【課題】衝撃が作用したとき、少ないスペースで効果的にランプ及びカバーガラスの損傷を防止することができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、複数の光源部７３を支持する略矩形状のカセット８１とを備え、カセット８１には、カセット８１に加わる衝撃力を吸収して光源部７３に作用する衝撃力を緩和する緩衝部材１０１が配置されている。 （もっと読む）

【課題】衝撃が作用したとき、少ないスペースで効果的にランプ及びカバーガラスの損傷を防止することができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、複数の光源部７３を支持するカセット８１とを備え、複数のカセット８１が配設された支持体８２の前面側の４隅には、支持体８２に加わる衝撃力を吸収して光源部７３に作用する衝撃力を緩和する支持体用緩衝部材８８が配置されている。 （もっと読む）

【課題】衝撃が作用したとき、少ないスペースで効果的にランプ及びカバーガラスの損傷を防止することができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、複数の光源部７３を支持する略矩形状のカセット８１とを備え、光源部７３には、カセット８１に加わる衝撃力を吸収して光源部７３に作用する衝撃力を緩和する緩衝部材８８、８９が配置されている。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の歪曲収差と非点収差とをともに目標範囲内に収めるのに有利な露光装置の提供。
【解決手段】 露光装置は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有し、前記基板の露光を行う。前記投影光学系は、その瞳の前側に第１平行平板を含み、かつ、前記瞳の後側に第２平行平板を含み、前記第１平行平板および前記第２平行平板の互いに対応する点をそれぞれ同方向に移動するように撓ませて得られる２つの形状を第１形状および第２形状とし、かつ、前記第１平行平板および前記第２平行平板の互いに対応する点を反対方向に移動するように撓ませて得られる２つの形状を第３形状および第４形状としたとき、前記第１形状と前記第３形状とを合成した第５形状となるように前記第１平行平板を変形させ、かつ、前記第２形状と前記第４形状とを合成した第６形状となるように前記第２平行平板を変形させて、前記投影光学系の歪曲収差および非点収差を調整する。 （もっと読む）

【課題】回転傾斜露光装置において、液体槽に溜められた液体に被照射物等が浸されることなく、液体を介して被照射物に露光光を照射することができるようにすること。
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸された被照射物保持構造体１０の光入射部３２から入射し被照射物Ｗに照射される。被照射物保持構造体１０は、防液部材３０、ステージ２１、回転モータ２２等から構成される。マスクＭ上にレジストＲを塗布した被照射物Ｗはステージ２１に載置され、被照射物ＷのマスクＭ側が防液部材３０の光入射部３２に密接するように配置される。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置された被照射物Ｗが回転する。被照射物Ｗが光入射部３２に密着しているので、液体中に被照射物Ｗを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 ワーク基板に生じている歪み変形に極力対応するマスクパターン像を投影可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の露光装置は、ワーク基板１４に投影されるマスクパターン１３’の投影光路に設けられた平行平面板３１と、平行平面板３１の互いに交差する二辺により構成される角部３１Ａと角部３１Ａとの間の中間部を支点とする拘束部材と、平行平面板３１の各角部３１Ａに投影光路の光軸方向に加圧力を加えて拘束部材を支点にして平行平面板３１を歪み変形させる加圧部材とからなる歪み変形形成機構１７を備えている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ実施時において、光学部材全体の線熱膨張係数がほぼゼロとなるＥＵＶＬ光学部材用基材の提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂を含有するシリカガラスからなり、対向する２つの面における、線熱膨張係数（ＣＴＥ）が０ｐｐｂ／℃となる温度（クロスオーバー温度：Ｃｒｏｓｓ−ｏｖｅｒ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ；ＣＯＴ）の差が５℃以上である、ＥＵＶリソグラフィ光学部材用基材。 （もっと読む）

【課題】ディストーションおよび非点収差のうちの一方を調整したことによる他方への影響を低減する。
【解決手段】露光装置に係り、投影光学系は、光路を折り曲げる第１平面鏡および第２平面鏡と、前記投影光学系の物体面と前記第１平面鏡間に配置された第１光学部材と、前記投影光学系の像面と前記第２平面鏡間に配置された第２光学部材と、第１駆動機構と、第２駆動機構とを備え、前記第１光学部材および前記第２光学部材の一方はパワーを有する屈折光学部材であり、他方は平行平板であり、前記第１駆動機構が前記屈折光学部材の位置調整によって発生する前記投影光学系のディストーションおよび非点収差の一方が、前記第２駆動機構が前記平行平板を変形させて低減され、又は、前記第２駆動機構が前記平行平板を変形させて発生する前記投影光学系のディストーションおよび非点収差の一方が、前記第１駆動機構が前記屈折光学部材の位置調整によって低減される。 （もっと読む）

【課題】スペックルノイズを低減することができ、かつ光量損失を抑制することができる照明光学系を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る照明光学系２０は、入射するレーザ光の径よりも小さい、それぞれ異なる径の複数の凹面及び凸面の少なくともいずれか一方が不規則に配列され、当該レーザ光を拡散するレンズアレイ２１と、レンズアレイ２１を回転させる駆動部２２とを備える。レンズアレイ２１は、凹面のみを有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】非点収差の発生を抑制しつつ互いに直交する２方向の倍率を補正しうる投影光学系を提供する。
【解決手段】物体面ＯＰ側から像面ＩＰに至る光路に順に、第１平面鏡１３、第１凹面鏡１４、凸面鏡１５、第２凹面鏡１６、第２平面鏡１７が配置され、物体面と第１平面鏡間の光路と第２平面鏡と像面間の光路が平行である投影光学系ＰＯにおいて、物体面と第１平面鏡との間の光路に配置され投影光学系の倍率を補正する第１光学系１０と、第２平面鏡と像面との間の光路に配置され投影光学系の倍率を補正する第２光学系１８と、物体面と第１平面鏡との間の光路又は第２平面鏡と像面との間の光路に配置され、投影光学系の倍率を補正する第３光学系１１，１２と、制御部Ｃとを備え、投影光学系の補正されるべき量をそれぞれ第１光学系の補正量、第２光学系の補正量、第３光学系の補正量を制御することにより達成する。 （もっと読む）

【課題】露光装置、レーザ加工装置、光洗浄装置等、集積回路等の微細パターンを露光・転写に用いるステッパ露光装置に用いられる光学系材の蛍光発光による欠陥をなくし、強度低減できるより優れた透過性能を備えた合成石英ガラスの提供。
【解決手段】水素含浸処理前の合成石英ガラスは、２８０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、及び３９０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥が抑圧されており、水素含浸処理により、２８０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、及び３９０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、６５０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥が抑圧されている。 （もっと読む）

【課題】受光部で受光される光量の変化を小さくすることが可能な光強度検出装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】光強度検出装置２５は、入射する露光光ＥＬの少なくとも一部を反射可能な第２ビームスプリッタ２６及び第３ビームスプリッタ２７と、該第２ビームスプリッタ２６及び第３ビームスプリッタ２７からの反射光を受光する第２光電センサ２９及び第３光電センサ３０とを備えている。そして、光強度検出装置２５における第２ビームスプリッタ２６よりも光源側には、該第２ビームスプリッタ２６への露光光ＥＬの入射角が変化した場合に第２光電センサ２９及び第３光電センサ３０で受光される光量の変化が小さくなるように該露光光ＥＬの直線偏光成分を第２ビームスプリッタ２６に対して回転させる１／２波長板３２が配置されている。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に設けられた区画領域に対して、精度よくパターンを転写することのできる転写装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 転写装置（ＥＸ）は、基板（ＦＢ）を保持して長手方向に移送する移送装置（ＦＲ、ＷＲ）と移送装置（ＦＲ、ＷＲ）に保持された基板（ＦＢ）の一部を保持し、基板（ＦＢ）の表面に沿って移動するステージ装置（ＦＢＳ）とを含む搬送機構と、搬送機構によって移動される基板（ＦＢ）に計測光を照射し、搬送機構による基板の移動方向に沿って基板（ＦＢ）に設けられた複数のマーク（ＡＭ）からの回折光を検出する検出装置（ＬＳＡ）と、検出装置（ＬＳＡ）の検出結果に基づいて区画領域（ＥＡ）の変形に関する情報を算出する演算装置と、演算装置の算出情報に基づいてパターンを補正する補正装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の微小なミラーを用いて、光源からの光をマルチビーム化する技術において、マルチビーム化された各ビームの位相を簡易な構造で制御する。
【解決手段】パターンを描画する描画装置１に、複数の微小ミラーを備えた空間光変調デバイス２、各微小ミラーに与える開始信号によって各微小ミラーの偏向動作の開始タイミングを制御するミラー制御部、および、位相を反転させる平行平面板４４を設ける。レーザ光を所定の周期Ｔで照射しつつ、各微小ミラーが偏向を開始するタイミングを個々のミラーごとにミラー制御部によって制御する。これにより各微小ミラーによって形成される各ビームの進行方向を制御して、正位相とするビームをアパーチャ４５に導くとともに、逆位相とするビームのみをアパーチャ４６および平行平面板４４に導いて位相を反転させる。 （もっと読む）

【課題】フライアイレンズにより生じるレーザ光の干渉縞を平均化すると共に、レーザ光の照度ムラを低減する。
【解決手段】レーザ光の断面形状を拡大する第１のフライアイレンズ２と、第１のフライアイレンズ２のレーザ光の入射側に配置され、第１のフライアイレンズ２の各集光レンズ２ａに夫々入射するレーザ光に位相差を生じさせる第１の光路差調整部材３と、第１のフライアイレンズ３を射出したレーザ光を平行光にするコンデンサーレンズ４と、レーザ光によるフォトマスクの照明領域内の光強度分布を均一化する第２のフライアイレンズ６と、第２のフライアイレンズ６のレーザ光の入射側に配置され、第２のフライアイレンズ６の各集光レンズ６ａに夫々入射するレーザ光に位相差を生じさせる第２の光路差調整部材７と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系およびそれを用いた投影露光装置において、少数の光学部材で高精度に投影光学系に発生するディストーション変化を補正する。
【解決手段】
投影光学系１００は、光学素子２１１と光学素子２１２からなる光学素子群２１と、光学素子２１１と光学素子２１２とのうち少なくとも１つを駆動する制御装置１０４３を有する。光学素子群２１は、互いに相補な関係にある非球面を有し、非球面が対向するように配置される。制御装置１０３は、互いに直交する第１の方向と第２の方向とに、光学素子２１１と光学素子２１２との相対位置を変えることによって、第１の方向と第２の方向に各々対応する投影光学系１００の光学性能を制御する。 （もっと読む）

【課題】計測用の光学系又は計測装置の校正を高精度に行う。
【解決手段】投影光学系ＰＬの波面収差の計測装置において、投影光学系ＰＬを通過した光束をほぼ平行光束にする対物レンズ２３と、対物レンズ２３からの光束の波面を分割し、分割された各光束を集光するマイクロレンズアレイ２４と、集光された各光束を受光する撮像素子２５と、投影光学系ＰＬと対物レンズ２３との間に配置され、投影光学系ＰＬを通過した光束を拡散させる拡散面２１ａが形成された拡散板２１とを備える。 （もっと読む）

【課題】収差の発生を抑制できる投影光学系を提供する。
【解決手段】投影光学系は、第１面からの照射光を第２面に供給して、第１面の像を第２面に投影する。投影光学系は、照射光の光路に配置可能であり、照射光のうち、第１偏光成分の光と第２偏光成分の光との間で発生する位相差を低減する位相差補償部材と、光路に位相差補償部材が配置されるように位相差補償部材をリリース可能に保持する保持機構とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 像面との間の光路中に高屈折率の媒質を介在させて、大きく且つ実効的な像側開口数を確保する。
【解決手段】 第１面の像を第２面（Ｗ）上に形成する投影光学系は、複数の光透過部材を備え、複数の光透過部材のうち最も第２面側に配置される第１光透過部材（Ｌｐ）と第２面との間の光路は、第１媒質で満たされ、第１光透過部材と、第１光透過部材の第１面側に隣接して配置される第２光透過部材（Ｌ３１３；Ｌｂ）との間の光路は、第２媒質で満たされている。第１および第２媒質は、投影光学系の光路中の雰囲気の屈折率を１とするとき、１．１よりも大きな屈折率であって、且つ第１および第２光透過部材の屈折率とは異なる屈折率を有している。 （もっと読む）

【課題】 像面との間の光路中に高屈折率の媒質を介在させて、大きく且つ実効的な像側開口数を確保する。
【解決手段】 第１面（ＯＰ）の像を１．１よりも大きい屈折率を有する媒質（ＩＬ）を介して第２面（ＩＰ）上に投影するための投影光学系は、最も第２面側に配置された境界レンズ（Ｅ２３３）を含む複数のレンズを有する光路を有し、境界レンズの第１面側の面は正の屈折力を有する。ただし、光路中の雰囲気の屈折率を１とする。 （もっと読む）