【課題】照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布の決定に有利な技術を提供する。
【解決手段】照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布を決定する方法であって、照明光学系の瞳面に形成される互いに異なる複数の要素光源を生成するＳ１０８と、投影光学系が有しうる互いに異なる複数の収差状態を設定するＳ１１０と、複数の収差状態から選択した１つの収差状態を投影光学系に与え、Ｓ１０８で生成した複数の要素光源から選択した１つの要素光源でマスクのパターンを照明したときに形成される光学像を、複数の収差状態と複数の要素光源との組み合わせの全てについて算出すＳ１１２と、算出した光学像に基づいて、マスクのパターンの光学像の評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けを決定し、重み付けを与えた複数の要素光源を合成した光源を照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定する。 （もっと読む）

【課題】プロセス区域内のエアフローおよび圧力波による結像誤差が非常に減少したリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイス２を支持するように構成された支持体１と、基板５を保持するように構成された基板テーブル４と、パターン付き放射ビームを基板５のターゲット部分に投影するように構成された投影システム３と、エアフローおよび／または圧力波のソースとエアフローおよび／または圧力波に敏感な要素との間に配置されたシールドデバイス９とを含む。 （もっと読む）

【課題】 空間光変調器において不良光学要素が発生しても所望の瞳強度分布を安定的に形成に形成することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源（１）からの光に基づいて被照射面（Ｍ）を照明する照明光学系（ＩＬ）は、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、照明光学系の照明瞳に瞳強度分布を形成する空間光変調器（３０）と、複数の光学要素の各々を経て照明瞳と光学的に共役な共役位置に入射する各光束を検出する検出部（９）と、複数の光学要素の各々についての検出部による各検出結果を類別し、該類別された情報を用いて複数の光学要素を個別に制御する制御部（ＣＲ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の診断に有利な情報処理装置を提供すること。
【解決手段】 ユニットの較正処理を行う機能を有する露光装置が行った処理に関して蓄積された情報を処理する情報処理装置は、指定条件に従って前記情報を分析することにより、各較正処理を行うまでの指定期間における前記露光装置の運用状況の類別を行い、前記類別により定まる特定の前記運用状況に該当する複数の較正処理に関して、較正値の変化を表す情報を生成して出力する、ものとする。 （もっと読む）

【課題】除振対象である吊下げ対象物のアライメントが当初からずれても、そのずれを解消できる物体吊下げ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一端側が鏡筒フレーム３１に繋がれ、他端側が連結位置で投影光学系鏡筒３０に繋がれる３本のワイヤ３２と、３本のワイヤ３２の各々の連結位置を、投影光学系鏡筒３０に対して、水平方向と鉛直方向に独立して変位させるアライメント調整機構３３と、を備える。このアライメント調整機構３３は、３本のワイヤ３２の各々の連結位置を、投影光学系鏡筒３０に対して、水平方向に変位させる水平方向調整部５０と、鉛直方向に変位させる鉛直方向調整部６０と、を備える。そして、水平方向調整部５０が連結位置を水平方向に変位させるのに伴って鉛直方向調整部６０が水平方向に変位し、鉛直方向調整部６０が連結位置を鉛直方向に変位させるのに伴って水平方向調整部５０が鉛直方向に変位する。 （もっと読む）

【課題】偏光方向を含む有効光源を少ない計算コストで導出することができる技術を提供する。
【解決手段】照明光学系と投影光学系とを備える露光装置において、投影光学系の瞳面に形成される有効光源をコンピュータによって決定する決定方法であって、有効光源を複数の領域に分割するステップと、複数の領域のうち少なくとも１つの領域を選択するステップと、選択した領域からの光が第１の方向の直線偏光であると仮定したときに投影光学系の像面上の少なくとも１つの評価点に形成される像の電場振幅ベクトルを算出すると共に、選択した領域からの光が前記第１の方向に直交する第２の方向の直線偏光であると仮定したときに投影光学系の像面上の少なくとも１つの評価点に形成される像の電場振幅ベクトルを算出する第１の算出ステップと、電場振幅ベクトル、及び、電場振幅ベクトルを用いて、選択した領域の偏光方向を決定する第１の決定ステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】 微細なホールパターンの形成に好適な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 マスクパターンは、第１の方向に一定の第１の間隔を有して、第１の方向と直交する第２の方向に延びる複数本の平行線上に、それぞれの中心が個々の平行線上ごとに第２の方向に一定の第２の間隔で配置された透明領域である複数の開口パターンを含み、かつ、複数本の平行線のうちの隣り合う平行線上に配置された複数の開口パターンは、それぞれの中心が第２の方向に第２の間隔の１／ｎ（ｎは３以上の整数）だけそれぞれずれて配置されているマスクパターンであり、照明光源は、フォトマスクからの回折光のうち、３個の回折光が投影光学系の瞳を通過するように照明形状が設定されている。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージと光学系ユニットとの角度ずれを抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ウエハが載置されるウエハステージ１６と、フォトマスクのパターンをウエハステージ１６上のウエハに投影する光学系ユニット１８と、ウエハステージ１６と光学系ユニット１８を支持するフレーム２０と、流体供給手段３５を有する露光装置１０。フレーム２０は、ウエハステージ１６を支持するウエハステージ支持部２２と、ウエハステージ１６の上方で光学系ユニット１８を支持する光学系ユニット支持部２４と、ウエハステージ支持部２２と光学系ユニット支持部２４とを接続する複数の第１柱状部２８ａ〜３０ａを有している。各第１柱状部２８ａ〜３０ａの内部には、第１柱状部２８ａ〜３０ａに沿って伸びる第１流路４０〜４２が形成されている。流体供給手段３５は、各第１流路４０〜４２内に流体を流通させる。 （もっと読む）

【課題】
光の偏光状態を高精度に測定可能な偏光計測装置を提供する。
【解決手段】
本発明の偏光計測装置は、光の偏光状態を計測する偏光計測装置であって、光軸回りに回転して光の偏光状態を変化させる位相子と、前記位相子を通過した光の所定の偏光成分のみを通過させる第一の偏光子と、前記第一の偏光子を通過した光を検出する検出器と、前記位相子を前記偏光計測装置に搭載した状態で、前記検出器で検出される光の偏光度が１となるように該位相子の位相差量を補正する制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】液浸流体の損失が許容レベルまで最小化されることを十分に確信できる最高相対速度を割り出すことができ、その速度を超えないように液浸リソグラフィ装置を然るべく構成する。
【解決手段】露光される基板の特性に基づいて、液浸流体を制御する流体閉じ込め構造に対する基板の最高許容速度が割り出され、露光プロセス中に、流体閉じ込め構造に対する基板の速度がこの最高許容速度未満に制限される、液浸リソグラフィ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】
リソグラフィ装置の生産歩留まりおよびデバイス製造方法を向上させる。
【解決手段】
リソグラフィ装置は、気体支承部などによって少なくとも部分的に支持された浸漬流体リザーバなどの光学要素を含む。基板を囲む周囲構造を設けリソグラフィ装置で基板の縁部を照明可能にする。基板の厚さなどの基板のレベルパラメータは、厚さセンサなどで測定する。アクチュエータで、基板テーブルを周囲構造に対して位置決めし、基板表面が周囲構造の表面とほぼ同一レベルにする。光学要素が基板表面と周囲構造の表面との間で移動できるようにする。 （もっと読む）

【課題】入射する放射ビームを出力面上により均一に再分布させることが可能な回折光学素子、リソグラフィ装置及び半導体デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】回折光学素子、回折光学素子を含むリソグラフィ装置、及び半導体デバイス製造方法が、放射ビームを出力面上に回折させる。回折光学素子は、入射する放射ビームの断面強度分布を所望の強度分布に調整する位相構造を各々含む複数の単位格子を有する。回折光学素子の単位格子は隣接して配置され、互いに関して鏡像又は反転像をなす対応する位相構造を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成されるレジスト形状の安定性や形状起因のマージンを光学像から評価できるようにする。
【解決手段】潜像強度分布算出部１ａは露光条件およびマスクパターンに基づいて、レジスト膜内の膜厚方向における潜像強度分布を算出し、評価位置算出部１ｂは、潜像強度分布算出部１ａにて算出された潜像強度分布に基づいて、レジスト膜内の膜厚方向における評価位置を算出し、パターン評価部１ｃは、評価位置算出部１ｂにて算出された評価位置の潜像強度に基づいて、レジスト膜に形成されるパターンの特徴を評価する。 （もっと読む）

【課題】性能の低下を抑制でき、露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光で基板を露光する。露光装置は、真空紫外光を物体又はその近傍に照射して、物体から静電気を除去する除電装置を備えている。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、露光光の照射位置を含む第１面上を移動可能であり、基板Ｐをリリース可能に保持する第１部材２と、第１面上を移動可能であり、メンテナンスユニット６をリリース可能に支持する第２部材７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】スキャン速度の高速化に伴う残留液の発生を抑制することができ、露光スループットの向上をはかる。
【解決手段】液浸領域を形成するための液浸ヘッド１３を備えた投影レンズ１４を用い、露光ステージ１１上に載置された被露光基板１２と投影レンズ１４との間に介在するように液浸領域１５を形成し、この液浸領域１５を保持しつつ露光ステージ１１と投影レンズ１４とを相対的に移動させて、被露光基板１２の液浸領域１５に覆われた領域の露光を行う液浸露光方法であって、投影レンズ１４の下端部と被露光基板１２の表面部との距離を変えずに、露光のシーケンスに応じて液浸ヘッド１３の下端部と被露光基板１２の表面部との距離を可変する。 （もっと読む）

【課題】比較的簡素な計算により、極めて厳密なシミュレーションと同等の精度をもって短時間で正確な処理を可能とし、高精度なパターン転写の実現に寄与する。
【解決手段】回折光であるＤ(ｆｘ，ｆｙ)の算出、レンズ透過光であるＰ(ｆｘ，ｆｙ) の算出、及び光強度分布であるＩ(ｘ，ｙ)の算出に、離散的な複素数のテーブルで定義される空間周波数フィルタを適用する。 （もっと読む）

【課題】構造体に力を作用させるアクチュエータを４つ以上備えていながら、構造体の変形を抑制しつつ構造体を制振する制振装置を提供する。
【解決手段】制振装置は、３つの第１アクチュエータと少なくとも１つの第２アクチュエータと検出器３ａ〜３ｃ，４ａ〜４ｃと制御器５０とを備える。第１アクチュエータは、構造体１に対して鉛直方向又は水平方向に力を作用させて構造体１を支持するように構成されて互いに同一直線上には位置していない。検出器３ａ〜３ｃ，４ａ〜４ｃは、構造体１の基準位置に対する位置及び振動の少なくとも１つを検出する。制御器５０は、検出器３ａ〜３ｃ，４ａ〜４ｃの出力に基づいて３つの第１アクチュエータが構造体１に対して作用させる力のそれぞれを制御する。第２アクチュエータが構造体１に対して鉛直方向又は水平方向に作用させる力が一定に維持されるように第２アクチュエータが制御される。 （もっと読む）

【課題】シール部材が劣化しない光学素子及び該光学素子を備えた露光装置を提供する。
【解決手段】露光ビームＩＬでマスクＲを照明し、投影光学系ＰＬを介して前記マスクＲのパターンを基板Ｗ上に転写し、前記基板Ｗの表面と前記投影光学系ＰＬとの間に所定の液体７を介在させた露光装置に使用される光学素子であって、前記投影光学系ＰＬの前記基板側の透過光学素子４のテーパー面に遮光膜が成膜されている。 （もっと読む）

【課題】処理装置を制御するためのパラメータ値の調整に有利な技術を提供する。
【解決手段】物体を処理する処理装置１００で生成された情報を処理する情報処理装置２０２は、処理装置１００を制御するための第１パラメータ値と第１パラメータ値に従って動作した処理装置１００の動作結果である第１動作結果とを含む情報を収集する収集部２２１と、第１パラメータ値とは異なる第２パラメータ値に従って処理装置１００を動作させた場合における処理装置１００の動作結果である第２動作結果を収集部２２１によって収集された第１パラメータ値および第１動作結果に基づいて推定する演算部２２３と、演算部２２３によって推定された処理装置１００の第２動作結果を表示器２５２に表示するユーザインターフェース２３２とを備える。 （もっと読む）