｐ、計測ステージＩを含む。
【００２３】
図２に示すように、液浸部材６は、露光液体ＬＱ１を供給する供給部７と、露光液体ＬＱ１を回収する回収部８と、射出面１１から射出される露光光ＥＬが通過する開口６Ｋを備える平坦部材Ｆとを備えている。図２は、本実施形態における液浸部材６の一例を示す図である。なお、液浸部材６として、例えば米国特許出願公開第２００７／０１３２９７６号明細書、欧州特許出願公開第１７６８１７０号明細書に開示されているような液浸部材（ノズル部材）を用いることができる。
【００２４】
供給部７により露光液体ＬＱ１を供給し、供給された露光液体ＬＱ１を回収部８で回収することにより、液浸空間ＬＳを形成する。形成される液浸空間ＬＳと、回収部８の少なくとも一部及び平坦部材Ｆの少なくとも一部とが接触する。本実施形態においては、図２に示すように、終端光学素子１０と回収部８との間に供給部７が配置される。すなわち、回収部８に比べて、供給部７は終端光学素子１０に近い側に配置される。また、回収部８は、平坦部材Ｆを囲んでいる。すなわち、開口６Ｋを通過する露光光ＥＬの光路を囲むように、露光液体ＬＱ１を回収することが可能である。なお、図２においては、終端光学素子１０の射出面１１と、基板Ｐとの間を露光液体ＬＱ１で満たしてしている様子を示している。本実施形態において、液浸部材６の表面には、回収部８の少なくとも一部及び平坦部材Ｆの少なくとも一部が含まれる。
【００２５】
供給部７は、供給口７ａを有する。供給部７は、液体供給装置に接続され、液体供給装置を動作させることで、供給口７ａから露光液体ＬＱ１を供給することができる。供給口７ａから供給された露光液体ＬＱ１は、開口６Ｋを通過する。液浸部材６と物体とが対向して配置される場合に、開口６Ｋ６Ｋを通過した露光液体ＬＱ１により、終端光学素子１０の射出面１１と、物体との間の露光光ＥＬの光路が露光液体ＬＱ１で満たされる。
【００２６】
本実施形態においては、液体供給装置は、露光液体ＬＱ１とは異なる液体（非露光液体ＬＱ２）を供給することが可能である。非露光液体ＬＱ２は、例えば、物質を含む水溶液である。物質を含む水溶液は、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液、コリン水溶液、オゾンを含む水溶液、過酸化水素を含む水溶液である。また、非露光液体ＬＱ２は、水溶液に限られず、例えば、メチルアルコールやイソプロピルアルコールなどのアルコールを含む液体でも構わない。
【００２７】
図３には、本実施形態における回収部８の一例を示している。本実施形態において、回収部８は、投影領域ＰＲの少なくとも一部に配置される物体と対向可能な回収口８ａを有する。回収口８ａには、複数の孔（openingsあるいはpores）を含むプレート状の多孔部材１９が配置されている。なお、回収部８に、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタが配置されてもよい。回収部８の下面８ｂには、多孔部材１９が含まれる。
【００２８】
回収部８は、液体回収装置に接続され、液体回収装置を動作させることで、回収口８ａから液体を回収することができる。供給口７ａから供給される露光液体ＬＱ１は、開口６Ｋを通過し、平坦部材Ｆと対向して配置される物体との間の空間を介して、回収口８ａで回収される。
【００２９】
本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき（露光時）に形成される液浸空間ＬＳの界面（メニスカス、エッジ）の少なくとも一部は、回収部８の下面８ｂと基板Ｐの表面との間に形成される。また、露光時に形成される液浸空間ＬＳの界面は、回収部８の下面８ｂのうち、多孔部材１９に形成される。
【００３０】
図４には、本実施形態における多孔部材１９の一例を示している。本実施形態において、下面８ａには凹凸部Ｏが含まれている。凹凸部Ｏは、多孔部材１９に配置されている。したがって、本実施形態における多孔部材１９の形状は、凹凸を含む。凹凸部Ｏは、凹部Ｂと凸部Ｄとが含まれている。したがって、凹凸部Ｏは、ＸＹ平面において、凹部Ｂと凸部ＤのＺ軸方向の位置が異なる。本実施形態では、Ｚ軸方向に沿って、凸部Ｄと凹部ＢはギャップＧ離れている。ギャップＧの距離は、後述する音波の波長の１/４よりも大きい。
【００３１】
本実施形態における、回収口８ａの位置情報は、制御装置に記憶されている。例えば、投影光学系ＰＬの光軸から多孔部材１９の距離である。また、多孔部材１９の位置情報として、多孔部材１９に配置される凹凸部Ｏの凹部Ｂと凸部ＤのギャップＧの距離に関する情報も記憶されている。したがって、多孔部材１９と対向する物体の所定の場所と投影光学系ＰＬの光軸との距離に基づいて、所定の場所と多孔部材１９との位置関係が算出できる。また、所定の場所と、対向する（例えば、Ｚ軸方向）多孔部材１９の形状の凹凸部Ｏの情報（凹部Ｂと凸部ＤのギャップＧの有無など）が分かる。
【００３２】
基板ステージ２は、基板Ｐを支持するものであって、基板Ｐを脱着可能に保持する基板保持部ＰＨを介して保持するＺステージ２１と、Ｚステージ２１を支持するＸＹステージ２２とを備えている。Ｚステージ２１及びＸＹステージ２２を含む基板ステージ２はステージベースＢに支持されている。基板ステージ２はリニアモータ等の駆動システムにより駆動され、投影領域ＰＲを含むベース部材Ｂの表面Ｂａ上を移動可能である。Ｚステージ２１を駆動することにより、Ｚステージ２１に保持されている基板ＰのＺ軸方向における位置（フォーカス位置）、及びθＸ、θＹ方向における位置が制御される。また、ＸＹステージ２２を駆動することにより、基板ＰのＸＹ方向における位置（投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行な方向の位置）が制御される。すなわち、Ｚステージ２１は、基板Ｐのフォーカス位置及び傾斜角を制御して基板Ｐの表面をオートフォーカス方式、及びオートレベリング方式で投影光学系ＰＬの像面に合わせ込み、ＸＹステージ２２は、基板ＰのＸ軸方向及びＹ軸方向における位置決めを行う。なお、Ｚステージ２１とＸＹステージ２２とを一体的に設けてよいことは言うまでもない。基板保持部ＰＨの周囲には、Ｚステージ２１の表面Ｈが配置される。Ｚステージ２１の表面Ｈは、基板保持部ＰＨに保持された基板Ｐの表面の周囲に配置される。表面Ｈはほぼ平坦であり、基板保持部ＰＨに保持された基板Ｐの表面とほぼ同一平面内（ＸＹ平面内）に配置される。すなわち、Ｚステージの表面Ｈと、基板保持部ＰＨに保持された基板Ｐの表面とは、ほぼ面一である。
【００３３】
計測ステージＩは、振動を発生することが可能な振動部材Ｃと、不図示の計測部材（計測器）とを保持するものであって、振動部材Ｃを保持するＺステージＩ１と、ＺステージＩ１を支持するＸＹステージＩ２とを備えている。ＺステージＩ１及びＸＹステージＩ２を含む計測ステージＩはステージベースＢに支持されている。計測ステージＩは、リニアモータ等の駆動システムにより駆動され、投影領域ＰＲを含むベース部材Ｂの表面Ｂａ上を移動可能である。ＺステージＩ１を駆動することにより、ＺステージＩ１に保持される振動部材ＣのＺ軸方向における位置、及びθＸ、θＹ方向における位置が制御される。また、ＸＹステージＩ２を駆動することにより、振動部材ＣのＸＹ方向における位置（投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行な方向の位置）が制御される。したがって、ＺステージＩ１を駆動することにより、振動部材Ｃと、振動部材Ｃと対向する物体との位置関係を、Ｚ軸方向における位置、及びθＸ、θＹ方向において変更することが可能である。また、ＸＹステージＩ２を駆動することにより、振動部材Ｃと、振動部材Ｃと対向する物体との位置関係を、ＸＹ方向において変更することが可能である。振動部材Ｃと対向する物体とは、例えば、液浸部材６の回収部８の多孔部材１９がある。したがって、振動部材Ｃと多孔部材１９の位置関係から、例えばＺ軸方向に沿う振動部材Ｃと対向する多孔部材１９の形状に関する情報が分かる。さらに、振動部材ＣのＺ軸方向の位置が制御されているので、Ｚ軸方向に沿った振動部材Ｃと多孔部材１９との距離を算出することができる。
【００３４】
なお、ＺステージＩ１とＸＹステージＩ２とを一体的に設けてよいことは言うまでもない。なお、ＺステージＩ１は、振動部材Ｃを脱着可能に保持しても構わない。振動部材Ｃの周囲には、ＺステージＩ１の表面Ｓが配置される。ＺステージＩ１の表面Ｓは、振動部材Ｃの表面Ｃａの周囲に配置される。表面Ｃａはほぼ平坦であり、振動部材Ｃの表面Ｃａとほぼ同一平面内に（ＸＹ平面内）に配置される。すなわち、Ｚステージ２１の表面Ｈと、振動部材Ｃの表面Ｃａとは、ほぼ面一である。
【００３５】
本実施形態において、振動部材Ｃは周波数９５０ＫＨｚの振動を発生することが可能である。振動部材Ｃは、圧電セラミック素子を作動させることにより、振動を発生する。なお、振動部材Ｃは９５０ＫＨｚに限られず、１ＫＨｚ〜２ＭＨｚ程度の振動子を搭載することが可能である。なお、振動部材Ｃは、例えば圧電セラミック素子に限られず、圧電高分子膜、ＺｎＯ薄膜振動子でも構わない。
【００３６】
振動部材Ｃが発生する振動は、液体にて音波として伝播することができる。液体に伝播する音波の波長は、以下の式１で示すことができる。
【００３７】
音波の波長 ＝ 液体中での音波の速度 ／ 振動部材Ｃの周波数 --- 式１
したがって、本実施形態において振動部材Ｃの周波数は、９５０ＫＨｚおよび、音波が電波する液体における音波の速度に基づいて、その音波の波長が定まる。
【００３８】
図５において、液体に伝播する音波の様子を示している。振動部材Ｃにより液体に与えた振動は振幅が生じる。液体には、伝播する音波の方向に沿って振幅の大きい腹部分Ｒが所定の間隔で生じ、各腹部分Ｒの間には節部分Ｆが生じる。本実施形態における１波長には、図５に示すように二つの腹と、二つの節が含まれる。すなわち１／２波長は、腹部分Ｒが一つと、節部分Ｆが二つ含まれる。本実施形態において、１／４波長には、腹部分Ｒが一つと、節部分Ｆが一つ含まれる。したがって、１／４波長以内には、必ず腹部分Ｒが含まれることになる。振動を音波として対象物に伝播する場合に、腹部分Ｒで到達した場合に対象物に到達する振動と、節部分Ｆで到達した場合に対象物に到達する振動とは異なる。本実施形態においては、振動を腹部分Ｒで到達した場合の振動が、節部分Ｆで到達した場合の振動よりも大きい。
【００３９】
本実施形態においては、振動部材Ｃの振動により、図４に示すように、液体に発生する音波は直進しながら、伝播する。したがって、振動部材Ｃによる対象物の洗浄は、振動部材Ｃにより発生した音波が直進し、対象物において、音波が到達した部分のみが、振動部材Ｃにより洗浄される。したがって、ＸＹ平面において、振動部材Ｃにより発生する音波の断面積で、断面積よりも広い面積の対象物を洗浄する場合には、ＸＹ平面において、振動部材Ｃと対象物とを相対移動させる必要がある。XY平面において、振動部材Cにより発生する音波の断面積は、振動部材Cの面積と同じである。なお、XY平面において、振動部材Cにより発生する音波の断面積は、振動部材Cの面積と異なっていても構わない。
【００４０】
振動部材Ｃの表面Ｃａは、露光液体ＬＱ１に対して撥液性である。本実施形態では、接触角は９０°以上であることが望ましい。なお、振動部材Ｃの表面Ｃａは撥液性でなくても構わなく、例えば親液性でも構わない。
【００４１】
計測部材（計測器）は、アライメントセンサ用のマークのような基準マークが形成された基準部材、各種の光電センサを含む。計測器は、例えば米国特許第４,４６５,３６８号に開示される照度むらセンサ、例えば米国特許出願公開第２００２／００４１３７７号に開示される、投影光学系ＰＬにより投影されるパターンの空間像（投影像）の光強度を計測する空間像計測器、例えば米国特許出願公開第２００２／００６１４６９号に開示される照度モニタ、及び欧州特許第１，０７９，２２３号に開示される波面収差計測器である。計測器は、アライメントセンサ用のマークのような基準マークが形成された基準部材、各種の光電センサを含む。計測器は、例えば米国特許第４,４６５,３６８号に開示される照度むらセンサ、例えば米国特許出願公開第２００２／００４１３７７号に開示される、投影光学系ＰＬにより投影されるパターンの空間像（投影像）の光強度を計測する空間像計測器、例えば米国特許出願公開第２００２／００６１４６９号に開示される照度モニタ、及び欧州特許第１，０７９，２２３号に開示される波面収差計測器である。
【００４２】
次に上述の露光装置ＥＸの動作の一例について説明する。
【００４３】
まず、露光前の基板Ｐは、所定の搬送装置を用いて、基板ステージ２にロ−ドされる。
【００４４】
露光前の基板Ｐが基板ステージ２に保持された後に、終端光学素子１０と計測ステージＩとの間に形成されている液浸空間ＬＳを、基板ステージ２に移動させる。終端光学素子１０と基板Ｐとが対向するように、基板ステージ２を投影光学系ＰＬの下方に移動し、基板ステージ２と計測ステージＩとが近接または接触した状態で、液浸空間ＬＳを計測ステージの表面Ｓから、基板ステージ２の表面Ｈに移動させる。基板ステージ２を移動させることで、液浸空間ＬＳを基板ステージ２の表面Ｈから基板Ｐの表面に移動させる。したがって、射出面１１と基板Ｐの表面とが対向し、基板Ｐの表面の一部に投影領域ＰＲが配置される。射出面１１と対向する基板Ｐの表面の一部の領域を覆うように、液浸空間ＬＳが配置される。
【００４５】
終端光学素子１１と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が露光液体ＬＱ１で満たされた状態で、照明系ＩＬより露光光ＥＬが射出される。射出面１１より射出された露光光ＥＬは、マスクＭを照明する。マスクＭを介した露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、基板Ｐに照射される。これにより、マスクＭのパタ−ンの像が基板Ｐの表面Ｐａに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。上述したように、露光時においては、液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１と液浸部材６（例えば、回収口８ａ）とが接触する。
【００４６】
基板Ｐの露光が終了した後に、基板ステージ２に計測ステージＩが近接又は接触する。投影光学系ＰＬの下方に液浸空間ＬＳを維持した状態で、液浸空間ＬＳを基板Ｐの上から基板ステージ２の表面Ｈに移動させ、基板ステージ２の表面Ｈから計測ステージＩの表面Ｓに液浸空間ＬＳを移動させる。この間、液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１と、射出面１１とが接触している。露光光ＥＬで露光された基板Ｐ（露光後の基板Ｐ）は、基板保持部ＰＨからアンロードされる。
【００４７】
基板ステージが所定の位置にて、露光した基板Ｐをアンロードし、露光前の基板Ｐをロードしている間に、計測ステージＩの計測器は、計測ステージＩの表面Ｓに液浸空間ＬＳを維持した状態で、液浸空間ＬＳの液体を介した状態で、計測する。
【００４８】
ところで、基板Ｐの露光中、基板Ｐから発生（溶出）した物質（例えば感光材等の有機物）が、異物（汚染物、パーティクル）として液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１中に混入する可能性がある。液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１中に異物が混入すると、液浸部材６の回収部８に異物が付着する可能性がある。それら露光液体ＬＱ１と接触する露光装置ＥＸ内の所定部材の表面（液体接触面）に異物が付着している状態を放置しておくと、その異物が露光中に基板Ｐに付着する可能性がある。また、液浸部材６の回収部８が汚染されると、例えば液浸空間ＬＳを良好に形成できなくなる可能性もある。その結果、露光不良が発生する可能性がある。
【００４９】
本実施形態では、露光液体ＬＱ１と接触する部材の内、液浸部材６の回収部８の多孔部材１９に付着した異物を除去する洗浄を例に説明する。なお、洗浄する場所は、多孔部材１９に限られず、例えば、終端光学素子１０、平坦部材Ｆでも構わない。
【００５０】
本実施形態においては、計測ステージＩに搭載される振動部材Ｃを用いて多孔部材１９に付着した異物を除去する洗浄を行なう。本実施形態では、多孔部材１９の洗浄では、露光液体ＬＱ１を用いる。
【００５１】
本実施形態では、所定枚数の基板の露光、若しくは所定期間の露光をした後に、多孔部材１９の洗浄を行う。なお、不図示の観察装置（例えば、カメラ）を用い、例えば下面８ａを観察し、異物を除去する洗浄が必要だと判断された場合に、多孔部材１９の洗浄を開始しても構わない。この場合に、多孔部材１９とは異なる場所（例えば基板ステージ２の表面Ｈ）を観察し、多孔部材１９に付着している異物を除去する洗浄の必要の有無を判断しても構わない。
【００５２】
図６に示すように、多孔部材１９の洗浄では、液浸部材６と計測ステージＩとを対向した状態で、露光液体ＬＱ１による液浸空間ＬＳを形成する。供給口７ａから露光液体ＬＱ１を供給し、供給された露光液体ＬＱ１は、回収口８ａから回収することで、露光液体ＬＱ１による液浸空間ＬＳを形成する。多孔部材１９の洗浄時は、露光液体ＬＱ１による液浸空間ＬＳと多孔部材１９とが接触する。また、基板Ｐの露光時においては、露光液体ＬＱ１の界面が、多孔部材１９にあったが、多孔部材１９の洗浄時には、露光液体ＬＱ１の界面は、多孔部材１９の外側（開口６Ｋに対して、外側）にある方が望ましい。基板Ｐの露光時の露光液体ＬＱ１の液浸空間ＬＳの大きさと、多孔部材１９の洗浄時の非露光液体ＬＱ２の液浸空間ＬＳの大きさとは、同じでなくても構わない。
【００５３】
供給口７ａからの露光液体ＬＱ１の供給と、供給された露光液体ＬＱ１の回収口８ａの回収とを行いながら、液浸空間ＬＳを形成した状態で、露光液体ＬＱ１を介して、振動部材Ｃと多孔部材１９とを対向させる。本実施形態においては、ＸＹ平面において、振動部材Ｃの振動により露光液体ＬＱ１に発生する音波の断面積で、その断面積よりも広い面積の多孔部材１９を洗浄するので、ＸＹ平面において、計測ステージＩを駆動させることにより振動部材Ｃを移動させる。すなわち、ＸＹ平面において、振動部材Ｃの面積は、多孔部材１９の面積よりも小さい。振動部材Ｃを移動させることで、多孔部材１９において、音波が到達する部分が変わる。本実施形態においては、図４に示す凹部Ｂを洗浄した後に、振動部材Ｃを移動させて、凸部Ｄの洗浄を行う。なお、凸部Ｄを凹部Ｂよりも先に洗浄しても構わない。
【００５４】
ところで、上述したように、多孔部材１９には凹部Ｂと凸部Ｄとが含まれているので、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを移動させると、凹部Ｂを洗浄するときの凹部と振動部材ＣとのＺ軸方向における距離と、凸部Ｄを洗浄するときの凸部Ｄと振動部材ＣとのＺ軸方向における距離とが異なる。本実施形態において、振動部材Ｃの表面は、ＸＹ平面と平行なので、振動部材Ｃの振動による音波は、Ｚ軸方向に沿って伝播する。したがって、凹部Ｂを洗浄するときの露光液体ＬＱ１を音波が伝播する距離と、凸部Ｄを洗浄するときの露光液体ＬＱ１を音波が伝播する距離とは異なる。したがって、凹部Ｂと凸部Ｄとに、音波の腹部分Ｒが到達しないために、凹部Ｂと凸部Ｄとに到達する音波の振動が、腹部分Ｒに比べて小さくなり、洗浄効率が低下する可能性がある。
【００５５】
本実施形態においては、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを移動させると、凹部Ｂでは音波の腹部分Ｒでの洗浄、凸部Ｄでは音波の節部分Ｆでの洗浄になる場合を例に説明する。
【００５６】
凹部Ｂの洗浄では、振動部材ＣのＺ軸方向の位置と凹部ＢのＺ軸方向の位置とが算出され、Ｚ軸方向に沿った振動部材Ｃと凹部Ｂとの距離が算出される。また、本実施形態では、すでに洗浄に用いる液体（露光液体ＬＱ１）と、振動部材Ｃの周波数とから、音波の波長が算出される。これらに基づいて、凹部Ｂの洗浄では、音波の腹部分Ｒが到達するための、振動部材Ｃの位置が決定される。
【００５７】
本実施形態では、凹部Ｂの洗浄した後に、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを、凸部Ｄを洗浄する場所まで移動させる。凸部Ｄで音波の腹部分Ｒでの洗浄となるように、音波の伝播するＺ軸方向に沿った、振動部材Ｃと凸部Ｄとの距離が、変更される。すでに算出した振動部材Ｃの振動により露光液体ＬＱ１に発生する音波の波長から、腹部分Ｒでの洗浄となるように振動部材Ｃと凸部Ｄとの距離を算出する。算出された距離となるように、凸部Ｄを洗浄する場所において、振動部材ＣをＺ軸方向に沿って移動させる。上述したように、液体中を伝播する音波は、腹部分Ｒと節部分Ｆとが１／４波長毎に繰り返すので、凸部Ｄを洗浄する場所において、振動部材ＣをＺ軸方向に沿って、１／４波長よりも短い範囲内で移動させる。移動する方向は、振動部材Ｃと多孔部材１９との距離を短くする＋Ｚ軸方向でも構わないし、振動部材Ｃと多孔部材１９との距離を長くする−Ｚ軸方向でも構わない。振動部材Ｃの移動距離が短くなるように、＋Ｚ軸方向、−Ｚ軸方向に移動させるのが望ましい。本実施形態では、多孔部材１９に凹凸部Ｏが含まれている場合でも、多孔部材１９の全てに音波の腹部分Ｒを到達させ、多孔部材１９を洗浄することができる。多孔部材１９の洗浄が終了した後に、基板ステージ２に保持された基板Ｐの露光を開始する。
【００５８】
なお、本実施形態では、多孔部材１９の凹凸部Ｏには凹部Ｂと凸部Ｄがそれぞれ一つ設けられているが、複数設けられていても構わない。また、本実施形態では、凹部Ｂと凸部Ｄとが隣りあって設けられていたが、所定面において、凹部Ｂと凸部Ｄとが別々に、分離して設けられていても構わない。
【００５９】
なお、上述したように、Ｚ軸方向において、凸部Ｄと凹部Ｂとは１／４波長以上離れているので、凸部Ｄを洗浄する際に、振動部材Ｃを１／４波長以上の範囲で移動させても構わない。例えば、凹部Ｂの洗浄で、腹部分Ｒが到達する様な凹部Ｂと振動部Ｃとの距離を算出したが、その算出された距離を維持したまま、多孔部材１９の凹凸部Ｏの形状に基づいて、振動部材Ｃを移動させ、洗浄しても構わない。
【００６０】
なお、本実施形態では、凹部Ｂを洗浄した後に、ＸＹ平面に沿って振動部Ｃを移動させ、凸部Ｄの洗浄をするために、Ｚ軸方向に振動部Ｃを移動させたが、振動部Ｃの移動方向はこれに限られない。例えば、凹部Ｂを洗浄した後に、ＸＹ平面と交差する平面に沿って振動部Ｃを移動させても構わない。
【００６１】
以上、説明したように、本実施形態では、液浸部材６を洗浄する場合に、液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液浸部材６と振動部Ｃとの位置関係を変更した。したがって、液浸部材６に対して、振動部材Ｃの振動により発生する音波の腹部分Ｒを到達することができる。したがって、振動部Ｃを用い、液浸部材６を良好に洗浄することができる。したがって、露光不良を抑制することができる。
【００６２】
〈第２実施形態〉
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については、同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【００６３】
本実施形態では、多孔部材１９を洗浄する際に、多孔部材１９と振動部材Ｃとの間の露光液体ＬＱ１の温度を調整する。
【００６４】
上述した通り、液体中の音波の速度に基づいて、音波の波長は変わる。また、その液体の温度に基づいて、液体中の音波の速度は変わる。そこで、本実施形態では、多孔部材１９を洗浄する際に、多孔部材１９と振動部材Ｃとの間の露光液体ＬＱ１の温度を調整し、露光液体ＬＱ１中の音波の波長を変える。本実施形態では、予め露光形態ＬＱ１の各温度における、所定周波数の振動部材Ｃにより発生する露光液体ＬＱ１中の音波の波長の情報を、制御装置が記憶している。
【００６５】
本実施形態においては、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを移動させると、凹部Ｂでは音波の腹部分Ｒでの洗浄、凸部Ｄでは音波の節部分Ｆでの洗浄になる場合を例に説明する。
【００６６】
凹部Ｂでの洗浄した後に、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを移動させたときの、Ｚ軸方向に沿った凹部Ｂと振動部材Ｃとの距離を算出する。記憶されている、露光液体ＬＱ１の各温度における、露光液体ＬＱ１での音波の波長と、算出されたＺ軸方向に沿った凹部Ｂと振動部材Ｃとの距離とから、凸部Ｄに腹部分Ｒを到達させるために必要な露光液体ＬＱ１の温度を算出する。算出された温度となるように、供給部７から供給される露光液体ＬＱ１の温度を、液体供給装置を用いて調整する。
【００６７】
なお、液体中の音波の波長と、液浸部材６と振動部材Ｃとの位置関係の一方のみではなく、両方を変更しても構わない。また、洗浄において液体の温度変化にともない、液体中の音波の波長が変化しないように、所定温度の液体を振動部材Ｃに供給するようにしても構わない。
【００６８】
以上、本実施形態では、液浸部材６を洗浄する場合に、液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液体中の音波の波長を変更した。したがって、液浸部材６に対して、振動部材Ｃの振動により発生する音波の腹部分Ｒを到達することができる。したがって、振動部材Ｃを用い、液浸部材６を良好に洗浄することができる。したがって、露光不良を抑制することができる。
【００６９】
〈第３実施形態〉
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については、同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【００７０】
本実施形態においては、多孔部材１９を洗浄する際に、多孔部材１９と振動部材Ｃとの間を非露光液体ＬＱ２で満たして、多孔部材１９の洗浄を実行する。本実施形態では、非露光液体ＬＱ２として、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を用いる。
【００７１】
多孔部材１９の洗浄では、液浸部材６と計測ステージＩとを対向した状態で、非露光液体ＬＱ２による液浸空間ＬＳを形成する。供給口７ａから非露光液体ＬＱ２を供給し、供給された非露光液体ＬＱ２は、回収口８ａから回収することで、非露光液体ＬＱ２による液浸空間ＬＳを形成する。多孔部材１９の洗浄時は、非露光液体ＬＱ２による液浸空間ＬＳと多孔部材１９とが接触する。また、基板Ｐの露光時においては、露光液体ＬＱ１の界面が、多孔部材１９にあったが、多孔部材１９の洗浄時には、非露光液体ＬＱ２の界面は、多孔部材１９の外側（開口６Ｋに対して、外側）にある方が望ましい。基板Ｐの露光時の露光液体ＬＱ１の液浸空間ＬＳの大きさと、多孔部材１９の洗浄時の非露光液体ＬＱ２の液浸空間ＬＳの大きさとは、異なっていても構わない。
【００７２】
本実施形態においては、第１の実施形態における露光液体ＬＱ１を用いた多孔部材１９の洗浄した後に、露光液体ＬＱ１とは異なる非露光液体ＬＱ２を用いた多孔部材１９の洗浄を行う場合を説明する。本実施形態では、予め液体の種類毎の、所定周波数の振動部材Ｃにより発生する液体中の音波の波長の情報を、制御装置が記憶している。
【００７３】
露光液体ＬＱ１と非露光液体ＬＱ２で液体の種類が異なるので、それぞれの液体中での音波の速度が異なる。したがって、露光液体ＬＱ１と非露光液体ＬＱ２での音波の波長が異なる。そこで、本実施形態では、非露光液体のＬＱ２の音波の波長から、凹部Ｂに腹部分Ｒが到達するように、Ｚ軸方向に沿った凹部Ｂと振動部材Ｃとの距離、凸部Ｄと振動部材Ｃとの距離を算出し、算出された距離に基づいて洗浄を行う。本実施形態において、露光液体ＬＱ１と非露光液体ＬＱ２とは異なり、液体中の音波の波長が異なるので、算出される距離も液体の種類によって異なる。
【００７４】
なお、上述の実施形態では、供給口７ａから供給される非露光液体ＬＱ２により液浸空間ＬＳを形成したが、供給口７ａとは異なる場所から供給される非露光液体ＬＱ２により液浸空間ＬＳを形成しても構わない。例えば、液浸部材６の供給口７ａとは異なる、非露光液体ＬＱ２を供給する供給口を、液浸部材６の回収口８の外側に設け、非露光液体ＬＱ２を供給しても構わない。また、例えば、計測ステージＩに非露光液体ＬＱ２を供給する供給口を設け、非露光液体ＬＱ２を供給しても構わない。また、例えば、液浸部材６の回収口８から非露光液体ＬＱ２を供給しても構わない。この場合に、供給された非露光液体ＬＱ２を回収可能な回収口を回収部８の外側に設け、供給された非露光液体ＬＱ２を回収しても構わない。
【００７５】
なお、非露光液体ＬＱ２の洗浄は、露光液体ＬＱ１の洗浄した後でなくても構わない。また、非露光液体ＬＱ２の洗浄は、用いる液体の種類を変えて複数回行っても構わない。また、露光液体ＬＱ１の洗浄と非露光液体ＬＱ２の洗浄とを複数回繰り返しても構わない。
【００７６】
以上、説明したように、本実施形態では、液浸部材６を洗浄する場合に、液浸部材６と振動部材Ｃとの間の液体の種類に基づいて、液体中の音波の波長を算出した。算出された音波の波長に基づいて、液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液浸部材６と振動部材Ｃとの位置関係を変更した。したがって、液浸部材６に対して、振動部材Ｃの振動により発生する音波の腹部分Ｒを到達することができる。したがって、振動部材Ｃを用い、液浸部材６を良好に洗浄することができる。したがって、露光不良を抑制することができる。
【００７７】
なお、液浸部材６と振動部材Ｃとの位置関係を変更する場合は、上述の凹凸部Ｏに限られない。例えば、多孔部材１９にＺ軸方向に対して垂直なＸＹ平面と交差する傾斜部を備えている場合も、液浸部材６と振動部材Ｃとの位置関係を変更する。図７には、傾斜部を備える多孔部材１９の一例を示している。図７に示すように、傾斜部の第１部分Ｊと、傾斜部の第２部分Ｋとを洗浄する場合を例に説明する。傾斜部の場合においても、第１点の洗浄でのＺ軸方向における振動部材Ｃと第１点Ｊとの距離と、第２点の洗浄でのＺ軸方向における振動部材Ｃと第２点Ｋとの距離とが異なる。したがって、凹凸部Ｄと同様に、洗浄対象に音波の腹部分Ｒが到達するように、傾斜部と振動部材Ｃとの位置関係を変更する。
【００７８】
なお、振動部材Ｃの振動による液体中の音波が伝播する距離を、振動部材ＣをＺ軸方向に沿って移動して変えたがこれに限られない。例えば、洗浄対象である液浸部材６を駆動可能として、Ｚ軸方向に沿って移動させても構わない。また、例えば、図８に示すように、振動部材Ｃを、Ｙ軸を中心に（θＹ）傾けることで、液体中の音波が液浸部材６までの伝播する距離を変えることができる。液体中の音波が伝播する方向は、また、例えば、図９に示すように、液体中の音波を反射する反射部材を配置することで、音波の伝播する距離を変えることができる。
【００７９】
なお、上述の実施形態では、計測ステージＩに振動部材Ｃを搭載して、振動部材Ｃを振動させて、液浸部材６を洗浄したが、振動を発生する方法はこれに限られない。例えば、計測ステージＩと液浸部材６との間に液浸空間ＬＳを形成した状態で、計測ステージＩを所定の周期で振動させ、液浸空間ＬＳに音波を発生させても構わない。
【００８０】
なお、上述の実施形態では、振動部材Ｃを搭載させる場所は、計測ステージＩに限られない。例えば、基板ステージ２でも構わない。この場合に、基板に振動子Ｃを搭載し、振動子Ｃを搭載した基板を、基板保持部ＰＨで保持しても構わない。また、基板ステージ２及び計測ステージＩとは異なるステージを設け、その異なるステージに振動子Ｃを搭載しても構わない。
【００８１】
なお、上述の実施形態では、計測ステージＩのＺステージＩ１をＺ軸方向に沿って移動させ、Ｚ軸方向に沿って振動部材Ｃを移動させたが、振動部材Ｃの位置の変更方法はこれに限られない。例えば、計測ステージＩと独立して振動部材Ｃを駆動可能としても構わない。
【００８２】
なお、上述の実施形態では、一つの振動部材Ｃを搭載したが、複数の振動部材Ｃを搭載しても構わない。例えば、複数の振動部材ＣのＺ軸方向における位置が異なっていても構わない。Ｚ軸方向において振動部材Ｃの位置が異なるので、Ｚ軸方向における振動部材Ｃと洗浄対象との距離も、複数の振動部材Ｃのそれぞれで異なる。したがって、複数の振動部材Ｃの内、洗浄対象において、腹部分Ｒの音波を到達できる振動部材Ｃを、複数の振動部材Ｃの中から選択して、洗浄に使用しても構わない。
【００８３】
なお、上述の実施形態では、振動部材Ｃから発生する振動の周波数は、一つであったが、複数の周波数から選択できるようにしても構わない。上述したように、周波数に基づいて、発生する音波の波長を変えることができる。したがって、複数の周波数の内、洗浄対象において、腹部分Ｒの音波を到達できる周波数を、複数の周波数の中から選択して、洗浄に使用しても構わない。
【００８４】
なお、上述の実施形態では、液浸部材６と振動部材Ｃを搭載した計測ステージとを対向して、液浸部材６を洗浄したが、対向させる物体を、露光装置ＥＸの外部から内部に搬入し、洗浄しても構わない。例えば、米国特許出願公開第２００８／０１８８６７号明細書に開示されているようなメンテナンス機器を対向して、洗浄しても構わない。メンテナンス機器に搭載した振動部材と液浸部材との位置関係を変更しても構わない。
【００８５】
なお、上述の各実施形態においては、露光液体ＬＱ１として水を用いているが、水以外の液体であってもよい。露光液体ＬＱ１としては、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）などの膜に対して安定なものが好ましい。例えば、露光液体ＬＱ１として、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等を用いることも可能である。また、露光液体ＬＱ１として、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。
【００８６】
なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００８７】
なお、露光装置ＥＸとしては、スキャニングステッパを用いた、露光装置はこれに限らない。マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次移動させるステップ・リピート方式でも構わない。
【００８８】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００８９】
また、例えば対応米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【００９０】
また、本発明は、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。
【００９１】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００９２】
また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許第７０２３６１０号明細書に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。さらに、上記実施形態では、前述の各照明領域と、投影領域がそれぞれ矩形状であるものとしたが、他の形状、例えば円弧状などでもよい。
【００９３】
なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、反射型マスクでも構わない。また、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）等を含む。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。自発光型画像表示素子としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤディスプレイ、ＬＤディスプレイ、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等が挙げられる。
【００９４】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。
【００９５】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【００９６】
以上のように、本願実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００９７】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１０に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること（露光処理）、及び露光された基板を現像することを含む基板処理を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００９８】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【００９９】
６---液浸部材、Ｃ---振動部材、ＬＱ１---露光液体、ＬＳ---液浸空間
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本実施形態における露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。
【図２】基板ステージ２に液浸空間ＬＳが形成されている状態を示す図である。
【図３】本実施形態における回収部８の一例を示す図である。
【図４】本実施形態における多孔部材１９の一例を示す図である。
【図５】本実施形態における、液体に伝播する音波の様子の一例を示す図である。
【図６】計測ステージＩに液浸空間ＬＳが形成されている状態を示す図である。
【図７】本実施形態における多孔部材１９の一例を示す図である。
【図８】本実施形態における、液体に伝播する音波の様子の一例を示す図である。
【図９】本実施形態における、液体に伝播する音波の様子の一例を示す図である。
【図１０】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄方法、露光装置及びデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス等のマイクロデバイスの製造工程において、露光光で基板を露光する露光装置が使用される。露光装置の部材、部品が汚染されると、例えば基板に形成されるパターンに欠陥が生じる等、露光不良が発生し、その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。そのため、例えば下記特許文献に開示されているような、露光装置内の所定部材を洗浄する技術が案出されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００８／００１８８６７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光不良の発生を抑制するために、所定部材を洗浄することは有効である。そのため、露光装置内の所定部材を良好に洗浄できる技術の案出が望まれる。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる洗浄方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第1の態様に従えば、第１液体を介して基板を露光する露光装置の、第１液体に接触する接液部材の洗浄方法であって、接液部材を、第２液体に接触させることと、振動部を振動させることによって、第２液体中に発生する音波を第２液体中で伝播させ、接液部材の表面の第１点に所定方向から到達させることで、第１点を洗浄することと、振動部を振動させることによって、第２液体中に発生する音波を第２液体中で伝播させ、接液部材の表面の第１点とは異なる第２点に所定方向から到達させることで、第２点を洗浄することと、第１点の洗浄と第２点の洗浄とで、音波の波長と、接液部材と振動部との所定方向の位置関係との少なくとも一方を変更することと、を含む洗浄方法が、提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、第1の態様の洗浄方法で、接液部材を洗浄することと、基板を露光することと、露光した基板を現像することと、を含むデバイスの製造方法が、提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、第１液体を介して基板を露光する露光装置であって、第１液体に接触する接液部材と、振動部と、を備え、接液部材と、第２液体とを接触させた状態で、振動部を振動させることによって、第２液体中に発生する音波を接液部材に伝播し、接液部材の表面に所定方向から到達させることで、接液部材を洗浄する場合に、所定方向からの音波を到達することで、接液部材の表面の第１点を洗浄する時と、所定方向からの音波を到達することで、接液部材の表面の第１点とは異なる第２点を洗浄する時とで、音波の波長と、接液部材と振動部との所定方向の位置関係との少なくとも一方を変更する露光装置が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、第３の態様の露光装置で接液部材を洗浄することと、基板を露光することと、露光した基板を現像することと、を含むデバイスの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１２】
〈第１実施形態〉
図１は、本実施形態における露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、露光液体ＬＱ１を介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が露光液体ＬＱ１で満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間は、液体で満たされた部分（空間、領域）である。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１を介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、露光液体ＬＱ１として、水（純水）を用いる。本実施形態の露光装置ＥＸは、基板Ｐの一部に液浸空間ＬＳを形成し、基板Ｐを露光する局所液浸方式を用いる。
【００１３】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）を保持して移動可能な計測ステージＩと、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が露光液体ＬＱ１で満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材６と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する不図示の制御装置とを備えている。
【００１４】
なお、基板を保持して移動可能な基板ステージ２と、基板を保持せずに、露光光を計測する計測部材（計測器）を保持して移動可能な計測ステージＩとを備えた露光装置の一例が、例えば米国特許第６８９７９６３号明細書、欧州特許出願公開第１７１３１１３号明細書等に開示されており、その内容を援用して本文の記載の一部とする。
【００１５】
ここで、本実施形態では、露光装置ＥＸとしてマスクＭと基板Ｐとを走査方向における互いに異なる向き（逆向き）に同期移動しつつマスクＭに形成されたパターンを基板Ｐに露光する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）を使用する場合を例にして説明する。なお、露光装置ＥＸとしてマスクＭと基板Ｐとの走査方向を同じ向きに同期移動し露光する走査型露光装置でも構わない。以下の説明において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内でマスクＭと基板Ｐとの同期移動方向（走査方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。なお、ここでいう「基板」は半導体ウエハ上にレジストを塗布したものを含み、「マスク」は基板上に縮小投影されるデバイスパターンを形成されたレチクルを含む。
【００１６】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を、均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。なお、レーザ光源から射出される露光光ＥＬを照明領域ＩＲに引き回すための光学系は、例えば、米国特許出願公開第２００９／０３１６１３２号明細書に一例が開示されている。
【００１７】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００１８】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲを含む不図示のベース部材のガイド面上を移動可能である。マスクステージ１は、例えばリニアモータ等を含む駆動システムの作動により、ガイド面上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００１９】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面１１を有する終端光学素子１０を備えている。終端光学素子１０は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。
【００２０】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００２１】
液浸部材６は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子１０の近傍に配置される。本実施形態においては、液浸部材６の少なくとも一部が、終端光学素子１０の周囲に配置されている。液浸部材６により形成される液浸空間ＬＳと、液浸部材６の少なくとも一部とは接触する。
【００２２】
終端光学素子１０の射出面１１と、露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）に対向して配置される物体の間の露光光ＥＬの光路が露光液体ＬＱ１で満たされるように、液浸部材６は液浸空間ＬＳを形成することができる。本実施形態において、投影領域ＰＲに配置可能な物体は、投影光学系ＰＬの像面側（終端光学素子１０の射出面１１側）で投影領域ＰＲに対して移動可能な物体であり、基板ステージ２、基板ステージ２に保持された基板Ｐ、計測ステージＩを含む。
【００２３】
図２に示すように、液浸部材６は、露光液体ＬＱ１を供給する供給部７と、露光液体ＬＱ１を回収する回収部８と、射出面１１から射出される露光光ＥＬが通過する開口６Ｋを備える平坦部材Ｆとを備えている。図２は、本実施形態における液浸部材６の一例を示す図である。なお、液浸部材６として、例えば米国特許出願公開第２００７／０１３２９７６号明細書、欧州特許出願公開第１７６８１７０号明細書に開示されているような液浸部材（ノズル部材）を用いることができる。
【００２４】
供給部７により露光液体ＬＱ１を供給し、供給された露光液体ＬＱ１を回収部８で回収することにより、液浸空間ＬＳを形成する。形成される液浸空間ＬＳと、回収部８の少なくとも一部及び平坦部材Ｆの少なくとも一部とが接触する。本実施形態においては、図２に示すように、終端光学素子１０と回収部８との間に供給部７が配置される。すなわち、回収部８に比べて、供給部７は終端光学素子１０に近い側に配置される。また、回収部８は、平坦部材Ｆを囲んでいる。すなわち、開口６Ｋを通過する露光光ＥＬの光路を囲むように、露光液体ＬＱ１を回収することが可能である。なお、図２においては、終端光学素子１０の射出面１１と、基板Ｐとの間を露光液体ＬＱ１で満たしてしている様子を示している。本実施形態において、液浸部材６の表面には、回収部８の少なくとも一部及び平坦部材Ｆの少なくとも一部が含まれる。
【００２５】
供給部７は、供給口７ａを有する。供給部７は、液体供給装置に接続され、液体供給装置を動作させることで、供給口７ａから露光液体ＬＱ１を供給することができる。供給口７ａから供給された露光液体ＬＱ１は、開口６Ｋを通過する。液浸部材６と物体とが対向して配置される場合に、開口６Ｋ６Ｋを通過した露光液体ＬＱ１により、終端光学素子１０の射出面１１と、物体との間の露光光ＥＬの光路が露光液体ＬＱ１で満たされる。
【００２６】
本実施形態においては、液体供給装置は、露光液体ＬＱ１とは異なる液体（非露光液体ＬＱ２）を供給することが可能である。非露光液体ＬＱ２は、例えば、物質を含む水溶液である。物質を含む水溶液は、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液、コリン水溶液、オゾンを含む水溶液、過酸化水素を含む水溶液である。また、非露光液体ＬＱ２は、水溶液に限られず、例えば、メチルアルコールやイソプロピルアルコールなどのアルコールを含む液体でも構わない。
【００２７】
図３には、本実施形態における回収部８の一例を示している。本実施形態において、回収部８は、投影領域ＰＲの少なくとも一部に配置される物体と対向可能な回収口８ａを有する。回収口８ａには、複数の孔（openingsあるいはpores）を含むプレート状の多孔部材１９が配置されている。なお、回収部８に、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタが配置されてもよい。回収部８の下面８ｂには、多孔部材１９が含まれる。
【００２８】
回収部８は、液体回収装置に接続され、液体回収装置を動作させることで、回収口８ａから液体を回収することができる。供給口７ａから供給される露光液体ＬＱ１は、開口６Ｋを通過し、平坦部材Ｆと対向して配置される物体との間の空間を介して、回収口８ａで回収される。
【００２９】
本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき（露光時）に形成される液浸空間ＬＳの界面（メニスカス、エッジ）の少なくとも一部は、回収部８の下面８ｂと基板Ｐの表面との間に形成される。また、露光時に形成される液浸空間ＬＳの界面は、回収部８の下面８ｂのうち、多孔部材１９に形成される。
【００３０】
図４には、本実施形態における多孔部材１９の一例を示している。本実施形態において、下面８ａには凹凸部Ｏが含まれている。凹凸部Ｏは、多孔部材１９に配置されている。したがって、本実施形態における多孔部材１９の形状は、凹凸を含む。凹凸部Ｏは、凹部Ｂと凸部Ｄとが含まれている。したがって、凹凸部Ｏは、ＸＹ平面において、凹部Ｂと凸部ＤのＺ軸方向の位置が異なる。本実施形態では、Ｚ軸方向に沿って、凸部Ｄと凹部ＢはギャップＧ離れている。ギャップＧの距離は、後述する音波の波長の１/４よりも大きい。
【００３１】
本実施形態における、回収口８ａの位置情報は、制御装置に記憶されている。例えば、投影光学系ＰＬの光軸から多孔部材１９の距離である。また、多孔部材１９の位置情報として、多孔部材１９に配置される凹凸部Ｏの凹部Ｂと凸部ＤのギャップＧの距離に関する情報も記憶されている。したがって、多孔部材１９と対向する物体の所定の場所と投影光学系ＰＬの光軸との距離に基づいて、所定の場所と多孔部材１９との位置関係が算出できる。また、所定の場所と、対向する（例えば、Ｚ軸方向）多孔部材１９の形状の凹凸部Ｏの情報（凹部Ｂと凸部ＤのギャップＧの有無など）が分かる。
【００３２】
基板ステージ２は、基板Ｐを支持するものであって、基板Ｐを脱着可能に保持する基板保持部ＰＨを介して保持するＺステージ２１と、Ｚステージ２１を支持するＸＹステージ２２とを備えている。Ｚステージ２１及びＸＹステージ２２を含む基板ステージ２はステージベースＢに支持されている。基板ステージ２はリニアモータ等の駆動システムにより駆動され、投影領域ＰＲを含むベース部材Ｂの表面Ｂａ上を移動可能である。Ｚステージ２１を駆動することにより、Ｚステージ２１に保持されている基板ＰのＺ軸方向における位置（フォーカス位置）、及びθＸ、θＹ方向における位置が制御される。また、ＸＹステージ２２を駆動することにより、基板ＰのＸＹ方向における位置（投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行な方向の位置）が制御される。すなわち、Ｚステージ２１は、基板Ｐのフォーカス位置及び傾斜角を制御して基板Ｐの表面をオートフォーカス方式、及びオートレベリング方式で投影光学系ＰＬの像面に合わせ込み、ＸＹステージ２２は、基板ＰのＸ軸方向及びＹ軸方向における位置決めを行う。なお、Ｚステージ２１とＸＹステージ２２とを一体的に設けてよいことは言うまでもない。基板保持部ＰＨの周囲には、Ｚステージ２１の表面Ｈが配置される。Ｚステージ２１の表面Ｈは、基板保持部ＰＨに保持された基板Ｐの表面の周囲に配置される。表面Ｈはほぼ平坦であり、基板保持部ＰＨに保持された基板Ｐの表面とほぼ同一平面内（ＸＹ平面内）に配置される。すなわち、Ｚステージの表面Ｈと、基板保持部ＰＨに保持された基板Ｐの表面とは、ほぼ面一である。
【００３３】
計測ステージＩは、振動を発生することが可能な振動部材Ｃと、不図示の計測部材（計測器）とを保持するものであって、振動部材Ｃを保持するＺステージＩ１と、ＺステージＩ１を支持するＸＹステージＩ２とを備えている。ＺステージＩ１及びＸＹステージＩ２を含む計測ステージＩはステージベースＢに支持されている。計測ステージＩは、リニアモータ等の駆動システムにより駆動され、投影領域ＰＲを含むベース部材Ｂの表面Ｂａ上を移動可能である。ＺステージＩ１を駆動することにより、ＺステージＩ１に保持される振動部材ＣのＺ軸方向における位置、及びθＸ、θＹ方向における位置が制御される。また、ＸＹステージＩ２を駆動することにより、振動部材ＣのＸＹ方向における位置（投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行な方向の位置）が制御される。したがって、ＺステージＩ１を駆動することにより、振動部材Ｃと、振動部材Ｃと対向する物体との位置関係を、Ｚ軸方向における位置、及びθＸ、θＹ方向において変更することが可能である。また、ＸＹステージＩ２を駆動することにより、振動部材Ｃと、振動部材Ｃと対向する物体との位置関係を、ＸＹ方向において変更することが可能である。振動部材Ｃと対向する物体とは、例えば、液浸部材６の回収部８の多孔部材１９がある。したがって、振動部材Ｃと多孔部材１９の位置関係から、例えばＺ軸方向に沿う振動部材Ｃと対向する多孔部材１９の形状に関する情報が分かる。さらに、振動部材ＣのＺ軸方向の位置が制御されているので、Ｚ軸方向に沿った振動部材Ｃと多孔部材１９との距離を算出することができる。
【００３４】
なお、ＺステージＩ１とＸＹステージＩ２とを一体的に設けてよいことは言うまでもない。なお、ＺステージＩ１は、振動部材Ｃを脱着可能に保持しても構わない。振動部材Ｃの周囲には、ＺステージＩ１の表面Ｓが配置される。ＺステージＩ１の表面Ｓは、振動部材Ｃの表面Ｃａの周囲に配置される。表面Ｃａはほぼ平坦であり、振動部材Ｃの表面Ｃａとほぼ同一平面内に（ＸＹ平面内）に配置される。すなわち、Ｚステージ２１の表面Ｈと、振動部材Ｃの表面Ｃａとは、ほぼ面一である。
【００３５】
本実施形態において、振動部材Ｃは周波数９５０ＫＨｚの振動を発生することが可能である。振動部材Ｃは、圧電セラミック素子を作動させることにより、振動を発生する。なお、振動部材Ｃは９５０ＫＨｚに限られず、１ＫＨｚ〜２ＭＨｚ程度の振動子を搭載することが可能である。なお、振動部材Ｃは、例えば圧電セラミック素子に限られず、圧電高分子膜、ＺｎＯ薄膜振動子でも構わない。
【００３６】
振動部材Ｃが発生する振動は、液体にて音波として伝播することができる。液体に伝播する音波の波長は、以下の式１で示すことができる。
【００３７】
音波の波長 ＝ 液体中での音波の速度 ／ 振動部材Ｃの周波数 --- 式１
したがって、本実施形態において振動部材Ｃの周波数は、９５０ＫＨｚおよび、音波が電波する液体における音波の速度に基づいて、その音波の波長が定まる。
【００３８】
図５において、液体に伝播する音波の様子を示している。振動部材Ｃにより液体に与えた振動は振幅が生じる。液体には、伝播する音波の方向に沿って振幅の大きい腹部分Ｒが所定の間隔で生じ、各腹部分Ｒの間には節部分Ｆが生じる。本実施形態における１波長には、図５に示すように二つの腹と、二つの節が含まれる。すなわち１／２波長は、腹部分Ｒが一つと、節部分Ｆが二つ含まれる。本実施形態において、１／４波長には、腹部分Ｒが一つと、節部分Ｆが一つ含まれる。したがって、１／４波長以内には、必ず腹部分Ｒが含まれることになる。振動を音波として対象物に伝播する場合に、腹部分Ｒで到達した場合に対象物に到達する振動と、節部分Ｆで到達した場合に対象物に到達する振動とは異なる。本実施形態においては、振動を腹部分Ｒで到達した場合の振動が、節部分Ｆで到達した場合の振動よりも大きい。
【００３９】
本実施形態においては、振動部材Ｃの振動により、図４に示すように、液体に発生する音波は直進しながら、伝播する。したがって、振動部材Ｃによる対象物の洗浄は、振動部材Ｃにより発生した音波が直進し、対象物において、音波が到達した部分のみが、振動部材Ｃにより洗浄される。したがって、ＸＹ平面において、振動部材Ｃにより発生する音波の断面積で、断面積よりも広い面積の対象物を洗浄する場合には、ＸＹ平面において、振動部材Ｃと対象物とを相対移動させる必要がある。XY平面において、振動部材Cにより発生する音波の断面積は、振動部材Cの面積と同じである。なお、XY平面において、振動部材Cにより発生する音波の断面積は、振動部材Cの面積と異なっていても構わない。
【００４０】
振動部材Ｃの表面Ｃａは、露光液体ＬＱ１に対して撥液性である。本実施形態では、接触角は９０°以上であることが望ましい。なお、振動部材Ｃの表面Ｃａは撥液性でなくても構わなく、例えば親液性でも構わない。
【００４１】
計測部材（計測器）は、アライメントセンサ用のマークのような基準マークが形成された基準部材、各種の光電センサを含む。計測器は、例えば米国特許第４,４６５,３６８号に開示される照度むらセンサ、例えば米国特許出願公開第２００２／００４１３７７号に開示される、投影光学系ＰＬにより投影されるパターンの空間像（投影像）の光強度を計測する空間像計測器、例えば米国特許出願公開第２００２／００６１４６９号に開示される照度モニタ、及び欧州特許第１，０７９，２２３号に開示される波面収差計測器である。計測器は、アライメントセンサ用のマークのような基準マークが形成された基準部材、各種の光電センサを含む。計測器は、例えば米国特許第４,４６５,３６８号に開示される照度むらセンサ、例えば米国特許出願公開第２００２／００４１３７７号に開示される、投影光学系ＰＬにより投影されるパターンの空間像（投影像）の光強度を計測する空間像計測器、例えば米国特許出願公開第２００２／００６１４６９号に開示される照度モニタ、及び欧州特許第１，０７９，２２３号に開示される波面収差計測器である。
【００４２】
次に上述の露光装置ＥＸの動作の一例について説明する。
【００４３】
まず、露光前の基板Ｐは、所定の搬送装置を用いて、基板ステージ２にロ−ドされる。
【００４４】
露光前の基板Ｐが基板ステージ２に保持された後に、終端光学素子１０と計測ステージＩとの間に形成されている液浸空間ＬＳを、基板ステージ２に移動させる。終端光学素子１０と基板Ｐとが対向するように、基板ステージ２を投影光学系ＰＬの下方に移動し、基板ステージ２と計測ステージＩとが近接または接触した状態で、液浸空間ＬＳを計測ステージの表面Ｓから、基板ステージ２の表面Ｈに移動させる。基板ステージ２を移動させることで、液浸空間ＬＳを基板ステージ２の表面Ｈから基板Ｐの表面に移動させる。したがって、射出面１１と基板Ｐの表面とが対向し、基板Ｐの表面の一部に投影領域ＰＲが配置される。射出面１１と対向する基板Ｐの表面の一部の領域を覆うように、液浸空間ＬＳが配置される。
【００４５】
終端光学素子１１と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が露光液体ＬＱ１で満たされた状態で、照明系ＩＬより露光光ＥＬが射出される。射出面１１より射出された露光光ＥＬは、マスクＭを照明する。マスクＭを介した露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、基板Ｐに照射される。これにより、マスクＭのパタ−ンの像が基板Ｐの表面Ｐａに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。上述したように、露光時においては、液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１と液浸部材６（例えば、回収口８ａ）とが接触する。
【００４６】
基板Ｐの露光が終了した後に、基板ステージ２に計測ステージＩが近接又は接触する。投影光学系ＰＬの下方に液浸空間ＬＳを維持した状態で、液浸空間ＬＳを基板Ｐの上から基板ステージ２の表面Ｈに移動させ、基板ステージ２の表面Ｈから計測ステージＩの表面Ｓに液浸空間ＬＳを移動させる。この間、液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１と、射出面１１とが接触している。露光光ＥＬで露光された基板Ｐ（露光後の基板Ｐ）は、基板保持部ＰＨからアンロードされる。
【００４７】
基板ステージが所定の位置にて、露光した基板Ｐをアンロードし、露光前の基板Ｐをロードしている間に、計測ステージＩの計測器は、計測ステージＩの表面Ｓに液浸空間ＬＳを維持した状態で、液浸空間ＬＳの液体を介した状態で、計測する。
【００４８】
ところで、基板Ｐの露光中、基板Ｐから発生（溶出）した物質（例えば感光材等の有機物）が、異物（汚染物、パーティクル）として液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１中に混入する可能性がある。液浸空間ＬＳの露光液体ＬＱ１中に異物が混入すると、液浸部材６の回収部８に異物が付着する可能性がある。それら露光液体ＬＱ１と接触する露光装置ＥＸ内の所定部材の表面（液体接触面）に異物が付着している状態を放置しておくと、その異物が露光中に基板Ｐに付着する可能性がある。また、液浸部材６の回収部８が汚染されると、例えば液浸空間ＬＳを良好に形成できなくなる可能性もある。その結果、露光不良が発生する可能性がある。
【００４９】
本実施形態では、露光液体ＬＱ１と接触する部材の内、液浸部材６の回収部８の多孔部材１９に付着した異物を除去する洗浄を例に説明する。なお、洗浄する場所は、多孔部材１９に限られず、例えば、終端光学素子１０、平坦部材Ｆでも構わない。
【００５０】
本実施形態においては、計測ステージＩに搭載される振動部材Ｃを用いて多孔部材１９に付着した異物を除去する洗浄を行なう。本実施形態では、多孔部材１９の洗浄では、露光液体ＬＱ１を用いる。
【００５１】
本実施形態では、所定枚数の基板の露光、若しくは所定期間の露光をした後に、多孔部材１９の洗浄を行う。なお、不図示の観察装置（例えば、カメラ）を用い、例えば下面８ａを観察し、異物を除去する洗浄が必要だと判断された場合に、多孔部材１９の洗浄を開始しても構わない。この場合に、多孔部材１９とは異なる場所（例えば基板ステージ２の表面Ｈ）を観察し、多孔部材１９に付着している異物を除去する洗浄の必要の有無を判断しても構わない。
【００５２】
図６に示すように、多孔部材１９の洗浄では、液浸部材６と計測ステージＩとを対向した状態で、露光液体ＬＱ１による液浸空間ＬＳを形成する。供給口７ａから露光液体ＬＱ１を供給し、供給された露光液体ＬＱ１は、回収口８ａから回収することで、露光液体ＬＱ１による液浸空間ＬＳを形成する。多孔部材１９の洗浄時は、露光液体ＬＱ１による液浸空間ＬＳと多孔部材１９とが接触する。また、基板Ｐの露光時においては、露光液体ＬＱ１の界面が、多孔部材１９にあったが、多孔部材１９の洗浄時には、露光液体ＬＱ１の界面は、多孔部材１９の外側（開口６Ｋに対して、外側）にある方が望ましい。基板Ｐの露光時の露光液体ＬＱ１の液浸空間ＬＳの大きさと、多孔部材１９の洗浄時の非露光液体ＬＱ２の液浸空間ＬＳの大きさとは、同じでなくても構わない。
【００５３】
供給口７ａからの露光液体ＬＱ１の供給と、供給された露光液体ＬＱ１の回収口８ａの回収とを行いながら、液浸空間ＬＳを形成した状態で、露光液体ＬＱ１を介して、振動部材Ｃと多孔部材１９とを対向させる。本実施形態においては、ＸＹ平面において、振動部材Ｃの振動により露光液体ＬＱ１に発生する音波の断面積で、その断面積よりも広い面積の多孔部材１９を洗浄するので、ＸＹ平面において、計測ステージＩを駆動させることにより振動部材Ｃを移動させる。すなわち、ＸＹ平面において、振動部材Ｃの面積は、多孔部材１９の面積よりも小さい。振動部材Ｃを移動させることで、多孔部材１９において、音波が到達する部分が変わる。本実施形態においては、図４に示す凹部Ｂを洗浄した後に、振動部材Ｃを移動させて、凸部Ｄの洗浄を行う。なお、凸部Ｄを凹部Ｂよりも先に洗浄しても構わない。
【００５４】
ところで、上述したように、多孔部材１９には凹部Ｂと凸部Ｄとが含まれているので、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを移動させると、凹部Ｂを洗浄するときの凹部と振動部材ＣとのＺ軸方向における距離と、凸部Ｄを洗浄するときの凸部Ｄと振動部材ＣとのＺ軸方向における距離とが異なる。本実施形態において、振動部材Ｃの表面は、ＸＹ平面と平行なので、振動部材Ｃの振動による音波は、Ｚ軸方向に沿って伝播する。したがって、凹部Ｂを洗浄するときの露光液体ＬＱ１を音波が伝播する距離と、凸部Ｄを洗浄するときの露光液体ＬＱ１を音波が伝播する距離とは異なる。したがって、凹部Ｂと凸部Ｄとに、音波の腹部分Ｒが到達しないために、凹部Ｂと凸部Ｄとに到達する音波の振動が、腹部分Ｒに比べて小さくなり、洗浄効率が低下する可能性がある。
【００５５】
本実施形態においては、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを移動させると、凹部Ｂでは音波の腹部分Ｒでの洗浄、凸部Ｄでは音波の節部分Ｆでの洗浄になる場合を例に説明する。
【００５６】
凹部Ｂの洗浄では、振動部材ＣのＺ軸方向の位置と凹部ＢのＺ軸方向の位置とが算出され、Ｚ軸方向に沿った振動部材Ｃと凹部Ｂとの距離が算出される。また、本実施形態では、すでに洗浄に用いる液体（露光液体ＬＱ１）と、振動部材Ｃの周波数とから、音波の波長が算出される。これらに基づいて、凹部Ｂの洗浄では、音波の腹部分Ｒが到達するための、振動部材Ｃの位置が決定される。
【００５７】
本実施形態では、凹部Ｂの洗浄した後に、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを、凸部Ｄを洗浄する場所まで移動させる。凸部Ｄで音波の腹部分Ｒでの洗浄となるように、音波の伝播するＺ軸方向に沿った、振動部材Ｃと凸部Ｄとの距離が、変更される。すでに算出した振動部材Ｃの振動により露光液体ＬＱ１に発生する音波の波長から、腹部分Ｒでの洗浄となるように振動部材Ｃと凸部Ｄとの距離を算出する。算出された距離となるように、凸部Ｄを洗浄する場所において、振動部材ＣをＺ軸方向に沿って移動させる。上述したように、液体中を伝播する音波は、腹部分Ｒと節部分Ｆとが１／４波長毎に繰り返すので、凸部Ｄを洗浄する場所において、振動部材ＣをＺ軸方向に沿って、１／４波長よりも短い範囲内で移動させる。移動する方向は、振動部材Ｃと多孔部材１９との距離を短くする＋Ｚ軸方向でも構わないし、振動部材Ｃと多孔部材１９との距離を長くする−Ｚ軸方向でも構わない。振動部材Ｃの移動距離が短くなるように、＋Ｚ軸方向、−Ｚ軸方向に移動させるのが望ましい。本実施形態では、多孔部材１９に凹凸部Ｏが含まれている場合でも、多孔部材１９の全てに音波の腹部分Ｒを到達させ、多孔部材１９を洗浄することができる。多孔部材１９の洗浄が終了した後に、基板ステージ２に保持された基板Ｐの露光を開始する。
【００５８】
なお、本実施形態では、多孔部材１９の凹凸部Ｏには凹部Ｂと凸部Ｄがそれぞれ一つ設けられているが、複数設けられていても構わない。また、本実施形態では、凹部Ｂと凸部Ｄとが隣りあって設けられていたが、所定面において、凹部Ｂと凸部Ｄとが別々に、分離して設けられていても構わない。
【００５９】
なお、上述したように、Ｚ軸方向において、凸部Ｄと凹部Ｂとは１／４波長以上離れているので、凸部Ｄを洗浄する際に、振動部材Ｃを１／４波長以上の範囲で移動させても構わない。例えば、凹部Ｂの洗浄で、腹部分Ｒが到達する様な凹部Ｂと振動部Ｃとの距離を算出したが、その算出された距離を維持したまま、多孔部材１９の凹凸部Ｏの形状に基づいて、振動部材Ｃを移動させ、洗浄しても構わない。
【００６０】
なお、本実施形態では、凹部Ｂを洗浄した後に、ＸＹ平面に沿って振動部Ｃを移動させ、凸部Ｄの洗浄をするために、Ｚ軸方向に振動部Ｃを移動させたが、振動部Ｃの移動方向はこれに限られない。例えば、凹部Ｂを洗浄した後に、ＸＹ平面と交差する平面に沿って振動部Ｃを移動させても構わない。
【００６１】
以上、説明したように、本実施形態では、液浸部材６を洗浄する場合に、液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液浸部材６と振動部Ｃとの位置関係を変更した。したがって、液浸部材６に対して、振動部材Ｃの振動により発生する音波の腹部分Ｒを到達することができる。したがって、振動部Ｃを用い、液浸部材６を良好に洗浄することができる。したがって、露光不良を抑制することができる。
【００６２】
〈第２実施形態〉
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については、同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【００６３】
本実施形態では、多孔部材１９を洗浄する際に、多孔部材１９と振動部材Ｃとの間の露光液体ＬＱ１の温度を調整する。
【００６４】
上述した通り、液体中の音波の速度に基づいて、音波の波長は変わる。また、その液体の温度に基づいて、液体中の音波の速度は変わる。そこで、本実施形態では、多孔部材１９を洗浄する際に、多孔部材１９と振動部材Ｃとの間の露光液体ＬＱ１の温度を調整し、露光液体ＬＱ１中の音波の波長を変える。本実施形態では、予め露光形態ＬＱ１の各温度における、所定周波数の振動部材Ｃにより発生する露光液体ＬＱ１中の音波の波長の情報を、制御装置が記憶している。
【００６５】
本実施形態においては、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを移動させると、凹部Ｂでは音波の腹部分Ｒでの洗浄、凸部Ｄでは音波の節部分Ｆでの洗浄になる場合を例に説明する。
【００６６】
凹部Ｂでの洗浄した後に、ＸＹ平面に沿って振動部材Ｃを移動させたときの、Ｚ軸方向に沿った凹部Ｂと振動部材Ｃとの距離を算出する。記憶されている、露光液体ＬＱ１の各温度における、露光液体ＬＱ１での音波の波長と、算出されたＺ軸方向に沿った凹部Ｂと振動部材Ｃとの距離とから、凸部Ｄに腹部分Ｒを到達させるために必要な露光液体ＬＱ１の温度を算出する。算出された温度となるように、供給部７から供給される露光液体ＬＱ１の温度を、液体供給装置を用いて調整する。
【００６７】
なお、液体中の音波の波長と、液浸部材６と振動部材Ｃとの位置関係の一方のみではなく、両方を変更しても構わない。また、洗浄において液体の温度変化にともない、液体中の音波の波長が変化しないように、所定温度の液体を振動部材Ｃに供給するようにしても構わない。
【００６８】
以上、本実施形態では、液浸部材６を洗浄する場合に、液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液体中の音波の波長を変更した。したがって、液浸部材６に対して、振動部材Ｃの振動により発生する音波の腹部分Ｒを到達することができる。したがって、振動部材Ｃを用い、液浸部材６を良好に洗浄することができる。したがって、露光不良を抑制することができる。
【００６９】
〈第３実施形態〉
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については、同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【００７０】
本実施形態においては、多孔部材１９を洗浄する際に、多孔部材１９と振動部材Ｃとの間を非露光液体ＬＱ２で満たして、多孔部材１９の洗浄を実行する。本実施形態では、非露光液体ＬＱ２として、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を用いる。
【００７１】
多孔部材１９の洗浄では、液浸部材６と計測ステージＩとを対向した状態で、非露光液体ＬＱ２による液浸空間ＬＳを形成する。供給口７ａから非露光液体ＬＱ２を供給し、供給された非露光液体ＬＱ２は、回収口８ａから回収することで、非露光液体ＬＱ２による液浸空間ＬＳを形成する。多孔部材１９の洗浄時は、非露光液体ＬＱ２による液浸空間ＬＳと多孔部材１９とが接触する。また、基板Ｐの露光時においては、露光液体ＬＱ１の界面が、多孔部材１９にあったが、多孔部材１９の洗浄時には、非露光液体ＬＱ２の界面は、多孔部材１９の外側（開口６Ｋに対して、外側）にある方が望ましい。基板Ｐの露光時の露光液体ＬＱ１の液浸空間ＬＳの大きさと、多孔部材１９の洗浄時の非露光液体ＬＱ２の液浸空間ＬＳの大きさとは、異なっていても構わない。
【００７２】
本実施形態においては、第１の実施形態における露光液体ＬＱ１を用いた多孔部材１９の洗浄した後に、露光液体ＬＱ１とは異なる非露光液体ＬＱ２を用いた多孔部材１９の洗浄を行う場合を説明する。本実施形態では、予め液体の種類毎の、所定周波数の振動部材Ｃにより発生する液体中の音波の波長の情報を、制御装置が記憶している。
【００７３】
露光液体ＬＱ１と非露光液体ＬＱ２で液体の種類が異なるので、それぞれの液体中での音波の速度が異なる。したがって、露光液体ＬＱ１と非露光液体ＬＱ２での音波の波長が異なる。そこで、本実施形態では、非露光液体のＬＱ２の音波の波長から、凹部Ｂに腹部分Ｒが到達するように、Ｚ軸方向に沿った凹部Ｂと振動部材Ｃとの距離、凸部Ｄと振動部材Ｃとの距離を算出し、算出された距離に基づいて洗浄を行う。本実施形態において、露光液体ＬＱ１と非露光液体ＬＱ２とは異なり、液体中の音波の波長が異なるので、算出される距離も液体の種類によって異なる。
【００７４】
なお、上述の実施形態では、供給口７ａから供給される非露光液体ＬＱ２により液浸空間ＬＳを形成したが、供給口７ａとは異なる場所から供給される非露光液体ＬＱ２により液浸空間ＬＳを形成しても構わない。例えば、液浸部材６の供給口７ａとは異なる、非露光液体ＬＱ２を供給する供給口を、液浸部材６の回収口８の外側に設け、非露光液体ＬＱ２を供給しても構わない。また、例えば、計測ステージＩに非露光液体ＬＱ２を供給する供給口を設け、非露光液体ＬＱ２を供給しても構わない。また、例えば、液浸部材６の回収口８から非露光液体ＬＱ２を供給しても構わない。この場合に、供給された非露光液体ＬＱ２を回収可能な回収口を回収部８の外側に設け、供給された非露光液体ＬＱ２を回収しても構わない。
【００７５】
なお、非露光液体ＬＱ２の洗浄は、露光液体ＬＱ１の洗浄した後でなくても構わない。また、非露光液体ＬＱ２の洗浄は、用いる液体の種類を変えて複数回行っても構わない。また、露光液体ＬＱ１の洗浄と非露光液体ＬＱ２の洗浄とを複数回繰り返しても構わない。
【００７６】
以上、説明したように、本実施形態では、液浸部材６を洗浄する場合に、液浸部材６と振動部材Ｃとの間の液体の種類に基づいて、液体中の音波の波長を算出した。算出された音波の波長に基づいて、液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液浸部材６と振動部材Ｃとの位置関係を変更した。したがって、液浸部材６に対して、振動部材Ｃの振動により発生する音波の腹部分Ｒを到達することができる。したがって、振動部材Ｃを用い、液浸部材６を良好に洗浄することができる。したがって、露光不良を抑制することができる。
【００７７】
なお、液浸部材６と振動部材Ｃとの位置関係を変更する場合は、上述の凹凸部Ｏに限られない。例えば、多孔部材１９にＺ軸方向に対して垂直なＸＹ平面と交差する傾斜部を備えている場合も、液浸部材６と振動部材Ｃとの位置関係を変更する。図７には、傾斜部を備える多孔部材１９の一例を示している。図７に示すように、傾斜部の第１部分Ｊと、傾斜部の第２部分Ｋとを洗浄する場合を例に説明する。傾斜部の場合においても、第１点の洗浄でのＺ軸方向における振動部材Ｃと第１点Ｊとの距離と、第２点の洗浄でのＺ軸方向における振動部材Ｃと第２点Ｋとの距離とが異なる。したがって、凹凸部Ｄと同様に、洗浄対象に音波の腹部分Ｒが到達するように、傾斜部と振動部材Ｃとの位置関係を変更する。
【００７８】
なお、振動部材Ｃの振動による液体中の音波が伝播する距離を、振動部材ＣをＺ軸方向に沿って移動して変えたがこれに限られない。例えば、洗浄対象である液浸部材６を駆動可能として、Ｚ軸方向に沿って移動させても構わない。また、例えば、図８に示すように、振動部材Ｃを、Ｙ軸を中心に（θＹ）傾けることで、液体中の音波が液浸部材６までの伝播する距離を変えることができる。液体中の音波が伝播する方向は、また、例えば、図９に示すように、液体中の音波を反射する反射部材を配置することで、音波の伝播する距離を変えることができる。
【００７９】
なお、上述の実施形態では、計測ステージＩに振動部材Ｃを搭載して、振動部材Ｃを振動させて、液浸部材６を洗浄したが、振動を発生する方法はこれに限られない。例えば、計測ステージＩと液浸部材６との間に液浸空間ＬＳを形成した状態で、計測ステージＩを所定の周期で振動させ、液浸空間ＬＳに音波を発生させても構わない。
【００８０】
なお、上述の実施形態では、振動部材Ｃを搭載させる場所は、計測ステージＩに限られない。例えば、基板ステージ２でも構わない。この場合に、基板に振動子Ｃを搭載し、振動子Ｃを搭載した基板を、基板保持部ＰＨで保持しても構わない。また、基板ステージ２及び計測ステージＩとは異なるステージを設け、その異なるステージに振動子Ｃを搭載しても構わない。
【００８１】
なお、上述の実施形態では、計測ステージＩのＺステージＩ１をＺ軸方向に沿って移動させ、Ｚ軸方向に沿って振動部材Ｃを移動させたが、振動部材Ｃの位置の変更方法はこれに限られない。例えば、計測ステージＩと独立して振動部材Ｃを駆動可能としても構わない。
【００８２】
なお、上述の実施形態では、一つの振動部材Ｃを搭載したが、複数の振動部材Ｃを搭載しても構わない。例えば、複数の振動部材ＣのＺ軸方向における位置が異なっていても構わない。Ｚ軸方向において振動部材Ｃの位置が異なるので、Ｚ軸方向における振動部材Ｃと洗浄対象との距離も、複数の振動部材Ｃのそれぞれで異なる。したがって、複数の振動部材Ｃの内、洗浄対象において、腹部分Ｒの音波を到達できる振動部材Ｃを、複数の振動部材Ｃの中から選択して、洗浄に使用しても構わない。
【００８３】
なお、上述の実施形態では、振動部材Ｃから発生する振動の周波数は、一つであったが、複数の周波数から選択できるようにしても構わない。上述したように、周波数に基づいて、発生する音波の波長を変えることができる。したがって、複数の周波数の内、洗浄対象において、腹部分Ｒの音波を到達できる周波数を、複数の周波数の中から選択して、洗浄に使用しても構わない。
【００８４】
なお、上述の実施形態では、液浸部材６と振動部材Ｃを搭載した計測ステージとを対向して、液浸部材６を洗浄したが、対向させる物体を、露光装置ＥＸの外部から内部に搬入し、洗浄しても構わない。例えば、米国特許出願公開第２００８／０１８８６７号明細書に開示されているようなメンテナンス機器を対向して、洗浄しても構わない。メンテナンス機器に搭載した振動部材と液浸部材との位置関係を変更しても構わない。
【００８５】
なお、上述の各実施形態においては、露光液体ＬＱ１として水を用いているが、水以外の液体であってもよい。露光液体ＬＱ１としては、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）などの膜に対して安定なものが好ましい。例えば、露光液体ＬＱ１として、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等を用いることも可能である。また、露光液体ＬＱ１として、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。
【００８６】
なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００８７】
なお、露光装置ＥＸとしては、スキャニングステッパを用いた、露光装置はこれに限らない。マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次移動させるステップ・リピート方式でも構わない。
【００８８】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００８９】
また、例えば対応米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【００９０】
また、本発明は、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。
【００９１】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００９２】
また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許第７０２３６１０号明細書に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。さらに、上記実施形態では、前述の各照明領域と、投影領域がそれぞれ矩形状であるものとしたが、他の形状、例えば円弧状などでもよい。
【００９３】
なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、反射型マスクでも構わない。また、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）等を含む。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。自発光型画像表示素子としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤディスプレイ、ＬＤディスプレイ、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等が挙げられる。
【００９４】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。
【００９５】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【００９６】
以上のように、本願実施形態の露光装置ＥＸは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００９７】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１０に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること（露光処理）、及び露光された基板を現像することを含む基板処理を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【００９８】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【００９９】
６---液浸部材、Ｃ---振動部材、ＬＱ１---露光液体、ＬＳ---液浸空間
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本実施形態における露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。
【図２】基板ステージ２に液浸空間ＬＳが形成されている状態を示す図である。
【図３】本実施形態における回収部８の一例を示す図である。
【図４】本実施形態における多孔部材１９の一例を示す図である。
【図５】本実施形態における、液体に伝播する音波の様子の一例を示す図である。
【図６】計測ステージＩに液浸空間ＬＳが形成されている状態を示す図である。
【図７】本実施形態における多孔部材１９の一例を示す図である。
【図８】本実施形態における、液体に伝播する音波の様子の一例を示す図である。
【図９】本実施形態における、液体に伝播する音波の様子の一例を示す図である。
【図１０】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１液体を介して基板を露光する露光装置の、前記第１液体に接触する接液部材の洗浄方法であって、
前記接液部材を、第２液体に接触させることと、
振動部を振動させることによって、前記第２液体中に発生する音波を前記第２液体中で伝播させ、前記接液部材の表面の第１点に所定方向から到達させることで、前記第１点を洗浄することと、
前記振動部を振動させることによって、前記第２液体中に発生する音波を前記第２液体中で伝播させ、前記接液部材の表面の前記第１点とは異なる第２点に前記所定方向から到達させることで、前記第２点を洗浄することと、
前記第１点の洗浄と前記第２点の洗浄とで、前記音波の波長と、前記接液部材と前記振動部との前記所定方向の位置関係との少なくとも一方を変更することと、を含む洗浄方法。
【請求項２】
前記接液部材の表面の形状に基づいて、前記音波の波長と、前記接液部材と前記振動部との位置関係との少なくとも一方が変更される請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記所定方向において、前記第１、第２点の位置が異なる請求項１又は２に記載の洗浄方法。
【請求項４】
前記第１、第２点の位置が、前記音波の１/４以上離れている請求項３に記載の洗浄方法。
【請求項５】
前記接液部材の表面の形状には、凹凸が含まれ、
前記凹凸に、前記第１、第２点が配置される請求項３又は４に記載の洗浄方法。
【請求項６】
前記露光装置は、前記露光光を射出する投影光学系を備え、
前記接液部材の表面の形状には、前記投影光学系の光軸に対して垂直な面に対する傾斜部分が含まれ、
前記傾斜部分に前記第１、第２点が配置される請求項３〜５の何れか一項に記載の洗浄方法。
【請求項７】
前記第１点の洗浄で前記音波の伝播する距離と、前記第２点の洗浄で前記音波の伝播する距離との差が、前記音波の波長の１／４より短い範囲となるように、前記所定方向において前記接液部材と前記振動部との位置関係を変更する請求項１〜６の何れか一項に記載の洗浄方法。
【請求項８】
前記接液部材は、前記露光光の光路の少なくとも一部が前記第１液体で満たされるように前記基板との間で前記第１液体を保持し、
前記接液部材は、前記第１液体を供給する供給口と前記供給された第１液体を回収する回収口との少なくとも一方を備える請求項1〜７のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項９】
前記回収口には、多孔部材が配置される請求項８に記載の洗浄方法。
【請求項１０】
前記供給口と前記回収口との少なくとも一方を用い、前記第２液体の供給と前記第２液体の回収との少なくとも一方を行う請求項８又は９に記載の洗浄方法。
【請求項１１】
前記第２液体は、前記接液部材に対向して物体が配置された状態で供給される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項１２】
前記物体は移動可能なステージを含み、
前記ステージに、前記振動部が搭載される請求項１１に記載の洗浄方法。
【請求項１３】
前記ステージは、前記基板を保持せずに、前記露光光を計測する計測器を搭載する請求項１２に記載の洗浄方法。
【請求項１４】
前記第１液体と前記第２液体とは同じである請求項１〜１３の何れか一項に記載の洗浄方法。
【請求項１５】
請求項１〜１４の何れか一項に記載の洗浄方法で、前記接液部材を洗浄することと、
前記基板を露光することと、
前記露光した前記基板を現像することと、を含むデバイスの製造方法。
【請求項１６】
第１液体を介して基板を露光する露光装置であって、
前記第１液体に接触する接液部材と、
振動部と、を備え、
前記接液部材と、第２液体とを接触させた状態で、前記振動部を振動させることによって、前記第２液体中に発生する音波を前記接液部材に伝播し、前記接液部材の表面に所定方向から到達させることで、前記接液部材を洗浄する場合に、前記所定方向からの前記音波を到達することで、前記接液部材の表面の第１点を洗浄する時と、前記所定方向からの前記音波を到達することで、前記接液部材の表面の前記第１点とは異なる第２点を洗浄する時とで、前記音波の波長と、前記接液部材と前記振動部との前記所定方向の位置関係との少なくとも一方を変更する露光装置。
【請求項１７】
前記接液部材の表面の形状に基づいて、前記音波の波長と、前記接液部材と前記振動部の位置関係との少なくとも一方が変更される請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記所定方向において、前記第１、第２点の位置が異なる請求項１６又は１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第１、第２点の位置が、前記音波の１/４以上離れている請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記接液部材の表面の形状には、凹凸が含まれ、
前記凹凸に、前記第１、第２点が配置される請求項１８又は１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
さらに、前記露光光を射出する投影光学系を備え、
前記接液部材の表面の形状には、前記投影光学系の光軸に対して垂直な面に対する傾斜部が含まれ、
前記傾斜部に前記第１、第２点が配置される請求項１８〜２０の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記第１点の洗浄で前記音波の伝播する距離と、前記第２点の洗浄で前記音波の伝播する距離との差が、前記音波の波長の１／４より短い範囲内となるように、前記所定方向において前記接液部材と前記振動部の位置関係を変更する請求項１６〜２１の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
さらに、前記接液部材は、前記露光光の光路の少なくとも一部が前記第１液体で満たされるために、前記第１液体を供給する供給口と前記供給された第１液体を回収する回収口とを含む請求項１６〜２２の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記回収口には、多孔部材が配置される請求項２３に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記第１、第２供給口及び前記回収口の少なくとも一つを用い、前記第２液体を供給し、前記第２供給口と前記回収口の少なくとも一つを用い前記供給された第２液体を回収する請求項２３又は２４に記載の露光装置
【請求項２６】
さらに、前記振動部を搭載し、移動可能なステージとを備え、
前記第２液体は、前記接液部材に対向して前記ステージが配置された状態で供給される請求項１６〜２５の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２７】
前記ステージは、前記基板を保持せずに、前記露光光を計測する計測器を搭載する請求項２６に記載の露光装置。
【請求項２８】
前記第１液体と前記第２液体とは同じである請求項１６〜２７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２９】
請求項１６〜２８の何れか一項に記載の露光装置で、前記接液部材を洗浄することと、
前記基板を露光することと、
前記露光した前記基板を現像することと、を含むデバイスの製造方法。
【請求項１】
第１液体を介して基板を露光する露光装置の、前記第１液体に接触する接液部材の洗浄方法であって、
前記接液部材を、第２液体に接触させることと、
振動部を振動させることによって、前記第２液体中に発生する音波を前記第２液体中で伝播させ、前記接液部材の表面の第１点に所定方向から到達させることで、前記第１点を洗浄することと、
前記振動部を振動させることによって、前記第２液体中に発生する音波を前記第２液体中で伝播させ、前記接液部材の表面の前記第１点とは異なる第２点に前記所定方向から到達させることで、前記第２点を洗浄することと、
前記第１点の洗浄と前記第２点の洗浄とで、前記音波の波長と、前記接液部材と前記振動部との前記所定方向の位置関係との少なくとも一方を変更することと、を含む洗浄方法。
【請求項２】
前記接液部材の表面の形状に基づいて、前記音波の波長と、前記接液部材と前記振動部との位置関係との少なくとも一方が変更される請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記所定方向において、前記第１、第２点の位置が異なる請求項１又は２に記載の洗浄方法。
【請求項４】
前記第１、第２点の位置が、前記音波の１/４以上離れている請求項３に記載の洗浄方法。
【請求項５】
前記接液部材の表面の形状には、凹凸が含まれ、
前記凹凸に、前記第１、第２点が配置される請求項３又は４に記載の洗浄方法。
【請求項６】
前記露光装置は、前記露光光を射出する投影光学系を備え、
前記接液部材の表面の形状には、前記投影光学系の光軸に対して垂直な面に対する傾斜部分が含まれ、
前記傾斜部分に前記第１、第２点が配置される請求項３〜５の何れか一項に記載の洗浄方法。
【請求項７】
前記第１点の洗浄で前記音波の伝播する距離と、前記第２点の洗浄で前記音波の伝播する距離との差が、前記音波の波長の１／４より短い範囲となるように、前記所定方向において前記接液部材と前記振動部との位置関係を変更する請求項１〜６の何れか一項に記載の洗浄方法。
【請求項８】
前記接液部材は、前記露光光の光路の少なくとも一部が前記第１液体で満たされるように前記基板との間で前記第１液体を保持し、
前記接液部材は、前記第１液体を供給する供給口と前記供給された第１液体を回収する回収口との少なくとも一方を備える請求項1〜７のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項９】
前記回収口には、多孔部材が配置される請求項８に記載の洗浄方法。
【請求項１０】
前記供給口と前記回収口との少なくとも一方を用い、前記第２液体の供給と前記第２液体の回収との少なくとも一方を行う請求項８又は９に記載の洗浄方法。
【請求項１１】
前記第２液体は、前記接液部材に対向して物体が配置された状態で供給される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項１２】
前記物体は移動可能なステージを含み、
前記ステージに、前記振動部が搭載される請求項１１に記載の洗浄方法。
【請求項１３】
前記ステージは、前記基板を保持せずに、前記露光光を計測する計測器を搭載する請求項１２に記載の洗浄方法。
【請求項１４】
前記第１液体と前記第２液体とは同じである請求項１〜１３の何れか一項に記載の洗浄方法。
【請求項１５】
請求項１〜１４の何れか一項に記載の洗浄方法で、前記接液部材を洗浄することと、
前記基板を露光することと、
前記露光した前記基板を現像することと、を含むデバイスの製造方法。
【請求項１６】
第１液体を介して基板を露光する露光装置であって、
前記第１液体に接触する接液部材と、
振動部と、を備え、
前記接液部材と、第２液体とを接触させた状態で、前記振動部を振動させることによって、前記第２液体中に発生する音波を前記接液部材に伝播し、前記接液部材の表面に所定方向から到達させることで、前記接液部材を洗浄する場合に、前記所定方向からの前記音波を到達することで、前記接液部材の表面の第１点を洗浄する時と、前記所定方向からの前記音波を到達することで、前記接液部材の表面の前記第１点とは異なる第２点を洗浄する時とで、前記音波の波長と、前記接液部材と前記振動部との前記所定方向の位置関係との少なくとも一方を変更する露光装置。
【請求項１７】
前記接液部材の表面の形状に基づいて、前記音波の波長と、前記接液部材と前記振動部の位置関係との少なくとも一方が変更される請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記所定方向において、前記第１、第２点の位置が異なる請求項１６又は１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第１、第２点の位置が、前記音波の１/４以上離れている請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記接液部材の表面の形状には、凹凸が含まれ、
前記凹凸に、前記第１、第２点が配置される請求項１８又は１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
さらに、前記露光光を射出する投影光学系を備え、
前記接液部材の表面の形状には、前記投影光学系の光軸に対して垂直な面に対する傾斜部が含まれ、
前記傾斜部に前記第１、第２点が配置される請求項１８〜２０の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記第１点の洗浄で前記音波の伝播する距離と、前記第２点の洗浄で前記音波の伝播する距離との差が、前記音波の波長の１／４より短い範囲内となるように、前記所定方向において前記接液部材と前記振動部の位置関係を変更する請求項１６〜２１の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
さらに、前記接液部材は、前記露光光の光路の少なくとも一部が前記第１液体で満たされるために、前記第１液体を供給する供給口と前記供給された第１液体を回収する回収口とを含む請求項１６〜２２の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記回収口には、多孔部材が配置される請求項２３に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記第１、第２供給口及び前記回収口の少なくとも一つを用い、前記第２液体を供給し、前記第２供給口と前記回収口の少なくとも一つを用い前記供給された第２液体を回収する請求項２３又は２４に記載の露光装置
【請求項２６】
さらに、前記振動部を搭載し、移動可能なステージとを備え、
前記第２液体は、前記接液部材に対向して前記ステージが配置された状態で供給される請求項１６〜２５の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２７】
前記ステージは、前記基板を保持せずに、前記露光光を計測する計測器を搭載する請求項２６に記載の露光装置。
【請求項２８】
前記第１液体と前記第２液体とは同じである請求項１６〜２７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２９】
請求項１６〜２８の何れか一項に記載の露光装置で、前記接液部材を洗浄することと、
前記基板を露光することと、
前記露光した前記基板を現像することと、を含むデバイスの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１２−９４７９４（Ｐ２０１２−９４７９４Ａ）
【公開日】平成２４年５月１７日（２０１２．５．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２４３０５２（Ｐ２０１０−２４３０５２）
【出願日】平成２２年１０月２９日（２０１０．１０．２９）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年５月１７日（２０１２．５．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月２９日（２０１０．１０．２９）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
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