【課題】 反射させた光による悪影響を発生させることなく特定の波長の光を選択的に透過させるフィルタを提供する。
【解決手段】 第１波長を有する第１の光を反射し、前記第１波長より短い第２波長を有する第２の光を透過させるフィルタであって、第１方向に沿って間隙をおいて平行に配置された複数の板状部材を含み、前記複数の板状部材のそれぞれの端面によって形成される包絡面は平面をなし、前記平面は前記第１方向と非平行である。 （もっと読む）

【課題】デザインルールで許されている全てのパターンに対して適切な露光を行うことができる光源形状を算出すること。
【解決手段】本発明の一つの実施形態によれば、半導体装置を作製する際に用いるデザインルールで規定された少なくとも２つのパターンレイアウトに基づいて、第１の光源形状を算出する。第１の光源形状は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に対称な光源形状領域を有している。また、第１の光源形状は、前記少なくとも２つのパターンレイアウトに応じた基板上パターンを形成する際のプロセス裕度が最適化される光源形状である。前記第１の光源形状に点光源を付加した第２の光源形状を算出する。第２の光源形状は、前記半導体装置に形成するパターンレイアウトおよび前記少なくとも２つのパターンレイアウトに応じた基板上パターンを形成する際のプロセス裕度が最適化される光源形状である。 （もっと読む）

【課題】 複数個のＬＥＤ光源の放射光を合成して出射する構成のものにおいて、複数のピーク波長を有する連続した広範囲の波長範囲の光を出射することができると共に高い輝度を得ることのできる光源装置を提供すること。
【解決手段】 この光源装置は、ピーク波長が互いに近接する第１のＬＥＤ光源および第２のＬＥＤ光源と、第１のＬＥＤ光源から放射された放射光と、第２のＬＥＤ光源から放射された放射光を合成するダイクロイックミラーとを有し、前記ダイクロイックミラーは、前記第１のＬＥＤ光源からの放射光の入射角、および、前記第２のＬＥＤ光源からの放射光の入射角が、いずれも、５〜４０°となる状態で、配置されている。 （もっと読む）

【課題】露光毎に露光領域全体の観察を行うことにより、異物、キズ、レジスト塗布ムラなどの欠陥をいち早く検出することを可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、所望の露光パターンを生成するためのパターン情報を生成するパターン生成部であるＤＭＤ素子３と、このＤＭＤ素子３で生成された露光パターンを基板７上に投影する投影光学系４，４０と、投影領域全体を非露光光で照明する観察照明光学系７０と、露光領域を観察する観察光学系８０と、観察光学系８０による観察画像を基に、露光領域内の欠陥の有無を判定する欠陥解析部１４と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光取出部に形成するガスカーテンのガスの供給量を少なくし、ＥＵＶ光源装置および露光機内の圧力に与える影響を極力小さくすること。
【解決手段】放電部１により放出されるＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光鏡２により集光され、ＥＵＶ光取出部４の開口より露光機筐体３０内の露光機３１へ導かれる。ＥＵＶ光源装置１０において発生したデブリが露光機３１に進入することを防ぐため、ＥＵＶ光取出部４にガスの導入口２２と排気口２３と設け、ＥＵＶ光取出部４を横切るように、ガス流してガスカーテンを形成する。露光を行っていない時には、ＥＵＶ光源装置はパルス状の放電により光を放射する動作（バースト動作）を停止しており、この期間には、ガスカーテンを形成するガスの供給を行わないか供給量を減らす。これにより、ストップガスの量を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】第１波長を有する光と第２波長を有する光を互いに分離しつつ両者に別々のパワーを作用させる光学装置を提供する。
【解決手段】入射した光を第１波長の光と第２波長の光とに分離する波長分離フィルタを含む光学装置において、前記波長分離フィルタは、複数の格子要素が一次元状に配列されることによって断面形状が鋸歯状を有するブレーズ型回折格子を含み、前記ブレーズ型回折格子は、基準面に対する前記複数の格子要素のそれぞれの表面がなす角度が順次に変化していることによって前記第１波長の光および前記第２波長の光のうち前記第１波長の光に対して第１パワーを作用させ、前記複数の格子要素の配列方向に沿った前記複数の格子要素のそれぞれの長さが順次に変化していることによって前記第１波長の光および前記第２波長の光のうち前記第２波長の光に対して第２パワーを作用させる。 （もっと読む）

【課題】紫外線ランプ表面温度を規定温度範囲内に収める管理を可能としたことでランプの長寿命化を実現する。
【解決手段】ランプハウス１０内に、紫外線を放射される紫外線ランプ１３を主に構成するランプユニット部１１とランプユニット部１１から放射される紫外線が照射される照射部１２が構成される。さらに、紫外線ランプ１３と反射板１７１，１７２との間には耐熱性の紫外線透過ガラス板２７２，２７２を設置した。紫外線透過ガラス板２７１，２７２が紫外線ランプ１３に対して風量を増やす作用を生かしてランプ温度の管理を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】製造または洗浄に有利な構造の捕獲器を提供する。
【解決手段】本発明の捕獲器は、真空雰囲気中の粒子を捕獲する捕獲器であって、前記捕獲器の表面にＶ字状又はＵ字状の複数の溝が配列されている。また、前記捕獲器の表面には、正Ｎ角錐（Ｎ＝３、４、又は、６）状の複数の溝が配列されている。更に、前記捕獲器は前記複数の溝を冷却する冷却手段を有する。 （もっと読む）

【課題】 スループットを向上させるとともに、露光むらを低減した露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 光源と、基板を搭載して移動するステージと、前記ステージの速度を変化させながら前記基板を露光するように、前記光源および前記ステージを制御する制御部と、露光のための光路に挿入可能に配置され、前記ステージの速度変化に応じた透過率分布を有するフィルタと、前記ステージの走査に同期させて前記フィルタを走査させる駆動手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数種類のパターンを共通の照明条件を用いて高解像度で露光する。
【解決手段】照明光でレチクル及び投影光学系を介してウエハを露光する露光方法において、そのレチクルとして、Ｘ方向に周期的に、Ｘ方向に直交するＹ方向を長手方向として配列された密集線パターンと、Ｙ方向を長手方向とするラインパターンとを含むパターンが形成されたレチクルを配置し、照明瞳面で、光軸を挟んでＸ方向に配置される領域４８Ａ，４８Ｂと、その光軸を挟んでＹ方向に対応するＺ方向に配置される領域４８Ｃ，４８Ｄとにおける照明光の光量が大きくなる照明条件でそのパターンを照明する。 （もっと読む）

【課題】 固体レーザー光から、基本波の混在が十分少ない第２高調波を高い変換効率で得ることができる光学素子を提供すること。
【解決手段】 上記課題を解決する光学素子は、１次整合又は３次整合を用いた擬似位相整合により、入射した光を２倍の周波数となるように波長変換して出射する波長変換素子と、該波長変換素子から出射される光の光路に配置された無機光学フィルターと、を備え、波長変換素子が、Ｂａ_１−ｙ（Ｍｇ_１−ｘＺｎ_ｘ）_１＋ｙＦ_４（但し、０≦ｘ≦１であり且つ−０．２≦ｙ≦０．２である。）で表される強誘電体フッ化物単結晶からなるものであり、且つ、無機光学フィルターが、ＮｄＦ_３単結晶からなるものである。 （もっと読む）

【課題】露光光の照度が変化した場合でも、アライメントマークの高精度な検出が可能となる露光装置を提供する。
【解決手段】複数の波長を含む光源１０１と、該光源１０１から特定波長の光を抽出し、原版２０１のパターンを照明する露光光ＥＬを導入する第１の一定帯域透過型のミラー１０３と、光源１０１から特定波長の光を抽出し、原版２０１、及び基板４０１のアライメントマーク２０４、４０５を照明するアライメント光ＡＬを導入する第２の一定帯域透過型のミラー１０４と、露光光ＥＬの照度を検出する照度センサー１０６とを備えた照明光学系１００を有する露光装置であって、更に、露光光ＥＬの照度を調整する露光量コントローラー６０３と、アライメントマーク２０４、４０５を検出する蓄積型光検出器５０４と、蓄積型光検出器５０４の蓄積時間を設定するアライメント光量コントローラー６０４とを有する。 （もっと読む）

【課題】幅狭で縦横に延びる複雑な形状の微細パターンでも、その形状の特殊性に適合して十分に満足できる程度に容易且つ確実に実現することを可能とする。
【解決手段】所定の幅狭の微細パターン、例えば縦横方向に延在するゲート電極を形成する際に、露光装置の集光光学系に、照明光の透過状態を制御するものであり、輪帯形状の第１の光透過領域２と、輪帯内で左右の部分に設けられた一対の第２の光透過領域３ａ，３ｂとを有し、第２の光透過領域３ａ，３ｂが第１の光透過領域２よりも露光光の透過率が高いフィルタ機構１を適用する。 （もっと読む）

【課題】複数の波長の強度を個別に実用レベルで調整できる光源装置を提供する。
【解決手段】輝線スペクトルの一つの輝線波長の光を遮断する反射被膜が、前記光束を反射させるか又は透過させて通過させる複数の開口を有するように設けられ、該複数の開口の最大寸法は、所定波長の光束の照射面内に複数の開口が配置可能である微小な寸法であり、選択された所定波長の光束における少なくとも一つの特性を、微小な開口の形状、間隔及び数により決定する光源装置。 （もっと読む）

【課題】被照射面上に照射される光の光量を微細に調整することができる遮光装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法を提供する
【解決手段】光源装置から射出される露光光ＥＬに基づいてウエハを照明する光学系に設けられ、ウエハに到達する露光光ＥＬに対する遮光量を調整可能な遮光装置２７であって、露光光ＥＬの光路途中に配置され、露光光ＥＬを透過させる透過板４５と、透過板４５における露光光ＥＬの透過領域に対して水滴を付着させる記録ヘッド４９と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の像面上の各点での瞳強度分布を所要の分布に調整する補正ユニット。
【解決手段】 投影光学系（ＰＬ）の光路中に配置されて投影光学系の像面（Ｗ）上の各点に関する瞳強度分布を補正する補正ユニット（ＣＵ）は、平行平面板状の形態を有し、光の入射角と透過率との関係が第１角度特性に従って変化する第１補正部材（１１）と、平行平面板状の形態を有し、光の入射角と透過率との関係が第１角度特性とは異なる第２角度特性に従って変化する第２補正部材（１２）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】強度積分を離散化することの可能な均一性補正方法を提供すること。
【解決手段】本発明のシステムは照明光学系、光機械式補正システム、コントラスト装置、投影光学系およびこの投影光学系に接続された補正モジュールを有する。補正システムはフィンガのような調整可能部材を含む。補正モジュールは、部材への調整を決定して均一性を補正するように構成されている。連続の強度積分を離散化する方法も提供される。照明スロットは複数のグリッド点を有するグリッドに分割される。つぎに「ひとみ」はグリッドに重ね合わされる。複数の第２グリッドも定められる。各「ひとみ」は第２グリッドにマッピングされ、第２グリッド中心と「ひとみ」中心とが一致する。つぎに連続の強度積分が、第１のグリッド、複数の第２グリッドおよび「ひとみ」マッピングの使用により、離散化される。 （もっと読む）

【課題】 省スペース化を図り且つ光量損失およびフレアの発生を小さく抑えつつ、被照射面に形成される照明領域の照度ムラを補正する。
【解決手段】 二次元的に並列配置された複数の波面分割要素を有するオプティカルインテグレータ（７）は、一方向（Ｘ方向）に並んで形成された複数の円筒面状の第１入射屈折面（７ａａ）、および一方向（Ｚ方向）に並んで形成された複数の円筒面状の第１射出屈折面（７ａｂ）を有する第１光学部材（７ａ）と、第１光学部材の後側に配置されて、一方向（Ｘ方向）に並んで形成された複数の円筒面状の第２入射屈折面（７ｂａ）、および一方向（Ｚ方向）に並んで形成された複数の円筒面状の第２射出屈折面（７ｂｂ）を有する第２光学部材（７ｂ）とを備えている。複数の屈折面のうちの少なくとも１つの屈折面に、所定の透過率分布を有する減光領域が設けられている。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の瞳面に形成される光強度分布である有効光源形状を調整することによって線幅差を制御する。
【解決手段】露光によって基板に形成されるパターンにおける線幅差と有効光源分布との相関関係を示す相関関係情報を取得する取得工程Ｓ６０１と、前記相関関係情報に基づいて目標線幅差に対応する有効光源分布を決定する決定工程Ｓ６０２と、前記決定工程で決定された有効光源分布が得られるように、有効光源分布を調整する調整機構を制御する制御工程Ｓ６０３と、前記制御工程の後に基板を露光する露光工程とを含む。ここで、前記線幅差は、基板の面に沿って第１方向に延びるパターンの線幅と該基板の面に沿って前記第１方向に垂直な第２方向に延びるパターンの線幅との差である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のためのアライメントシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、狭帯域放射を連続する平らな広帯域放射に変換するように構成された放射源を含んだアライメントシステムを有している。音響学的波長可変狭通過帯域フィルタが広帯域放射を狭帯域直線偏光放射にフィルタリングしている。この狭帯域放射は、ウェーハのアライメントを可能にするために、ウェーハのアライメントターゲット上に集束させることができる。一実施形態では、フィルタは、放射源によって生成される放射の強度および波長を変調し、かつ、複数の同時通過帯域を有するように構成されている。放射源は、高い空間的コヒーレンスおよび低い時間的コヒーレンスを有する放射を生成する。 （もっと読む）