【課題】少ない工数で製造可能で、しかもコンパクトな空間光変調器および該空間光変調器を装備した露光装置を提供する。
【解決手段】複数の第１電極３３３が配置された電極基板３３２の下方主面（他方主面）に対向して電気回路基板３３６が配置されるとともに、当該電気回路基板３３６に対し、複数の第１電極３３３の配線領域Ｒａ上の端部に一対一で対応して複数の配線３３７が形成されて誘導結合により複数の第１電極３３３とそれぞれ電気的に接続される。そして、変調部から各配線３３７を介して対応する第１電極３３３に付与する電圧が制御され、これによって複数の第１電極３３３と第２電極３３５との間で発生する電界がそれぞれ制御される。 （もっと読む）

【課題】液晶基板の配向膜に細かいピッチの線状の光パターンを照射して一方向に走査すると、その走査した方向に応じた一様な配向特性（プレチルト角）が配向膜に付与されるが、従来のマスクを介して光パターンを照射して露光する方式では露光の時間が長くかかり、実用化する上でネックになっていた。
【解決手段】光源から発射された露光光に偏光特性を付与して微小な可動ミラーを多数備えたマイクロミラーデバイスに入射させ、マイクロミラーデバイスの微小な可動ミラーにより形成された反射パターンで反射された露光光のパターンを投影光学系を介してステージに載置された表面に配向膜が形成された基板に投影して配向膜を露光する液晶用配向膜を露光する方法において、ステージを一方向に連続的に移動させることにより一方向に連続的に移動している基板上を露光光のパターンがステージの移動速度よりも遅い速度で移動して配向膜を露光するようにした。 （もっと読む）

【課題】パターン要素が周期的に配列されたパターン領域と、このような周期性のないパターン領域とが混在しているパターンを高い解像度で形成することができるパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様によれば、一対の主開口、並びに、前記一対の主開口の中心を結ぶ第１直線及び前記第１直線に対して直交する第２直線に関して対称の位置であって前記第１直線上にない４つの補助開口が設けられた照明からマスクに向けて光を照射し、前記マスクにより回折した０次回折光及び１次回折光を集光してレジスト膜を露光する工程と、前記露光したレジスト膜を現像することにより、パターン要素が周期的に配列された第１のパターン領域及び前記周期性を持たない第２のパターン領域が形成されたレジストパターンを形成する工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】 所望の瞳強度分布を正確に形成することのできる空間光変調ユニット。
【解決手段】 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニット（３）は、二次元的に配列されて個別に制御される複数のミラー要素（３１ａ，３２ａ）を有する空間光変調装置（３１，３２）と、複数のミラー要素の配列面の向きを変化させる変更装置とを備えている。変更装置は、複数のミラー要素の基盤を保持して傾斜可能なステージ（３３，３４）を有する。 （もっと読む）

【課題】光源形状を的確に評価する。
【解決手段】照明光源及びマスクパターンの設計に基づいて空間光変調器３Ｓを制御することにより、照明光源の形状（光源形状）が設定される(ステップ２０６)。その照明光源により生成される照明光を照明光学系を介してウエハ上に投射して、光源形状が計測される（ステップ２０８）。光源形状の計測結果の目標からのずれを用いて照明光源の形状が評価される（ステップ２１４）。また、評価された照明光源の形状に基づいて、照明光源の形状が最適化される。これにより、パターンに対して最適な照明光源の形状の設定が可能になる。 （もっと読む）

【課題】 被検光学系の瞳透過率分布を高精度に且つ比較的低い負荷で迅速に測定する。
【解決手段】 被検光学系の瞳透過率分布を測定する測定装置は、被検光学系の瞳と光学的にフーリエ変換の関係にある第１面に設置可能な回折格子と、回折格子を経て生成された＋１次回折光が瞳の有効領域内の第１瞳部分領域を通過し且つ回折格子を経て生成された−１次回折光が第２瞳部分領域を通過するように光軸に対して傾いた光束を第１面の所定位置に入射させる照明光学系と、第１瞳部分領域および被検光学系を経た＋１次回折光の強度と、第２瞳部分領域および被検光学系を経た−１次回折光の強度とを計測する計測部とを備え、＋１次回折光の強度の計測値および−１次回折光の強度の計測値に基づいて、第１瞳部分領域における瞳透過率と第２瞳部分領域における瞳透過率との比を求める。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の特性を長期にわたって安定させる。
【解決手段】電極、静電力により電極に引き付けられて揺動する可動部、および、可動部に支持されて可動部と共に揺動する反射鏡をそれぞれが有する単位素子を複数実装された基板と、反射鏡の間から基板に向かって差し込む光を遮断する遮光層とを備える。上記空間光変調器において、遮光層は、反射鏡および基板の間に配されてもよい。また、上記空間光変調器において、遮光層は、反射鏡および可動部の間に配されてもよい。 （もっと読む）

【課題】光の反射効率が高く、製造プロセスが簡便な空間光変調素子を提供する。
【解決手段】空間光変調素子の製造方法であって、電極が形成された電極側基板を準備するステップと、電極との間の静電力により可動する可動部、可動部の動きに連れて傾斜する反射鏡および可動部を支持する支持部を有する可動側基板を準備するステップと、可動側基板の支持部を電極側基板に貼り合わせるステップとを備える製造方法が提供される。可動側基板を準備するステップは、基板本体を準備するステップと、基板本体の一面をエッチングすることにより可動部を形成するステップと、可動部上に反射鏡を成膜するステップと、基板本体に他面をエッチングすることにより支持部を形成するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】 空間光変調器において不良光学要素が発生しても所望の瞳強度分布を安定的に形成に形成することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源（１）からの光に基づいて被照射面（Ｍ）を照明する照明光学系（ＩＬ）は、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、照明光学系の照明瞳に瞳強度分布を形成する空間光変調器（３０）と、複数の光学要素の各々を経て照明瞳と光学的に共役な共役位置に入射する各光束を検出する検出部（９）と、複数の光学要素の各々についての検出部による各検出結果を類別し、該類別された情報を用いて複数の光学要素を個別に制御する制御部（ＣＲ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ミラーアレイ光学素子を用いた場合であっても、光強度分布（有効光源）を高精度に形成することができる露光装置を提供する。
【解決手段】光源と、照明光学系と、投影光学系とを備える露光装置であって、前記照明光学系は、前記光源からの光を反射する反射面を有する複数のミラーエレメントを含み、前記複数のミラーエレメントのそれぞれの前記光源からの光に対する角度を独立して制御することが可能なミラーアレイ光学素子と、前記光源からの光を前記ミラーアレイ光学素子に入射させると共に、前記複数のミラーエレメントのうち前記反射面で反射された光が前記レチクルに入射するように前記角度が制御された所定のミラーエレメントで反射された光が入射する第１の光学系と、前記光源からの光を前記光学系に入射させる第２の光学系と、前記光学系からの光が入射する第３の光学系と、を含むことを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】所定面における照明光の光強度分布を実質的に回転することなく、光強度を調整する。
【解決手段】レチクルＲのパターン面を照明する照明装置１２であって、所定面における照明光の光強度分布を形成する回折光学素子５Ａと、回転可能なターレット板３１と、ターレット板３１の回転によって照明光の光路を横切る位置に、かつターレット板３１に対して回転可能に回折光学素子５Ａを取り付ける回転枠３３Ａと、回折光学素子５Ａの少なくとも一部が照明光の光路にあるときに、ターレット板３１の回転角に応じて回転枠３３Ａを回転させて、回折光学素子５Ａを照明光の光路を横切る方向に並進移動させる並進ユニット６Ａと、を備える。 （もっと読む）

【課題】放射ビームの特性を監視する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビーム監視装置ＢＭを備える。該放射ビーム監視装置ＢＭは、回折パターンを生成するよう構成された光学素子２０と、該光学素子２０の後であって該光学素子の焦点面Ｆではない位置に配置されたイメージングディテクタ２２とを備え、解析システムまたはアナライザ２４は、イメージングディテクタ２２に接続されており、イメージングディテクタ２２からの出力を受信する。該イメージングディテクタ２２は、放射ビームの空間的コヒーレンスとダイバージェンスの混合物を検出可能である。 （もっと読む）

【課題】鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する干渉型リソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】レーザにより発生される空間的かつ時間的にコヒーレントな光ビーム１０２は、ビームスプリッタ１０４に入射する。ビームスプリッタ１０４はビーム１０２を第１および第２のビーム１０６Ａおよび１０６Ｂに分離する。続いて２つのビーム１０６Ａおよび１０６Ｂは、それぞれ基板１１０に向けて第１および第２の反射表面１０８Ａおよび１０８Ｂにより再指向される。干渉パターン１１２は基板１１０の頂部表面に形成される。干渉パターン１１２は書き込み用イメージでフォトレジスト層を露光する。 （もっと読む）

【課題】被照射面上の位置毎の光強度を均一に調整することができる回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法を提供する。
【解決手段】光源装置から射出される光に基づいて所定のパターンを照明する照明光学系と、所定のパターンの像をウエハ上に投影する投影光学系と、を備えた露光装置に設けられ、光を回折して所定のパターンを重畳的に照明する第１回折光学素子２４及び第２回折光学素子２６の設計方法であって、ウエハ上の複数の位置に照射される光の角度方向の光強度分布がそれぞれ等しくなるように、第１回折光学素子２４及び第２回折光学素子２６によって回折される光の角度方向の光強度分布を設定する。 （もっと読む）

【課題】高精度に計測を行うトールボット干渉計、トールボット干渉計の調整方法、及び露光装置を提供する。
【解決手段】トールボット干渉計は、移動手段７、８で回折格子３及び撮像素子４の少なくとも一方の位置を変更しながら撮像素子４が撮像した複数の干渉縞をフーリエ変換して得られる空間周波数スペクトルに基づいてトールボット条件が満足されるように移動手段７、８で回折格子３及び撮像素子４の少なくとも一方の位置を調整する計算機５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】相対的に簡単な構造を有する単位シャッタ機構を提供する。
【解決手段】単位シャッタ機構、単位シャッタ機構を含むシャッタ構造物、及びシャッタ構造物を含む露光装置において、単位シャッタ機構は、下部基板、下部基板上に位置する電極、電極の周縁の上に位置するスペーサ、スペーサの上に電極と離隔するように位置し、ホールが形成された第１ミラー、下部基板の上側に下部基板と対向するように位置する上部基板、及び上部基板の下部に位置し、ホールと重畳する第２ミラーを含む。 （もっと読む）

【課題】マスクを感光表面上に結像するマイクロリソグラフィ露光装置の照明システム、特に、ミラーのアレイ又は他のビーム偏向要素を収容する照明システム、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法を提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置（１０）の照明システムは、多数のビーム偏向要素を含む。各ビーム偏向要素（Ｍｉｊ）は、制御信号に応答して変更可能な偏向角で衝突する光ビームを偏向するようになっている。ビーム偏向要素から反射される光ビームは、システム瞳表面（７０）にスポットを生成する。マスクが感光表面上に結像される露光処理中にシステム瞳表面（７０）において照らされるスポットの数は、ビーム偏向要素（Ｍｉｊ）の数よりも大きい。これは、ビーム偏向要素（Ｍｉｊ）から反射される光ビームを増倍するビーム増倍器ユニット（５７）の助けによって達成することができる。 （もっと読む）

【課題】ビームの不均一性を補正してビームの強度エネルギを最大限に活用して均一な光強度分布を実現する。
【解決手段】この光学システムは、入力ビーム１４を変換して得られた出力ビームを、一定の標的面積を有するマスクを介して、ウェーハ上に照射するホモジェナイザ１０を備え、ホモジェナイザは、複数のファセット領域からなるホログラムを有し、各ファセット領域１２は、不規則なパターン形状を有する複数の回折フリンジから構成され、各回折フリンジで形成されるファセット領域の全体的なパターン形状が各ファセット領域において互いに異なり、各ファセット領域のそれぞれの回折フリンジのパターン形状は、出力ビームがマスクの一定の標的面積上に連続的な強度分布で照射され、マスクにより遮られない出力ビームがウェーハに均一な強度分布で照射されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集光ミラーの位置又は姿勢のずれを検出することができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ターゲット物質をチャンバ内に供給するターゲット供給手段と、ターゲット供給手段によって供給されるターゲット物質にレーザ光を照射することによってプラズマを生成するドライバレーザと、第１の焦点及び第２の焦点を有し、第１の焦点において発生する光を第２の焦点に向けて反射する集光ミラーと、集光ミラーによって反射される光の光路上に配置され、集光ミラーによって反射された光の一部を分岐する分岐光学素子と、分岐光学素子によって分岐された光の光路上に配置され、分岐光学素子によって分岐された光のプロファイルを検出するイメージセンサとを含む。 （もっと読む）

【課題】集積回路マイクロリソグラフィ用の孤立および密集マスキング・フィーチャを結像する場合に、近接効果を低減するために、サブレゾルーション結像補助バーの配置を決めるための改良方法を提案する。
【解決手段】フォトマスクの製造は、孤立フィーチャ（３００）に対して補助バー（３２０、３４０）を加えることによって改善される。バー（３２０、３４０）は、密集詰め込みフィーチャの中心から中心への間隔に相当する、中心から中心への間隔に加えられる。補助バーを密集詰め込みフィーチャに整合させることによって、孤立フィーチャの組み合わされた回折パターンは変形して、密集詰め込みフィーチャの回折パターンによく似たものとなる。 （もっと読む）