【課題】部分偏光を含む照明光や、偏光を発生させ又は解消させる性質を有する投影光学系によって結像される像を正確に計算する。
【解決手段】本実施の形態は投影光学系によって結像される像を計算によって予測する結像計算方法に関する。この方法では、まず、入射光の特性を示すストークスベクトルを取得する。次いで、このストークスベクトルを、偏光成分ベクトルと非偏光成分ベクトルとに分離する。偏光成分ベクトルは、第１の可干渉成分ベクトルと、第１の非可干渉性ベクトルとに分離され、非偏光成分ベクトルは、第２の可干渉成分ベクトルと、第２の非可干渉性ベクトルとに分離される。そして、第１の可干渉成分ベクトル、第１の非可干渉性ベクトル、第２の可干渉成分ベクトル、及び第２の非可干渉性ベクトルのそれぞれについて結像計算を行う。 （もっと読む）

【課題】最終的に希望する１パターン以上の露光面積分のマスクと、光源と、場所が必要になり、フィルム状製品の製造装置が大きくなる。
【解決手段】フィルム状製品の製造方法は、長尺状のフィルム９０を長手方向に搬送する搬送ステップと、予め定められた露光領域８０を露光する露光装置を用いて、前記フィルム９０を露光する露光ステップとを備え、前記搬送ステップおよび前記露光ステップにおいて、前記露光装置の前記露光領域における前記長手方向の長さよりも長く、切れ目なく前記フィルム９０を露光する。 （もっと読む）

【課題】露光光をＰ偏光又はＳ偏光の直線偏光に変換する部材が複数本の棒状の偏光変換素子により構成されている場合に、露光パターン形成用領域に未露光の領域が残ることを防止できる露光装置、偏光変換部材及びこれらを使用した露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置１は、露光光の照射位置に露光対象部材２を供給して前記露光対象部材上に形成された露光材料を連続的に露光する。露光装置１には、露光光を出射する光源１１、露光光を直線偏光させて透過させる偏光変換部材１５、及びマスク部１２が設けられている。偏光変換部材１５は、特定の直線偏光の露光光のみを透過させる複数個の棒状の偏光変換素子がその幅方向に接触し境界面が露光対象部材２の移動方向に対して傾斜するように配置されたものである。 （もっと読む）

【課題】画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさが異なる複数の露光対象部材を露光する場合においても、画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさに対応させてマスクを取り換える必要がない露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光光源１１、コンデンサレンズ１４、マスク１２が設けられており、露光光源１１から出射した露光光をコンデンサレンズ１４及びマスク１２に透過させる。マスク１２と露光対象部材２との間の露光光の光路上には、露光対象部材２における露光光の照射領域の大きさを調節可能なズームレンズ１６が設けられている。露光装置１には、必要に応じて、フライアイレンズ１３、偏光変換素子１５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】露光領域の拡大を容易になし得るようにする。
【解決手段】電気光学結晶材料からなる角柱状の部材の長軸に平行な対向面に夫々電極を設けて形成したスイッチング素子９と、該スイッチング素子９の長軸方向の両端面側に該スイッチング素子９を間にしてクロスニコルに配置された一対の偏光板１２Ａ，１２Ｂとで構成した複数の光スイッチ１１を被露光体６の面に平行な面内に配置して有するパターンジェネレータ３を備え、複数の光スイッチ１１を個別に駆動して一定の明暗模様の露光パターンを生成し、これを被露光体６に照射して露光する露光装置であって、パターンジェネレータ３の光射出面側に各スイッチング素子９の長手中心軸に光軸を合致させて設けられ、スイッチング素子９の光射出端面９ａの像を被露光体６上に縮小投影する複数のマイクロレンズ１７を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】装置全体を大型化することなく、Ｐ偏光及びＳ偏光の直線偏光の露光光の双方を選択的に出射可能である露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、光源１１からの露光光が入射されこれをＰ偏光の直線偏光及びＳ偏光の直線偏光の露光光に分割する偏光ビームスプリッタ１５が設けられている。そして、この偏光ビームスプリッタ１５は露光光の光軸を回転中心として回転可能に設けられていると共に、その回転中心に対する反射透過面の方向が９０°相違する第１の位置と第２の位置とに設定可能に構成されている。そして、偏光ビームスプリッタ１５の位置を第１の位置と第２の位置とで切り替えることにより、Ｐ偏光及びＳ偏光の直線偏光の露光光の双方を選択的に出射可能である。 （もっと読む）

【課題】製造が比較的容易な構成を有し、照明光学系の光路中に配置されて連続性の高い周方向偏光状態の瞳強度分布を実現することのできる偏光変換ユニット。
【解決手段】入射光を所定の偏光状態の光に変換して射出する偏光変換部材５１を備えた偏光変換ユニットにおいて、偏光変換部材５１は、旋光性の光学材料により形成され且つ光軸を横切る面に沿って並列的に配置された複数の偏光変換部５１１〜５１４を有し、複数の偏光変換部５１１〜５１４は、平面状の入射面と該入射面と非平行な平面状の射出面とをそれぞれ有する。 （もっと読む）

【課題】 近接場露光装置における光エネルギーの利用効率を向上させること。
【解決手段】 光源１０と、露光ヘッド１００と、を含み、露光ヘッド１００は、少なくとも第１開口８７ａおよび第２開口８７ｂを有する近接場光発生部８０と、光源１０からの露光光ＬＳを、第１開口８７ａに対応する第１ビームＬＢ１および第２開口８７ｂに対応する第２ビームＬＢ２を含む複数のビームに分割する回折光学素子４０を含む光学系５５と、を有し、第１ビームＬＢ１を、第１開口８７ａに入射させて第１開口８７ａの光射出側から近接場光ＥＬＶ１を発生させ、第２ビームをＬＢ２、第２開口８７ｂに入射させて第２開口８７ｂの光射出側から近接場光ＥＬＶ２を発生させ、第１開口８７ａおよび第２開口８７ｂの各々から発生する前記近接場光の各々によって、並行に被露光物を露光する。 （もっと読む）

【課題】計測用光学系の偏光特性の影響を軽減させて、被検光学系のジョーンズ行列で表される偏光特性を計測する。
【解決手段】投影光学系及び対物光学系よりなる光学系を介して偏光状態の異なる複数の光のストークスパラメータを計測してその光学系の第１のジョーンズ行列を求めるステップ１０６〜１１１と、対物光学系の瞳面を移動するステップ１１２と、その光学系の第２のジョーンズ行列を求めるステップ１１３と、その第１及び第２のジョーンズ行列のリー環表現上での差分情報を用いて投影光学系ＰＬ及び対物光学系１６Ｓの個別のジョーンズ行列を求めるステップ１１５、１１６とを含む。 （もっと読む）

【課題】 偏光変換部材の後続光学系によるリターデーションの影響を小さく抑えて、所要の偏光状態の光で被照射面を照明することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源（ＬＳ）からの光により被照射面（Ｍ）を照明する照明光学系（１〜１２）は、入射光の偏光状態を変換して、照明光学系の照明瞳に所定の偏光状態の瞳強度分布を形成する偏光変換部材（５Ａ）と、偏光変換部材よりも被照射面側の光路中に配置されて、偏光変換部材と被照射面との間の後続光学系によるリターデーションの影響を低減するために、瞳強度分布を形成する光のうちの第１方向に偏光した直線偏光の光が所要の楕円偏光の光に変換され、且つ第１方向と斜めに交差する第２方向（Ｘ方向またはＹ方向）に偏光した直線偏光の光の偏光状態が維持されるように通過させる位相変調部材（５Ｂ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィ加工技術を立体サンプルに拡張する際に、均一な光照射を
サンプル基板平面に施す露光方法では、レジスト膜厚の不均一と界面反射の問題に対処で
きないため、露光エネルギ密度が立体上に用意されるレジストに対して適切な値から外れ、
場所によるオーバードーズやアンダードーズからなる露光ムラや、反射光による異常パタ
ーンが生じる課題があった。
【解決手段】 液浸露光の液体に、光減衰の機能を加えることにより、立体サンプル上の
レジスト膜に到達する光強度を、立体の上部にも底部にも適正な値にでき、サンプル表面
上の全体に適正な露光強度分布を形成できるので、反射光による異常パターンの発生を確
実に低減できる。 （もっと読む）

【課題】光線の偏光に影響を与える偏光変調光素子を提供する。
【解決手段】偏光変調光学素子３０１であって、当該偏光変調光学素子は旋光性材料から成り、厚さプロファイルを有し、当該厚さは光軸の方向において測定され、光学素子の領域にわたって変化する。この偏光変調光学素子３０１は、次のような効果を有している。すなわち、第１の直線偏光光線の振動面および第２の直線偏光光線の振動面がそれぞれ、第１の回転角度および第２の回転角度で回転されるという効果を有している。ここで第１の回転角度と第２の回転角度は相互に異なっている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、製造が比較的容易な構成を有するとともに、照明光学系の光路中に配置されて連続性の高い周方向偏光状態の瞳強度分布を実現する構造を備えた偏光変換ユニット等に関する。
【解決手段】 入射光を所定の偏光状態の光に変換して射出する偏光変換ユニットは、それぞれが伝搬光として入射してくる直線偏光を光軸方向を中心に回転させる部材であって、複数個所において光軸方向の厚みが異なる第１の厚さ分布を有する第１旋光部材と、第２の厚さ分布を有する第２旋光部材を備える。第１および第２旋光部材は、光軸方向に一致または平行な結晶軸を持つよう配置された、旋光性を有する光学材料からなる。特に、光軸方向に沿ってみたときに重なる第１および第２旋光部材の領域双方の厚み合計は、第１および第２旋光部材の別の領域双方の厚み合計と異なっている。 （もっと読む）

【課題】要素間のレジストを十分に照射する。
【解決手段】基板上のレジストを照射するリソグラフィ方法であって、該レジストが、基板上に位置する第１の要素と基板上に位置する第２の要素との間の領域を充填し、第１の要素が第１の長さ、第１の幅、及び第１の高さを有し、第２の要素が、第２の長さ、第２の幅、及び第２の高さを有し、第１の高さが第２の高さに実質的に等しく、第１の長さが第２の長さに実質的に平行であり、第１の方向に延在し、レジストで充填された領域を画定する第１の要素と第２の要素の対向する側壁の間の距離がレジストを照射するために使用される放射の波長よりも短い方法であって、該方法が、楕円偏光放射でレジストを照射するステップであって、第１の高さ及び第２の高さで、上記楕円偏光放射が第１の方向に垂直に、第１及び第２の長さに対して実質的に垂直に偏光するように構成されたステップを含む方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】光線の偏光に影響を与える偏光変調光素子を提供する。
【解決手段】偏光変調光学素子（１）であって、当該偏光変調光学素子は旋光性材料から成り、厚さプロファイルを有し、当該厚さは光軸の方向において測定され、光学素子の領域にわたって変化する。この偏光変調光学素子（１）は、次のような効果を有している。すなわち、第１の直線偏光光線の振動面および第２の直線偏光光線の振動面がそれぞれ、第１の回転角度および第２の回転角度で回転されるという効果を有している。ここで第１の回転角度と第２の回転角度は相互に異なっている。 （もっと読む）

【課題】特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系と、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系又は投影対物系における使用に適し、かつタンジェンシャル−ラジアル混合偏光分布を含む異なる偏光分布の柔軟な調節を可能にする偏光影響光学装置を有する光学系とを提供する。
【解決手段】本発明は、光学系軸及び偏光影響光学装置（２５０，６５０）を含む特にリソグラフィ投影露光装置の光学系に関し、この装置は、光学結晶軸を有する光学活性材料を含み、光学結晶軸の方向に変化する厚みプロフィールを有する偏光影響光学要素（２００）と、偏光影響光学要素（２００）の位置の操作のための位置マニピュレータ（２１０）とを有し、この偏光マニピュレータ（２１０）は、光学系軸（ＯＡ）に対して９０°±５°の角度で配置された回転軸の回りに偏光影響光学要素（２００）を回転させるようになっている。 （もっと読む）

【課題】光量損失を抑えつつ、ほぼ単一方向に偏光方向を有する直線偏光状態の入射光を、ほぼ周方向に偏光方向を有する周方向偏光状態の光に変換偏光変換素子を提供する。
【解決手段】入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換する偏光変換素子（１０）で、旋光性を有する光学材料により形成されて周方向に変化する厚さ分布を有する。前記の厚さ分布は、ほぼ単一方向に偏光方向を有する直線偏光状態の光を、ほぼ周方向に偏光方向を有する周方向偏光状態の光に変換するように設定された、周方向に分割された複数の領域（１０Ａ〜１０Ｄ）を有し、この複数の領域において隣り合う任意の２つの領域の厚さが互いに異なる。また、複数の領域において対向する任意の２つの領域は、互いにほぼ等しい旋光角度を有する。 （もっと読む）

【課題】種々のピッチのパターンを同時にそれぞれ高解像度に転写可能にする。
【解決手段】照明光(IL)でレチクル(R)を照明する照明光学系(12)と、レチクル(R)のパターンの像をウエハ(W)上に投影する投影光学系(PL)とを有する露光装置であって、レチクル(R)の照明条件を可変とし、投影光学系(PL)の瞳面と共役な照明光学系(12)内の所定面で光軸外に中心が配置される複数の領域にそれぞれ分布する光束を発生する回折光学素子(21,22)により、その複数の領域で光量が他の領域よりも大きくなる光量分布を生成可能な成形光学系と、回折光学素子(21,22)から発生する光束の偏光状態を設定する偏光設定部材と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数種類のパターンを共通の照明条件を用いて高解像度で露光する。
【解決手段】照明光でレチクル及び投影光学系を介してウエハを露光する露光方法において、そのレチクルとして、Ｘ方向に周期的に、Ｘ方向に直交するＹ方向を長手方向として配列された密集線パターンと、Ｙ方向を長手方向とするラインパターンとを含むパターンが形成されたレチクルを配置し、照明瞳面で、光軸を挟んでＸ方向に配置される領域４８Ａ，４８Ｂと、その光軸を挟んでＹ方向に対応するＺ方向に配置される領域４８Ｃ，４８Ｄとにおける照明光の光量が大きくなる照明条件でそのパターンを照明する。 （もっと読む）

【課題】 例えば照明光学系の光路中に配置されて、連続的な周方向偏光状態の瞳強度分布を実現することのできる偏光変換ユニット。
【解決手段】 入射光を所定の偏光状態の光に変換して射出する偏光変換ユニット（７）は、旋光性を有する光学材料により形成されて光軸（ＡＸ）を中心とする円の周方向に沿って厚さが連続的に変化する形態を有し、入射光の偏光状態を変化させる偏光変換部材（７２）と、偏光変換部材の入射側に配置されて、偏光変換部材による光の偏向作用を補償する補正部材（７１）とを備えている。 （もっと読む）