【課題】計算精度を実質的に低下させることなく、かつ計算時間を短縮して光学性能のシミュレーションを行うことができるようにする。
【解決手段】照明瞳面からの光でレチクルＲ１のパターン４４を照明する照明光学系を含む光学系の光学性能のシミュレーション方法であって、パターン４４の三次元構造を設定し、照明瞳面に二次元的に分布する複数の点光源を配置し、その複数の点光源のそれぞれからの光がその照明光学系及びその三次元構造のパターン４４を通過した後の複素振幅分布IN1R,IN1I を計算し、計算された複素振幅分布をその複数の点光源に対応させて記録したデータベースを作成する。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦリソグラフィ用ミラーに適した特性を有する光学部材、および、該光学部材を用いたＡｒＦリソグラフィ用ミラーの提供。
【解決手段】光学面が下記（１）〜（５）を満たし、２２℃における熱膨張係数（ＣＴＥ）が０±２００ｐｐｂ／℃であるＡｒＦリソグラフィ用光学部材。
１ｍｍ≦λ（空間波長）≦１０ｍｍにおけるＲＭＳが０．１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下 （１）
１０μｍ≦λ（空間波長）≦１ｍｍにおけるＲＭＳが０．１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下 （２）
２５０ｎｍ≦λ（空間波長）≦１０μｍにおけるＲＭＳが０．０５ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （３）
１００ｎｍ≦λ（空間波長）≦１μｍにおけるＲＭＳが０．０１ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （４）
５０ｎｍ≦λ（空間波長）≦２５０ｎｍにおけるＲＭＳが０．０１ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （５） （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザ装置３と共に用いられる光学システムは、少なくとも１つの焦点を有し、前記レーザ装置３から出力されるレーザ光を集光する集光光学系と、前記集光光学系と該集光光学系の少なくとも１つの焦点との間に配置されるビームスプリッタ１００と、前記ビームスプリッタ１００によって分岐されたレーザ光の光路上に配置される光センサ１１０と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ランプを簡単に取り外して、ランプの部品をリサイクルすることができ、生産コストを低減することができる露光装置用ランプを提供する。
【解決手段】小型水銀ランプ１０は、バルブ２０と、該バルブ２０から発生した光を前方へ反射させる集光鏡２１と、バルブ２０の端部を保持するホルダー２２と、を備える。バルブ２０と集光鏡２１のランプ取付孔４８との間には、断熱材５０が配置される。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の使用可能時間をより長く延ばすことによって、空間光変調器の交換の頻度を低減させる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１００は、光学ユニット４０を備えている。光学ユニット４０が備えるレーザ発振器４１から出射された光は照明光学系４３を介して導入された空間光変調器４４１に導入される。空間光変調器４４１は、全体反射面４２０ｆの一部である有効反射面ＥＲに入射した入射光Ｌ１を空間変調する。パターン描画が一定時間行われると、制御部９０の指示により、照明光学系４３が備える照明系フォーカスレンズ４３５の設置位置を変位させる。これによって、有効反射面ＥＲ上に入射する入射光Ｌ１の入射位置が変位して、有効反射面ＥＲ上に形成されていた入射領域ＮＲ１が、光が未照射である有効反射面ＥＲ上の領域にシフトされる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の安定性と制御性とを向上する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置３と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ装置３から出力されるレーザ光３１を内部に導入するための少なくとも１の入射口が設けられたチャンバ２と、前記レーザ装置３から出力される前記レーザ光３１のビーム断面を拡大する拡大光学系５０と、ビーム断面が拡大された前記レーザ光３１を集光する集光光学系２２と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法。
【解決手段】アライメント検出系で検出された両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスクとワークの位置ずれ量とワークのひずみ量とを算出し、算出された位置ずれ量に基づいて、アライメントを調整し、算出されたひずみ量に基づいて、平面ミラー６６の曲率を補正する。曲率補正は、複数のレーザーポインタ９１から平面ミラー６６の裏面に複数のレーザー光Ｌを照射し、平面ミラー６６の裏面にて反射した複数のレーザー光Ｌが集光ミラー群９６で反射して反射板９２に投影され、該反射板９２に映りこんだ複数のレーザー光Ｌをカメラ９３によって撮像する。平面ミラー６６の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光の変位量を検出し、該変位量が算出されたひずみ量と対応するように曲率補正する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で優れた形状精度を持つミラーを得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】ミラーの製造方法は、熱により膜厚が変化する形状修正層１２を基板１１の上に配置する第１工程と、第１層、第２層、および、前記第１層と前記第２層との間に配置されて前記第１層を構成する材料と前記第２層を構成する材料との反応を防止するバリア層１６を含む反射層１３を前記形状修正層１２の上に配置する第２工程と、前記第２工程の後に、前記形状修正層１２の膜厚分布を変化させることによって前記反射層１３の形状を目標形状に近づける第３工程とを含み、前記第３工程は、前記形状修正層１２を部分的にアニールする処理を含む。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の設置床面積を小さくすることができる露光装置を提供すること。
【解決手段】 光学エンジン３１と、軌道９Ｒｂと軸受け９Ｒａとからなる直線案内装置９Ｒにより第１のＸテーブル５Ｒ上をＹ方向に移動自在な第１のＹテーブル２０Ｒとからなり、該軸受け９Ｒａが該第１のＹテーブル２０ＲのＹ方向の長さの１／２未満を支持する第１のＸＹテーブルＲと、光学エンジン３１のＹ方向の左側に配置され、光学エンジンのＹ方向に垂直な対称面Ｐに関して第１のＸＹテーブルＲと構成が対称である第２のＸＹテーブルＬと、を設け、第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを露光位置に位置決めしたときに第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを支持する、実質的な支持端（端面９Ｒａ１ｆ）が、対称面Ｐから１０ｍｍ以下になるように配置する。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。
【解決手段】チャックと、光ビームを供給する照明光学系２０ｃ、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器２５、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路２７、及び空間的光変調器２５により変調された光ビームを照射する照射光学系２０ｂを有する複数の光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する。各光ビーム照射装置の空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきに応じて、各光ビーム照射装置の空間的光変調器へ供給する光ビームの入射角度を調節する。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。
【解決手段】各光ビーム照射装置２０の照射光学系２０ｂより前の光ビームの光路内に補正用ミラー５３を設け、各光ビーム照射装置２０に補正用ミラー５３の角度を調節する調節手段を設け、各光ビーム照射装置２０の空間的光変調器のミラー２５ａの動作角度のばらつきに応じて、各光ビーム照射装置２０の調節手段により各光ビーム照射装置２０の補正用ミラー５３の角度を調節して、各光ビーム照射装置２０の照射光学系２０ｂへ入射する光ビームの光路を補正する。 （もっと読む）

【課題】感光媒体上に形成される光像にスペックルが目立たないようにし、かつ被照明領域内の明るさのムラの発生を効果的に抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１０は、光学素子５０と、照射装置６０と、空間光変調器３０とを備える。走査デバイス６５を用いて、コヒーレント光をホログラム記録媒体５５上で走査させ、ホログラム記録媒体５５から照射されたコヒーレント光を被照明領域ＬＺと重なり合う空間光変調器３０に入射する。また、空間光変調器３０に近接して感光媒体１５を配置するため、きわめて簡易な構成で、感光媒体１５上にスペックルを目立たせずにコヒーレント光を導光できる。 （もっと読む）

【課題】エネルギー変換効率をさらに向上する。
【解決手段】ＥＵＶ光生成装置は、レーザ装置と、内部の所定のサイトにターゲット物質が供給されるチャンバと、前記光軸が実質的に一致している前記第２レーザ光と前記第３レーザ光とを前記所定のサイト付近に集光する集光光学系と、前記所定のサイト付近から放射された光のうち所定の帯域の光を選択的に反射する集光ミラーと、を備えてもよい。レーザ装置は、ビーム整形装置と、前記第１レーザ光を出力するメインレーザ装置と、前記第３レーザ光を出力するサブレーザ装置と、を備えてもよい。ビーム整形装置は、第１レーザ光を内部に暗い柱状の空間が存在する筒状の第２レーザ光に変換するビーム整形部と、第３レーザ光の光軸を前記第２レーザ光の光軸と実質的に一致させる光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】照明光源を状況に応じて調整する。
【解決手段】 露光装置の起動時においては、照明光源形状を計測し（ステップ２０８）、その計測結果と目標とに基づいて照明光源形状を評価し（ステップ２０９）、その評価結果に基づいて、ビーム形状を推定することと、照明光源のミラー特性を推定することと、照明光源の設定を最適化することとを含む調整方法の中からいずれかを選択する（ステップ２１０、２１２、２１３）。これにより、照明光源を短時間に及び／又は正確に調整することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】照明光源形状を正確に調整する。
【解決手段】
主制御装置により、照明光源の形状の目標と空間光変調器の複数のミラー要素に照射される光ビームの形状とに基づいて、複数のミラー要素とフライアイレンズの複数のレンズ素子との組み合わせが最適化され、その最適化結果に従って複数のミラー要素を介して照明光学系の瞳面に照明光源（二次光源）が形成され（ステップ２０６）、その照明光源の形状が計測され（ステップ２０８）、ビームに関する仮定（例えば光ビームの軸ずれなど）を立て、該仮定の下で前記計測の結果を用いて、ビームの形状が推定され（ステップ２１４）、ビームの形状の推定結果に基づいて照明光源の形状が調整される（ステップ２０６）。これにより、ビーム形状を正確に推定し、その結果に基づいて照明光源形状を正確に調整することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 偏光光をマスクを介して被照射物に照射する光照射装置において、マスクのパターンに忠実で解像度の高いパターンを形成することができ、しかも、十分に高い消光比を得ることのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、ショートアーク型の放電ランプおよびリフレクタよりなる光源素子の複数が、一方向に並んで配置されてなる光源素子列を有する光出射部と、光出射部からの光を、前記一方向に伸びる線状に集光する集光部材と、集光部材からの光が入射される、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が前記一方向に交互に並んで配置されてなるマスクと、集光部材とマスクとの間の光路上に配置された偏光素子とを備えてなり、偏光素子は、その法線が前記集光部材から前記マスクに対して入射される光の正反射方向の光軸に対して傾斜する状態で、配置されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ投影露光装置に備わる投影光学系の瞳面内の透過率分布を高精度に計測することのできる技術を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ投影露光装置において、反射光に位相差を与える複数のライン状の位相差パターンＭＰを有する検査用マスクを用いて、ウエハの主面上に位相差パターンＭＰの投影像を形成し、位相差パターンＭＰの一方のエッジ部に対応する投影像光強度の低下量と、位相差パターンＭＰの他方のエッジ部に対応する投影像光強度の低下量とを比較することにより、ＥＵＶ投影露光装置の瞳面内の透過率分布を把握する。 （もっと読む）

【課題】 複数個のＬＥＤ光源の放射光を合成して出射する構成のものにおいて、複数のピーク波長を有する連続した広範囲の波長範囲の光を出射することができると共に高い輝度を得ることのできる光源装置を提供すること。
【解決手段】 この光源装置は、ピーク波長が互いに近接する第１のＬＥＤ光源および第２のＬＥＤ光源と、第１のＬＥＤ光源から放射された放射光と、第２のＬＥＤ光源から放射された放射光を合成するダイクロイックミラーとを有し、前記ダイクロイックミラーは、前記第１のＬＥＤ光源からの放射光の入射角、および、前記第２のＬＥＤ光源からの放射光の入射角が、いずれも、５〜４０°となる状態で、配置されている。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、各光ビーム照射領域の各ミラーの描画中心点位置をデジタル値に変換する際に、周期的な偏りが生じないよう分散させて、均一に近い露光量で基板全面に亘って描画することができる露光装置または露光方法或いは前記露光装置または露光方法を適用し、高画質な表示用パネルを製造できる表示用パネル製造装置または表示用パネル製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器により描画データに基づいてフォトレジストが塗布された基板に光ビームを照射して描画する光ビーム照射装置と前記基板とを相対的に走査し、前記走査の位置をデジタル的に検出して行う際に、前記基板に描画する一定の描画領域内の露光量が均一に近づくように前記一定の描画領域内の前記各ミラーの描画中心点位置を分散させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶露光用の波長を選択的に反射する平面鏡の熱を効率的に放熱すると共に、急激な温度変化に対しても安定した露光が可能な信頼性の高い液晶露光装置を提供する。
【解決手段】平面鏡１１７の熱を保持板２０１で効率的に放熱すると共に、平面鏡１１７の温度センサー７０１および保持板２０１の温度センサー７０３の測定温度に応じて、平面鏡１１７と保持板２０１との伸縮量の差を抑制するように熱交換機７０５とヒーター７０７を制御して、保持板２０１の温度を調整する。 （もっと読む）