【課題】投影レンズの偏光状態を簡便に評価可能とする偏光評価マスク、露光装置、及び偏光評価方法を提供する。
【解決手段】一態様に係る偏光評価マスクは、露光装置の投影レンズの偏光状態を評価するために投影レンズよりも照明光の上流側に配置される。偏光評価マスクは、透明基板、遮光部、複数の１／４波長板、及び複数の偏光子を備える。遮光部は、透明基板に形成され複数の開口部を有する。複数の１／４波長板は、少なくとも１つの開口部を覆うように形成され互いに進相軸の方位角が所定角度ずつ異なる。複数の偏光子は、１／４波長板よりも照明光の上流側に配置され１／４波長板に重畳させて少なくとも１つの開口部を覆うように形成され互いに透過軸の方位角が所定角度ずつ異なる。複数の開口部の各々において、偏光子の方位角と１／４波長板の方位角との組み合わせが異なる。 （もっと読む）

【目的】対象物のパターンに依存することなくビームスプリッタの反射率を安定させることが可能な高さ検出装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の高さ検出装置１００は、対象物１０１面に照明光を照明する照明光学系２００と、対象物１０１面から反射された反射光を入射するλ／４板２７０と、λ／４板２７０を通過した反射光を分岐するビームスプリッタ２２２と、ビームスプリッタ２２２によって分岐された反射光の一方を前記反射光の結像点の前側で受光して、光量を検出する光量センサ２５２と、結像点の後側で受光して、光量を検出する光量センサ２５４と、光量センサ２５２，２５４の出力に基づいて対象物１０１面の高さを演算する演算回路２６０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】波長板として機能する光学部材の製造誤差の影響を実質的に受けることなく、所望の偏光状態の光で被照射面を照明する照明光学装置。
【解決手段】光源（１）からの光に基づいて被照射面（Ｍ，Ｗ）を照明する照明光学装置。照明瞳面またはその近傍に配置されて、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換するための偏光変換素子（１２）を備えている。偏光変換素子は、入射する直線偏光に旋光角度を可変的に付与するための複数の可変旋光部材を有する。各可変旋光部材は、旋光性を有する光学材料により形成され且つ光軸（ＡＸ）と交差する方向に沿って相対的に移動可能な２つの偏角プリズムを有する。 （もっと読む）

【課題】１つの方向の直線偏光光で照明し、照明光学系、投影光学系の瞳面より上流の要因のみならず、投影光学系の瞳面の下流の要因で発生する経時的な偏光状態の劣化を補正し、高コントラストな露光を行う露光装置を提供する。
【解決手段】 １つの方向の直線偏光光で原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、を有する露光装置において、前記投影光学系よりも前記基板側に設けられ、前記投影光学系を通過した光の偏光状態を計測する偏光計測手段と、前記投影光学系の瞳面に設けられ、前記偏光計測手段の計測結果に基づいて前記基板に入射する光の偏光状態を調整する偏光調整機構と、を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】光量損失を良好に抑えつつ、周方向偏光状態の輪帯状の照明瞳分布を形成することのできる照明光学装置。
【解決手段】照明光学装置は、入射光束に基づいて所定面に輪帯状の光強度分布を形成するための光束変換素子(50)を備えている。光束変換素子は、旋光性を有する光学材料により形成されて、入射光束に基づいて輪帯状の光強度分布のうちの第１円弧状領域分布を形成するための第１基本素子(50A)と、第２円弧状領域分布を形成するための第２基本素子(50B)と、第３円弧状領域分布を形成するための第３基本素子(50C)と、第４円弧状領域分布を形成するための第４基本素子(50D)とにより構成されている。各基本素子は光の透過方向に沿った厚さが互いに異なる。 （もっと読む）

【課題】複数の微小なミラーを用いて、光源からの光をマルチビーム化する技術において、マルチビーム化された各ビームの位相を簡易な構造で制御する。
【解決手段】パターンを描画する描画装置１に、反射面１５０によってレーザ光を分割する光分割部１５、複数の微小ミラーを備えた空間光変調デバイス１６，１７、１／４だけ位相を反転させる平行平面板１８を設ける。空間光変調デバイス１７に向けて照射されるレーザ光は、往復する間に平行平面板１８によって１／２だけ位相が変換される。空間光変調デバイス１６によって変調されたビームと、空間光変調デバイス１７によって変調され平行平面板１８によって位相が反転されたビームとを、反射面１５０において合成し、基板９に照射する。 （もっと読む）

【課題】マスクを所定の偏光状態の照明で照明するに際し、照明光の光量損失を少なくし、かつ良好な照明均一性を達成できる照明光学装置等を提供する。
【解決手段】照明光学装置は、光源からの実質的に単一の偏光状態の光に基づいて第１物体を照明する照明光学系に含まれる偏光変換部材を備える。偏光変換部材により、照明光学系の光軸に垂直な所定の面内における所定の輪帯相当領域である特定輪帯領域に分布する照明光の偏光状態が、所定の偏光状態に変換される。偏光変換部材は、照明光学系の光軸と垂直な面内においてそれぞれ異なる位置に配置される複数の偏光変換素子を備え、これら複数の偏光変換素子は、旋光性を有する材料で形成される。 （もっと読む）

【課題】輪帯照明等の変形照明において、その照明光の偏光状態をＳ偏光とする際に、照明光の光量損失の低減、及び被照射物体上の照明光の照度不均一性の低減に寄与する偏光変換部材を提供する。
【解決手段】偏光変換部材１２は、光源からの照明光の照度を実質的に均一化するための照度均一化部材を介して物体に照射する照明光学系を備えた照明光学系に適用され、照度均一化部材よりも光源側に配置される。偏光変換部材は、照明光に対して透明な透明基板と、透明基板上に設けられた複数の偏光変換素子を備え、複数の偏光変換素子は、照明光学系の光軸と垂直な面内においてそれぞれ異なる位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】 入射光を所望の偏光度を有する光に変換して射出することのできる偏光制御ユニット。
【解決手段】 本発明の偏光制御ユニット（２）は、光軸（ＡＸ）を横切る方向に光学軸を有する第１デポラライザ（２２ｂ）と、第１デポラライザの射出側に配置されて光軸を横切る方向に光学軸を有する第２デポラライザ（２２ｂ）と、光軸廻りに回転可能な１／２波長板（２４）とを備えている。第１デポラライザおよび第２デポラライザのうちの少なくとも一方は、第１デポラライザの光学軸と第２デポラライザの光学軸との光軸廻りの角度を変更するために回転可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】 様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の光強度分布や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現する。
【解決手段】 被照射面（Ｍ）を照明する照明光学装置。照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸（ＡＸ）を含む中心領域に位置する光強度分布と光軸から間隔を隔てた複数の周辺領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段（３，４，７，８）と、複数の周辺領域に位置する光強度分布の位置および大きさを中心領域に位置する光強度分布とは独立して変更するための領域変更手段（６：６ａ，６ｂ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の光強度分布や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現する。
【解決手段】 被照射面（Ｍ）を照明する照明光学装置。照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸（ＡＸ）を含む中心領域に位置する光強度分布と光軸から間隔を隔てた複数の周辺領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段（３，４，７，８）と、複数の周辺領域に位置する光強度分布の位置および大きさを中心領域に位置する光強度分布とは独立して変更するための領域変更手段（６：６ａ，６ｂ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 たとえば露光装置に搭載された場合に、マスクのパターン特性に応じて光量損失を抑えつつ照明光の偏光状態を変化させて適切な照明条件を実現することのできる照明光学装置。
【解決手段】 直線偏光の光を供給する光源部（１）を有し、光源部からの光で被照射面（Ｍ，Ｗ）を照明する照明光学装置は、光源部と被照射面との間の光路中に配置されて、被照射面を照明する光の偏光状態を、光量損失を抑えつつ特定の偏光状態と非偏光状態との間で切り換えるための偏光状態切換手段（１０，２０）を備えている。偏光状態切換手段は、特定の偏光状態が直線偏光状態である場合に、直線偏光の偏光面を可変とする。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィ装置の偏光特性を求める方法を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置は、照明系ＩＬと支持体と基板テーブルと投影系ＰＳと検出器１４とを含む。この装置は、４分の１波長板などの調整可能な偏光変化素子１０と、直線偏光子などの偏光アナライザ１２とをさらに含み、偏光変化素子及び偏光アナライザはパターン形成機器が支持体によって保持される位置のビーム経路内に整列配置される。検出器１４を使用して、偏光変化素子１０の互いに異なる回転向きに対し強度測定を行うことにより、パターン形成機器位置の放射偏光状態の情報を得ることができる。偏光アナライザ１２が投影系ＰＳより前に位置するので、検出器１４が基板高さなど、投影系ＰＳより後に位置することが測定に影響を及ぼさない。 （もっと読む）

【課題】構造で回折したビームの位相差および振幅を、既知の位相変調器を使用することなく、また、過剰な追加ハードウェアを組み込むことなく、複数の波長レンジで測定することができるよう、スキャトロメータにエリプソメトリック機能を提供する。
【解決手段】システムは、基板の特性を決定するために、基板で回折する際に個々に偏光される２つのビームを測定するように構成されている。２つの直交偏光放射ビームのうちの一方の位相をもう一方のビームに対して変化させるために、円偏光源または楕円偏光源が固定位相リターダを介して引き渡される。２つの放射ビームの相対位相およびディテクタで測定されるビームの他のフィーチャによって基板表面の特性が得られる。 （もっと読む）

【課題】放射ビームの偏光状態を制御するために用いられる装置および方法を提供する。
【解決手段】偏光制御ユニットは、放射ビームの少なくとも一部の偏光状態を調整するよう構成されている。測定アレンジメントは、続いて、放射ビームの一部の偏光状態を測定するよう構成されている。フィードバックユニットは、所望の偏光状態からの、放射ビームの一部の偏光状態の偏差を補正するために、測定された偏光状態に基づいて偏光制御アレンジメントに信号を供給するよう構成されている。例えば、この補正は、確実に放射ビームの一部の偏光状態が所望の偏光状態となる、または所望の偏光状態に戻るようにする。 （もっと読む）

本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系に関し、照明系（２００，７００）は、投影露光装置の作動において投影露光装置の投影対物系（４０）の物体平面（ＯＰ）を照明し、かつ照明系（２００，７００）は、照明系の作動において生成されて物体平面（ＯＰ）内でのみ重ね合わされる互いに点対称な関係にある光成分（１０，２０）が互いに直交する偏光状態を有するように適応される。 （もっと読む）

【課題】紫外線フォトリソグラフィにおいて使用できる広い角度範囲にわたって比較的フラットなアポダイゼーション関数をもつビームスプリッタを提供する。
【解決手段】ビームスプリッタには第１のフッ化物プリズムと第２のフッ化物プリズムが設けられている。これら第１のフッ化物プリズムと第２のフッ化物プリズムとの間にコーティング界面が設けられており、その際、ビームスプリッタの全体的なＲ（ｓ）＊Ｔ（ｐ）関数は４０゜〜５０°の入射範囲において±２．７４％以内でしか変化しないように構成されている。 （もっと読む）

【課題】放射ビームの偏光を調整することができる新規の装置および方法を提供することである。
【解決手段】リソグラフィ装置の照明器で、照明モード規定要素２が放射ビームＰＢを双極形６に変換する。所与の角度範囲を有する放射ビームの割合が、偏光回転体１０ａを通過する。変形回転体１０ａは、リソグラフィ装置の光軸を横断する方向１２ａで平行移動可能である。偏光回転体１０ａは、自身を通過する放射の偏光を調整するように作用する。そして、異なる角度範囲を有する放射ビームの割合は、異なる偏光回転体１０ｂを通過する。偏光回転体１０ｂは、リソグラフィ装置の光軸を横切る方向１２ｂで平行移動可能である。偏光回転体１０ｂは、自身を通過する放射の偏光を調整するように作用する。偏光回転体１０ａ，１０ｂは例えば半波長板、１／４波長板、または他の何らかの形態の偏光回転体を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】マスクを所定の偏光状態の照明光で照明する際の光量損失を少なくする。
【解決手段】光源（１）からの照明光を物体（Ｒ）に照射する照明光学装置であって、光源（１）から照射される所定の偏光状態の照明光を所望の偏光状態の光に変換する偏光制御部材（４）と、偏光制御部材（４）から射出された照明光のうち、特定の入射角度範囲で物体（Ｒ）に照射される特定照明光をＳ偏光を主成分とする偏光状態の光とする複屈折部材（１２，１３）とを有する。 （もっと読む）

望ましい偏光分布を与える上で高度な柔軟性を可能にする偏光制御光学配置を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム又は投影対物器械を提供する。本発明は、光学活性物質の少なくとも２つの偏光制御光学要素（２１０、２２０）を有する少なくとも１つの偏光制御光学配置（２００、４００、５５０）を含む光学システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム又は投影対物器械に関し、この偏光制御要素（２１０、２２０）の少なくとも１つは、回転可能に配置される。 （もっと読む）