【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板を保持する第１保持部１５と、第１保持部１５の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面が対向可能なスケール部材Ｔと、を有し、所定面内を移動可能な基板ステージ２Ｐと、所定面内を移動するスケール部材Ｔの表面が対向可能な位置に配置され、スケール部材Ｔの表面の異物を除去可能な除去部材を有する除去装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】重ね合わせ精度を高精度に計測し、計測終了から液浸法による露光開始までの時間を短縮する。
【解決手段】重ね合わせ精度の計測方法であって、液浸法でウエハの複数のショット領域に第１及び第２重ね合わせ計測マークの像を順次露光するステップ３０２，３０６と、アライメント系を介して、ウエハの第１組の複数のショット領域の第１及び第２重ね合わせ計測マーク間の位置ずれ量を計測するステップ３１６と、ウエハが液体に接触しないようにウエハを１８０°回転するステップ３１８と、アライメント系を介してウエハの第２組のショット領域の第１及び第２重ね合わせ計測マーク間の位置ずれ量を計測するステップ３２４と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 露光パターンの線幅精度の悪化を抑制する露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第１の波長を有し、パルス発振された第１照明光と、第１の波長とは異なる第２の波長を有し、パルス発振された第２照明光とをマスクへ照射する照射ユニットを備え、照射ユニットは、第１照明光がマスクに照射されるタイミングと、第２照明光がマスクに照射されるタイミングとが所定時間ずれるように、第１照明光と第２照明光との照射のタイミングを設定する遅延設定部を含む露光装置。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有し、物体と射出面との間に液体が保持される第１空間を形成する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面の周囲に配置される光学部材の第１面との間で第１空間の液体の少なくとも一部が流入可能な第２空間を形成する第２面を有する液浸部材と、第２空間の圧力変動を抑制するバッファ装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置のマスクや光学系の表面に付着した炭素コンタミネーションを、当該マスクや光学系にダメージを与えることなく、効率的に分解・除去する。
【解決手段】クリーニング装置４０は、表面に炭素コンタミネーション４４が付着した多層膜ミラー４１を収容する処理室４３を備えている。処理室４３の上面には、水銀ランプ４５を備えた光照射装置４６が設置され、この水銀ランプ４５から発する波長２５４ｎｍの深紫外光が処理室４３の内部に照射される。また、処理室４３の内部には、酸素供給源５１から酸素ガスが導入され、不飽和炭化水素供給源５２からエチレンガスが導入される。処理室４３の内部に導入された酸素ガスおよびエチレンガスに深紫外光が照射されると、これらのガスから生じたイオンやラジカルが炭素コンタミネーション４４を分解する。 （もっと読む）

【課題】回収口での液体の回収に有利な技術を提供する。
【解決手段】投影光学系を有し、前記投影光学系及び液体を介して基板を露光する露光装置であって、前記投影光学系と前記基板との間に供給された前記液体を回収する複数の回収口と、前記複数の回収口に接続されたチャンバと、前記複数の回収口及び前記チャンバを介して前記液体を吸引するポンプと、を有し、前記複数の回収口は、多角形の各辺の頂点間及び各頂点に離散的に配列され、前記複数の回収口のうち前記各頂点に位置する回収口と前記ポンプとの間の圧力差は、前記複数の回収口のうち前記各辺の頂点間に位置する回収口と前記ポンプとの間の圧力差より小さい、ことを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置の制御方法を提供する。
【解決手段】制御方法は、基板の露光時において、供給口から光学部材及び液浸部材と基板との間の第１空間に液体を供給し、液体の少なくとも一部を第１回収口から回収して第１液浸空間を形成することと、第１回収口を介して回収された流体が流れる回収流路に面するように配置された第１排出口及び第１排出口よりも液体の流入が抑制された第２排出口から回収流路の流体を排出することと、基板の非露光時において、光学部材及び液浸部材と物体との間の第２空間に供給口から液体を供給し、第１、第２排出口から第１、第２排出量で流体を排出して第２空間の液体を第１回収口から回収することと、供給口から液体を供給しつつ、第１、第２排出口から第１、第２排出量より低減された第３、第４排出量で流体を排出して、第１液浸空間よりも大きい第２液浸空間を形成することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光装置のステージ上に搭載された複数の部材間に存在する隙間への液体の侵入を防止できる液浸露光装置を提供する。
【解決手段】 液体を介して基板を露光する露光装置であって、複数の部材からその表面が組み立てられたステージと、前記ステージの表面に存在する、前記部材間の少なくとも一つの隙間を封止する封止材を備える。前記封止材としては、細長状のフッ素樹脂製チューブ、テープ及び外側の面にフッ素樹脂層が設けられた金属箔からなる管を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】密着性の良好な撥液処理層を形成するための液浸露光装置用撥液処理組成物、および撥液処理方法を提供する。
【解決手段】この組成物は、露光ビームを照射し液体を介して基材を露光する液浸露光装置の部材表面を撥液処理するための組成物であり、少なくとも下記一般式（１）で示される有機ケイ素化合物と溶剤とを含有することを特徴とする。式中、Ｒ^１は炭素数１４〜３０の１価の有機基、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の１価の有機基または加水分解性基であり、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４の少なくとも１つは加水分解性基である。
【化１】
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【課題】露光不良の発生を抑制できるクリーニング工具を提供する。
【解決手段】クリーニング工具４０は、光学部材の射出面から射出される露光光で基板を露光する露光装置に搬入され、露光装置の少なくとも一部をクリーニングする。クリーニング工具４０は、異物を捕捉可能な捕捉部４２を有し、捕捉部４２の上面と基板をリリース可能に保持する保持部３１を有する基板ステージ２が対向可能な露光装置の所定部材の下面とが所定ギャップを介して対向するように保持部３１に保持された状態で、所定部材の少なくとも一部をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】光学部材の射出面から射出される露光光で露光液体を介して露光基板を露光する露光装置のメンテナンス方法は、射出面が対向する位置に移動可能な基板ステージに配置され、露光基板をリリース可能に保持する第１保持部の周囲の少なくとも一部に形成される空間に第１液体を供給することと、空間に供給された第１液体の少なくとも一部を、空間に面する吸引口から吸引することと、第１保持部に物体が保持された状態で、光学部材と、物体及び物体の周囲の少なくとも一部に配置される所定部材の少なくとも一方との間に、第２液体で液浸空間を形成して、露光装置の少なくとも一部の温度調整を実行することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の露光性能を劣化させることなく、露光装置の構成部材を洗浄して露光を開始することができる露光装置を供給すること
【解決手段】 液浸液を介して基板を露光する露光装置内において、露光装置を構成して液浸液と接触する構成部材を洗浄する洗浄方法であって、洗浄液を用いて構成部材を洗浄し、すすぎ液を用いて洗浄時における洗浄液の液面よりもすすぎ液の液面を高くした状態で洗浄液を洗い流す。 （もっと読む）

【課題】 液体回収口を簡素な構造として、基板ステージ上の液体を分裂させることなく回収することができる液浸露光装置を提供する。
【解決手段】 液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置が、マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系と、基板を移動するステージと、投影光学系と基板との間に液体を供給する供給部と、回収口に設けられた多孔部材を介して液体を回収し、液体を回収するための回収流量が変更可能な回収部と、ステージの移動距離、移動速度および加速度のうち少なくとも１つに対して閾値を設け、ステージの移動距離、移動速度および加速度のうち少なくとも１つが該閾値以上の場合に、該閾値より小さい場合に比べ、回収部のうち少なくともステージの進行方向側の部分における液体の回収流量が小さくなるように回収部を制御する。 （もっと読む）

【課題】露光液体ＬＱ１と接触する液浸部材６を良好に洗浄できる技術の案出が望まれている。
【解決手段】
露光装置ＥＸは、露光液体ＬＱ１と接触する液浸部材６を備えている。液浸部材６と振動部材Ｃとの間で液浸空間ＬＳを形成した状態で、振動部材Ｃを振動させ、音波を液浸部材６に伝播することで、液浸部材６の洗浄を行う。液浸部材６のうち洗浄する場所によって、液浸部材６と振動部Ｃとの位置関係もしくは、音波の波長の少なくとも一方を変更する。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】光学部材の射出面から射出される露光光で液体を介して基板を露光する露光装置のメンテナンス方法は、脱気処理された第１の液体を介して射出面からの露光光が照射された非晶質フッ素樹脂を含有する膜の表面に、第１の液体よりも所定ガス濃度が高い第２の液体を供給することと、膜の表面に第２の液体を介して紫外光を照射することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】液浸露光における露光不良の発生を抑制する。
【解決手段】第１の態様の液浸部材３は、液浸露光装置において、光学部材８と物体との間の液体ＬＱを通過する露光光の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材３である。第１面、第１面と異なる方向を向く第２面、及び前記第１面と第２面とを結ぶ孔３２を有し、第１面と対向する物体上の液体の少なくとも一部を孔３２から回収可能な第１部材３１と、孔３２を通った液体ＬＱを含む流体Ｆ中の気泡の膨張を抑制する第２部材３４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】回転傾斜露光装置において、液体槽に溜められた液体に被照射物等が浸されることなく、液体を介して被照射物に露光光を照射することができるようにすること。
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸された被照射物保持構造体１０の光入射部３２から入射し被照射物Ｗに照射される。被照射物保持構造体１０は、防液部材３０、ステージ２１、回転モータ２２等から構成される。マスクＭ上にレジストＲを塗布した被照射物Ｗはステージ２１に載置され、被照射物ＷのマスクＭ側が防液部材３０の光入射部３２に密接するように配置される。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置された被照射物Ｗが回転する。被照射物Ｗが光入射部３２に密着しているので、液体中に被照射物Ｗを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト保護膜材料、更にはこの材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、側鎖にヘキサフルオロヒドロキシプロピル基を有する（メタ）アクリレート単位、側鎖にフッ素含有環状エーテル構造含有基を有する（メタ）アクリレート単位、及び側鎖にスルホン酸基を有するビニルモノマー単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲内である高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト保護膜材料。 （もっと読む）

【解決課題】
消耗部品の交換による運転停止が最小限ですみ、かつ装置構成を小型化可能な液浸露光用超純水の製造方法及び装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
液浸露光装置における投影光学系の最下面とレジスト間の露光光通過空間に供給される液浸露光用の超純水を製造するにあたり、流路に沿って複数の紫外線照射装置を直列配置し、その下流にイオン交換装置を配置して、ＴＯＣ１０ｐｐｂ以下の一次超純水を供給し、紫外線照射装置の一つを使用して液浸露光用の超純水を連続的に製造するとともに使用中の紫外線照射装置の性能を監視する。この紫外線照射装置の性能が所定のレベル以下になったとき、他の紫外線照射装置に切替えて連続運転を続ける。 （もっと読む）

【課題】部材をクリーニングして露光不良の発生を抑制できるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置のクリーニング方法は、露光の前及び後の少なくとも一方において、露光において基板の周囲の少なくとも一部に位置する所定部材の表面の、露光において露光光が照射されない所定領域に洗浄光を照射することを含む。 （もっと読む）