【課題】複数の光源部の照度をそれぞれ制御することで、ギャップ分布による露光面での照度のばらつきを小さくすることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置ＰＥは、複数の光源部７３と、露光制御用シャッター７８と、インテグレータレンズ７４と、コリメーションミラー７７と、を有する照明光学系７０を備え、基板Ｗに対して近接対向するマスクＭに向けて照明光学系７０から光を照射することで、マスクＭのパターンＰを基板Ｗに露光する。露光領域内の複数箇所にて、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを測定するギャップセンサ１７を備え、複数の光源部７３は、複数箇所にて測定された各ギャップに応じて照度をそれぞれ変更する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクの密着性能を向上することができる密着露光装置及び密着露光方法を提供する。
【解決手段】基板保持部１１の保持面１１ａには、ワークＷの裏面に向けて開口する、複数の第１エア流通孔３１、及び該複数の第１エア流通孔３１よりも外側に設けられた複数の第２エア流通孔３２と、を備え、複数の第２エア流通孔３２が開口する領域Ｅの内周側及び外周側には、ワークＷの裏面と接触可能な環状の内周側弾性部材３３及び外周側弾性部材３４がそれぞれ配置される。マスク保持部４と基板保持部１１との間には、マスクＭ及びワークＷを囲む、弾性の密封部材３５が設けられ、マスクＭ、マスク保持部４、基板保持部１１、及び密封部材３５によって密封空間Ｓを画成する。制御手段３０は、複数の第１エア流通孔３１を大気開放し、複数の第２エア流通孔３２からエアを吸引し、且つ、密封空間Ｓ内のエアを吸引して密封空間Ｓ内を負圧にし、密封空間Ｓ内の圧力が所定の基準負圧に達したとき、複数の第２エア流通孔３２を大気開放する。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構成で、マスクの撓みを補正しつつマスクを保持することができ、高精度で露光転写することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】マスクステージ１は、マスクＭを下面に真空吸着して保持するマスクホルダ２６と、マスクホルダ２６の上面側に保持されるカバーガラス３２と、マスクホルダ２６、マスクＭ、及びカバーガラス３２によって画成される空間３３内の空気を吸引して該空間３３内を減圧させる吸引機構４０と、減圧された空間３３内に外部から空気を供給する少なくとも１つの空気導入溝３５と、を備える。そして、マスクＭをマスクホルダ２６の下面に真空吸着してマスクＭを保持し、また、吸引機構４０によって空間３３内の圧力を吸引するとともに、空気導入溝３５を介して外部の空気を空間３３に供給することで、空間３３内の圧力を所定の圧力に調整する。 （もっと読む）

【課題】基板位置を検出するセンサを任意の位置に設置することができ、且つスループットを向上させることができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージ１０は、基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗの端部を検出する反射式センサ２０を備え、反射式センサ２０による基板Ｗの端部の検出に基づいて、リニアモータ３９、４６の移動量を管理しつつ、露光領域ＥＰとローディング領域ＷＰ間での移動速度より遅い移動速度で基板Ｗを露光位置ＯＥＰに移動させる。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの多面取り露光等ワークが大型化した状態においも、カラーフィルタの露光パターンにおける色むら等を防止して、高精度、高スループットの露光を達成するための露光装置を提供する。
【解決手段】仕切り壁８１１と突起８１２との間隔Ｌは、突起８１２同士の間隔Ｌに等しくなるので、保持したワークＷの下面ＷＶの撓み量は、仕切り壁８１１と突起８１２との間、及び隣接する突起８１２同士の間でほぼ等しくなる。これにより仕切り壁８１１と突起８１２と、突起８１２同士の間隔とをほぼ等しく調整することができ、ワークＷの平面度を向上させて、露光ムラを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との間の押圧力の発生を防止または低減して、基板の割れを防止あるいは抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１００は、マスクホルダ１１と基板ステージ１２の一方には、マスクＭ又は基板Ｗの周囲に配置され、自身の長さを調整可能な複数のギャップ規制機構が設けられ、ギャップ規制機構は、マスクと基板との間のギャップが所望のギャップとなったときに、マスクホルダ１１と基板ステージ１２の他方と当接する。 （もっと読む）

【課題】製品に実装されるサイズの基板を露光する際に、アライメントを精度良く行うことができる露光装置、露光方法、並びに露光ユニットを提供する。
【解決手段】近接露光装置３〜５は、パターンＰ２〜Ｐ４を有するマスクＭ２〜Ｍ４を保持するマスクステージ１０と、基板Ｗ１〜Ｗ３を保持する基板ステージ１１と、マスクＭ２〜Ｍ４のパターンＰ２〜Ｐ４を介して基板Ｗ１〜Ｗ３に露光光を照射する光学系と、基板Ｗ１〜Ｗ３とマスクＭ２〜Ｍ４の一部を検出するレーザと、を備える。マスクＭ２〜Ｍ４と基板Ｗ１〜Ｗ３のアライメントは、レーザによって検出される、一層目の近接露光装置２によって基板Ｗ１に露光転写されたブラックマトリクスパターンＷＰ１のコーナー部ｃと、基板Ｗ１〜Ｗ３のブラックマトリクスパターンＷＰ１の外側に位置するマスクＭ２〜Ｍ４のアライメントマークＡ１〜Ａ３とが互いにオフセットした位置となるようにして実行される。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの温度を管理して、基板の膨張、収縮に起因する露光精度への影響を抑制することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持するワークステージ２をステップ駆動するワーク駆動部は、第１固定子、及び第１固定子に対向配置された第１可動子を備える第１リニアモータ３０と、第２固定子、及び第２固定子に対向配置された第２可動子を備える第２リニアモータ４０とで構成される。第１及び第２可動子に沿って配設された冷媒循環路と、冷媒を循環供給する第１及び第２可動子側冷媒供給装置と、冷媒循環路の入口付近及び出口付近に配設されて、冷媒の温度を検出する温度センサとを備え、温度センサによって検出された冷媒の温度に基づいて、リニアモータ３０、４０から基板Ｗに伝達される熱量が一定となるように温度管理される。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークを形成しにくい基板でもアライメントを精度良く行うことができる露光装置、及びその露光方法、並びに露光ユニットを提供する。
【解決手段】近接露光装置３〜５は、パターンＰ２〜Ｐ４を有するマスクＭ２〜Ｍ４を保持するマスクステージ１０と、被露光材としての基板Ｗ１〜Ｗ３を保持する基板ステージ１１と、パターンＰ２〜Ｐ４を介して基板Ｗ１〜Ｗ３に露光光を照射する照明光学系と、基板Ｗ１〜Ｗ３とマスクＭ２〜Ｍ４の一部を撮像するアライメントカメラと、を備える。マスクＭ２〜Ｍ４と基板Ｗ１〜Ｗ３のアライメントは、撮像される、一層目の基板Ｗ１に露光転写されたブラックマトリクスパターンのコーナー部と、基板Ｗ１〜Ｗ３のブラックマトリクスパターンの外側に位置するマスクＭ２〜Ｍ４のアライメントマークとが所定の距離だけ互いにオフセットした位置となるようにして実行される。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを露光装置から効率的に回収し又分配できる搬送装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】それぞれパターンＰを形成した複数のマスクＭの間に間座２０を配置して、重ねて搬送するので、重ねた時に間座２０によりマスクＭのパターンＰが損傷しないように隙間をあけることができ、コンパクトな状態で搬送を行えると共に、複数のマスクＭを一度で回収でき、且つ一度で分配できるので搬送時間が大幅に短縮され、マスクＭを用いた装置の稼働率を向上させることができる。 （もっと読む）