【課題】レーザ光の安定性と制御性とを向上する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置３と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ装置３から出力されるレーザ光３１を内部に導入するための少なくとも１の入射口が設けられたチャンバ２と、前記レーザ装置３から出力される前記レーザ光３１のビーム断面を拡大する拡大光学系５０と、ビーム断面が拡大された前記レーザ光３１を集光する集光光学系２２と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】照明光学系において、光源からの光の角度分布の不均一性を解消しつつ、均一な光強度分布を高い効率で形成するために有利な技術を提供する。
【解決手段】 光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系は、前記光源からの光を分割して複数の光束を生成する分割部と、前記分割部によって生成された前記複数の光束の光強度分布のそれぞれを均一化する第１反射型インテグレータと、前記第１反射型インテグレータからの光を集光する集光部と、前記集光部からの光を受けて前記被照明面を照明する第２反射型インテグレータと、前記第２反射型インテグレータと前記被照明面との間に配置される開口絞りとを備え、前記分割部は、前記開口絞りが配置される面に対して、前記光源から前記分割部に提供される光の断面形状とは異なる断面形状を有する光が入射するように、前記複数の光束を生成する。 （もっと読む）

【課題】光学部材と温度調節機構との間で熱交換を速やかに行うことができる光学ユニット、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】入射側フライアイミラー４８の第２面４９を支持する支持面５０ａと、該支持面５０ａとは異なる裏面５０ｂとを有し、支持面５０ａから裏面５０ｂを貫通する第１貫通孔６３ａが形成された支持部材５０と、入射側フライアイミラー４８に係合する先端側部位６５ｂと、第１貫通孔６３ａ内に配置される基端側部位６５ａとを有する軸部６５を備え、軸部６５の一端部から軸部６５の他端部を貫通する第２貫通孔６７が形成されるとともに、入射側フライアイミラー４８と支持部材５０とを係合するボルト６４と、ボルト６４の第２貫通孔６７に挿入され、入射側フライアイミラー４８との間で熱交換を行う突出部材６９と、突出部材６９を介して、入射側フライアイミラー４８の温度を調整する温度調節装置４４とを備える。 （もっと読む）

【課題】エネルギー変換効率をさらに向上する。
【解決手段】ＥＵＶ光生成装置は、レーザ装置と、内部の所定のサイトにターゲット物質が供給されるチャンバと、前記光軸が実質的に一致している前記第２レーザ光と前記第３レーザ光とを前記所定のサイト付近に集光する集光光学系と、前記所定のサイト付近から放射された光のうち所定の帯域の光を選択的に反射する集光ミラーと、を備えてもよい。レーザ装置は、ビーム整形装置と、前記第１レーザ光を出力するメインレーザ装置と、前記第３レーザ光を出力するサブレーザ装置と、を備えてもよい。ビーム整形装置は、第１レーザ光を内部に暗い柱状の空間が存在する筒状の第２レーザ光に変換するビーム整形部と、第３レーザ光の光軸を前記第２レーザ光の光軸と実質的に一致させる光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 偏光光をマスクを介して被照射物に照射する光照射装置において、マスクのパターンに忠実で解像度の高いパターンを形成することができ、しかも、十分に高い消光比を得ることのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、ショートアーク型の放電ランプおよびリフレクタよりなる光源素子の複数が、一方向に並んで配置されてなる光源素子列を有する光出射部と、光出射部からの光を、前記一方向に伸びる線状に集光する集光部材と、集光部材からの光が入射される、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が前記一方向に交互に並んで配置されてなるマスクと、集光部材とマスクとの間の光路上に配置された偏光素子とを備えてなり、偏光素子は、その法線が前記集光部材から前記マスクに対して入射される光の正反射方向の光軸に対して傾斜する状態で、配置されている。 （もっと読む）

【課題】露光量のきめ細かな監視および調整を可能にする。
【解決手段】実施形態の露光装置は、ＥＵＶ光を発光し、パターンが作成された第１の基板に照射する光源と、光学素子を有し、前記第１の基板から発せられる光束を縮小して第２の基板に照射することにより前記パターンを前記第２の基板に転写する縮小光学系と、前記ＥＵＶ光の照射により前記光学素子から発生する光電子を検出する光電子検出手段と、前記光電子検出手段の検出信号と前記光学素子表面の座標情報とから前記光学素子表面の状態分布を表す面内分布情報を作成する面内分布情報作成部と、を持つ。 （もっと読む）

【課題】 高いスループットを達成することができる反射光学装置、光学ユニット、露光装置、デバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 第１フライアイ光学装置２１は、光を反射する複数のミラー面２１ａを二次元面に配置することで、構成されている。複数のミラー面２１ａは、隣接したミラー面の間の少なくとも一部に空隙が形成されるように、隣接したミラー面の少なくとも一方の寸法を短くして形成され、第１フライアイ光学装置２１は、空隙に達する光を受光するための検出装置２６を備えている。 （もっと読む）

【課題】 放物トーリック形状の回転体で構成されたミラーを用いた場合でも、結像性能を低下させない照明光学系を提供する。
【解決手段】 照明光学系は、被照明面のフーリエ変換面又はその近傍に配置された開口絞りと、前記開口絞りと前記被照明面との間に配置され、放物トーリック形状の回転体が形成する面を反射面とするミラーと、を備える。形状の面積をＳ、該形状の周囲長をＬとし（４πＳ／Ｌ^２）で表される数値を該形状の円形度と定義するとき、前記開口絞りの形状は、前記ミラーよりも前記被照明面側であって前記被照明面とフーリエ変換の関係である面における光強度分布の外形形状を０．８以上の円形度とする形状に定められる。 （もっと読む）

【課題】光源装置において光を集光するために用いられるミラー装置において、温度調節機構からミラー基板に力が加わっても、ミラーの歪みを発生しにくくする。
【解決手段】ミラー装置は、一方の面に反射層が形成され、内部に温度調節媒体のための少なくとも１つの流路が形成されたミラー基板と、ミラー基板を複数の位置においてそれぞれ支持する複数の支持部と、ミラー基板が複数の支持部によって支持される複数の位置の内の少なくとも１つの位置の近傍において少なくとも１つの流路に接続された少なくとも１つの供給配管及び少なくとも１つの排出配管とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 ランプを過冷却にすることなく、集光鏡に対して十分な冷却風を供給できる構造を実現すること
【解決手段】 ランプと、このランプからの光を反射する曲面の反射面を有する集光鏡と、この集光鏡を上向きに支持する集光鏡支持機構と、ランプと集光鏡を冷却する冷却風を取り入れる冷却風取入れ口ランプと集光鏡を冷却した後の冷却風を排気する冷却風排気口とを備えた光照射装置において、集光鏡支持機構は、集光鏡を裏面側から集光鏡の曲面に対して法線方向に弾性体により持上げる支持棒を設けた複数個の支持体と、支持体を取り付けられるフレームと、集光鏡の光出射口の周縁が押付けられる集光鏡押さえ板を備える。集光鏡の光出射口の周縁は、集光鏡押さえ板の開口とこの開口の周辺に形成した通風孔との間に押付ける。 （もっと読む）

【課題】比較的短時間の熱処理で脈理が抑制されたＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体を得ることができるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体の製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体を得る工程、（ｂ）前記多孔質ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体を真空雰囲気下、または、不活性ガス雰囲気下で、１３００℃以上で熱処理することにより、前記多孔質ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体を緻密化する工程、（ｃ）前記緻密化されたＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスを成型容器内に設置し、前記成型容器内で前記ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスを軟化点以上の温度で加圧成型する工程、および、（ｄ）前記加圧成型後のＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスを１６００℃以上の温度で１０時間以上保持する工程を有する、ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体の製造方法であって、前記（ｃ）工程におけるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの加圧方向が、前記（ａ）工程におけるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス微粒子の堆積方向と一致し、加圧成型後のＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの厚みが、加圧成型前の該ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの厚みの０．６倍未満であることを特徴とするＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ミラーの温度を応答性よく調整すること。
【解決手段】ミラー温調装置１００は、ＥＵＶ光を反射する凹面ミラー３５に対して所定間隔離して配置され、凹面ミラー３５との間に介在する液体金属１０６の温度を調整する温度調整部材１０１と、凹面ミラー３５に近接する方向又は凹面ミラー３５から離間する方向に温度調整部材１０１を移動する駆動機構１０５とを備える。凹面ミラー３５の熱負荷が大きく変化した場合、温度調整部材１０１の温度を制御することに加えて、駆動機構１０５によって温度調整部材１０１を移動することによって液体金属１０６の熱伝達率を変化させることができるので、凹面ミラー３５の温度を応答性よく調整できる。 （もっと読む）

【課題】対象物の変位量を簡易な構成で計測することができる変位センサ、駆動装置、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹面鏡４１の変位量を計測可能に構成され、圧電部材５３に対する電圧の印加に伴って、圧電部材５３から駆動力が伝達されて凹面鏡４１に対して接触する接触位置まで変位する接触部材５８と、接触部材５８の変位量を計測する受光素子６２と、受光素子６２の計測結果に基づき、接触部材５８が接触位置まで変位したか否かを判別すると共に、接触部材５８が接触位置まで変位した旨を判別した時点での接触部材５８の位置を、凹面鏡４１の変位量を計測する際の基準となるスケール６０の原点として設定する制御装置６４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、室温における熱膨張係数がほぼゼロとなり、ガラスから水素を放出させることで多層膜の物性を長時間維持させることが可能なＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】仮想温度が１１００℃以下であり、水素分子濃度が５×１０^１７分子／ｃｍ^３以上であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が１２〜４０℃の範囲にあることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】光学部材に対して過大な力が作用することを抑制できる光学部材変形装置、光学系、露光装置、及び、デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹面鏡４１の形状を変形させるミラー変形装置５３において、凹面鏡４１に対して吸着する吸着部と、アクチュエータ６１から伝達される駆動力に基づいて、吸着部を変位させる変位機構と、変位機構から吸着部に伝達される変位量を縮小する弾性部とを備える。 （もっと読む）

【課題】紫外光を検出するセンサーの劣化を抑えるとともに、制御系統を増やすことなく照度分布のフィードバック制御の実現を図る。
【解決手段】ランプハウス１１内に配置された紫外光を発する無電極ランプ１２から照射される紫外光を、開口２２２を介してランプハウス１１外に放射させる。開口２２２は、シャッター２４で開閉可能となる。シャッター２４の先端には紫外光の照度を検出するためのセンサー２５が取着され、シャッター２４の開閉に伴い照度の検出を行う。この検出結果に基づきランプ１２の照度を調整するようにした。センサー２４未使用時には紫外光が照射されないように、遮蔽板２６１，２６２を配置する。これにより、紫外光を検出するセンサーの劣化を抑えるとともに、制御系統を増やすことなく照度分布のフィードバック制御が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 例えばＥＵＶ光を用いる露光装置であって、高いスループットを達成することのできる露光装置。
【解決手段】 本発明の露光装置は、光源（１）より射出された光が集光する集光点（１ａ）からの光を用いて、第１面に設置される反射型のマスク（Ｍ）を照明する照明光学系と、マスクのパターンを第２面に設置される感光性基板（Ｗ）に投影する投影光学系（ＰＯ）とを備えている。集光点から投影光学系の光軸（ＡＸ）へ導いた垂線の長さをＤｈとし、第１面と第２面との光軸に沿った距離をＤｖとするとき、０．１２＜Ｄｈ／Ｄｖ＜１．３４の条件を照明光学系と投影光学系とが満足する。 （もっと読む）

【課題】放射ビームからの不均一な熱負荷にもかかわらず正確な表面形状を維持することが可能であるＥＵＶリフレクタを有するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、リフレクタの一部分を冷却するクーラおよびリフレクタの一部分を加熱するヒータを含む熱アクチュエータと、リフレクタに力を加えるために、リフレクタの一部分に加えられる加熱および冷却の相対量を変更するために熱アクチュエータを制御する制御システムを有する、上記リソグラフィ装置では、リフレクタの一部分が加熱および冷却される。加熱および／または冷却の比率を調節して一部分の温度を調節する。一部分の温度における変化は、リフレクタにその形状を変化させる力を及ぼす。 （もっと読む）

【課題】特殊な光源を用いず、通常の超高圧水銀灯の放電管やレーザー光源を用いつつ、照明効率が良い照明光学系を提供する。
【解決手段】光源１８から導入した光を照射対象物に照射する照明光学系１０であって、照射対象物と共役な面１４に入射した光の一部を取得し、該取得した光を照射対象物と共役な面１４に再度導く循環光学系１７を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の上に発光素子の光軸と光学部品の光軸を正確に位置合わせした光源装置を低コストで実現する。
【解決手段】本発明の光源装置は次のような構成である。基板４は第１の電極パッド４１１と第２の電極パッド４１２を有し、発光素子２は、出光面２１と第３の電極パッド２６を有するパッケージと、前記パッケージの内部に収容された発光素子チップを有し、光学部品は、レンズ部３１と台座部３２と、台座部３２に形成された接合面３３を有し、レンズ部３１は発光素子２の出光面２１を覆っており、基板４に形成された第１の電極パッド４１１と発光素子２に形成された第３の電極パッド２６ははんだ１０で接合され、基板４に形成された第２の電極パッド４１２と光学部品の台座部３２に形成された接合面３３は、はんだ１０によって接合されている。 （もっと読む）