【課題】複数の露光装置間の露光特性をより高精度に合わせる。
【解決手段】露光装置の露光条件の調整方法は、互いに異なる複数の露光条件のもとで複数のパターンの像の線幅の実測値と計算値との第１の比率を複数回求めるステップ１０６，１１４と、複数の第１の比率に基づいて第２の比率を求めるステップ１２０と、複数のパターンの像の線幅の計算値を第２の比率で補正した値を用いて露光装置の比較対象の露光特性を予測するステップ１２２と、比較対象の露光特性と目標となる露光特性との比較により調整用の条件を求めるステップ１２４と、を含む。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の測定精度を向上させた検査装置を提供する。
【解決手段】下地層の上に所定のパターンを有するウェハ５のパターンを検査する検査装置であって、対物レンズ７の瞳面もしくは該瞳面と共役な面における領域毎の光の強度情報を検出する撮像素子１８と、パターンの形状変化に対しては強度情報の変化が異なり、下地層の変化に対しては強度情報の変化が同程度である、瞳面もしくは該瞳面と共役な面内の第１領域と第２領域の位置情報をそれぞれ記憶する記憶部と、撮像素子１８で検出される、第１領域の強度情報と、第２領域の強度情報との差異に基づいてパターンの形状を求める演算処理部２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】複数の位相差及び複数の透過率を有するフォトマスクを用いる場合であっても、照明形状及びフォトマスク形状をそれぞれ最適化できるようにする。
【解決手段】フォトマスク２００は、露光光を透過させる透光部２０４と、透光部２０４よりも露光光の透過率が低い半遮光部２０２と、露光光を透光部２０４と異なる位相で透過させる位相シフト部２０３とを少なくとも有する。投影光学系の瞳面を分割してなる複数の分割点のそれぞれにおいて、フォトマスク２００を透過した露光光の光強度分布を求め、当該光強度分布に基づいて、フォトマスク２００を用いた露光における露光光の照明形状を設定する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ投影露光装置に備わる投影光学系の瞳面内の透過率分布を高精度に計測することのできる技術を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ投影露光装置において、反射光に位相差を与える複数のライン状の位相差パターンＭＰを有する検査用マスクを用いて、ウエハの主面上に位相差パターンＭＰの投影像を形成し、位相差パターンＭＰの一方のエッジ部に対応する投影像光強度の低下量と、位相差パターンＭＰの他方のエッジ部に対応する投影像光強度の低下量とを比較することにより、ＥＵＶ投影露光装置の瞳面内の透過率分布を把握する。 （もっと読む）

【課題】設計パターン寸法に応じた寸法のパターンを基板面内の全面で一様に形成すること。
【解決手段】実施の形態によれば、光学条件補正関数を作成する補正関数作成ステップと、照明パラメータ補正量を算出する補正量算出ステップと、第１の基板を露光する露光ステップと、を含んでいる。補正関数作成ステップでは、第１の基板上への露光処理に用いる露光量以外の照明パラメータを前記第１の基板面内の露光座標に基づいて補正する光学条件補正関数を、第２の基板上に形成したパターンの基板面内寸法分布に基づいて作成する。補正量算出ステップでは、前記光学条件補正関数および前記第１の基板上に設定される各露光ショットの露光座標を用いて、前記照明パラメータの補正量を前記露光ショット毎に少なくとも１つずつ算出する。露光ステップでは、前記照明パラメータの補正量で前記照明パラメータを補正しながら、前記第１の基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】露光工程において、光学系は徐々に汚染され、曇りが発生する。この曇りにより、露光に用いる紫外光が散乱し、迷光が発生する。フォトレジスト内にこの迷光が入ると、レチクルのパターンと重なって迷光が入射した領域が露光されるため、レチクルのパターンを正確にフォトレジストへ転写することが困難となる課題がある。
【解決手段】レチクルブラインド１０７に光を照射し、レチクルブラインド１０７の開口部を通過した光束を得る。そしてステージ１１０に合焦させ、前記開口部と相似した形状を含む画像を得る。そして、この開口部と相似した画像の領域よりも広い範囲で光束の強度分布を測定する。そして、前記画像の領域の光強度と、それよりも外側の領域の光強度が、予め定められた割合以上の場合に、保守作業を行うことで、レチクル１０のパターンをフォトレジスト１１に対して正確に転写することを可能とする。 （もっと読む）

【課題】対象物の変位量を簡易な構成で計測することができる変位センサ、駆動装置、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹面鏡４１の変位量を計測可能に構成され、圧電部材５３に対する電圧の印加に伴って、圧電部材５３から駆動力が伝達されて凹面鏡４１に対して接触する接触位置まで変位する接触部材５８と、接触部材５８の変位量を計測する受光素子６２と、受光素子６２の計測結果に基づき、接触部材５８が接触位置まで変位したか否かを判別すると共に、接触部材５８が接触位置まで変位した旨を判別した時点での接触部材５８の位置を、凹面鏡４１の変位量を計測する際の基準となるスケール６０の原点として設定する制御装置６４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】開口数の大きな被検光学系の光学特性計測に用いることが可能な光検出装置、同装置を用いた光学特性計測装置、光学特性測定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板の一表面上に配置された開口パターンと、前記基板の前記一表面に対向する表面上に形成された蛍光膜とを有する蛍光ユニットと、複数の光ファイバーを束ねて構成された導光部材と、前記導光部材の一表面に接して配置された撮像素子とを有する撮像ユニットを備えた光検出装置とし、前記蛍光ユニットの前記蛍光膜側の表面を、前記撮像ユニットの前記導光部材側の表面に対面して配置する。 （もっと読む）

【課題】光学部材に対して過大な力が作用することを抑制できる光学部材変形装置、光学系、露光装置、及び、デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹面鏡４１の形状を変形させるミラー変形装置５３において、凹面鏡４１に対して吸着する吸着部と、アクチュエータ６１から伝達される駆動力に基づいて、吸着部を変位させる変位機構と、変位機構から吸着部に伝達される変位量を縮小する弾性部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の結像特性を迅速に計測する。
【解決手段】 投影光学系の結像特性を計測する計測方法は、周期パターンを有するマスクを前記投影光学系の物体面に配置するステップと、スリットを前記投影光学系の像面に配置するステップと、前記投影光学系の光軸及び前記周期パターンの周期方向に直交する第１方向に沿って間隔を置いて配置された複数の点光源を含む有効光源で前記マスクを照明し、前記投影光学系によってその像面に前記周期パターンの像を形成するステップと、前記マスクと前記スリットとの前記周期方向に沿った相対的な位置を変更しながら、前記第１方向に沿って配置された複数の受光素子によって前記複数の点光源のそれぞれから射出され前記スリットを通過した光の強度の変化を検出するステップと、前記複数の受光素子によって検出された前記複数の点光源のそれぞれから射出され前記スリットを通過した光の強度の変化を用いて前記結像特性を算出するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】実際に露光、現像を行わなくても、露光位置、露光量などが意図したとおりに行われるか否かを事前確認することができ、高精度な露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するホルダ８を有するステージ９と、所望のパターンを生成するＤＭＤ素子３と、パターンを投影する投影光学系４と、基板７に対して所定の相対位置関係で配置され、投影されたパターンを検出する投影パターン検出光学系６と、投影パターン検出光学系６で検出した信号に基づいて、露光結果を表示部１０に表示する制御部１１とを有して構成する。 （もっと読む）

【課題】光学部材の光学特性を精度よく調整することができる光学部材変形装置、光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹面鏡４１の形状を変形させるミラー変形装置５３において、凹面鏡４１に対して当接する当接部材７０と、当接部材７０に連結され、アクチュエータ６１から伝達される駆動力に基づいて変位する変位部材６５と、アクチュエータ６１からの駆動力に基づき変位する連結部材５７，６３を有し、該連結部材５７，６３の変位量を拡大して変位部材６５に伝達する変位拡大機構７３と、当接部材７０と変位部材６５との間に設けられ、変位拡大機構７３から伝達される変位部材６５の変位量を縮小して当接部材７０に伝達するコイルスプリング６９と、変位部材６５の変位量を計測する変位センサ６７と、変位センサ６７の計測結果に基づき、変位部材６５の変位量を制御する制御機構６８とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板に与えられるパターンフィーチャの誤差を軽減する。
【解決手段】あるリソグラフィ方法が、リソグラフィ装置の位相アジャスタを制御するステップであって、位相アジャスタが、位相アジャスタの光学エレメントを通り抜ける放射ビームの電界の位相を調整するように構築および構成されている、ステップと、位相アジャスタに供給される、光学エレメントの部分の実際の時間温度特性を生じさせる信号を制御するステップであって、制御が、光学エレメントの部分の所望の時間温度特性に即して行われ、信号の制御が、実際の時間温度特性の変化が所望の時間温度特性の関連する変化に先行するようなものである、ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】視野角及び応答速度が向上した液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示素子の製造方法であって、互いに異なる第１方向及び第２方向に配列された２つの周期的パターンが形成されたマスクをマスクステージにロードすることと、部分照明系の瞳面ＩＰＰにおける露光光の光量分布を、その部分照明系の光軸ＡＸＩを通り、その第１方向とその第２方向との中間方向に対応する方向に伸びる第１直線（Ｘ軸）上にあって、光軸ＡＸＩに関して対称な１対の点４２Ａ，４２Ｂを含む領域４３Ａ及び４３Ｂで光量が大きくなる分布にして、そのマスクのパターンを部分投影光学系を介して基板に転写することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターン形成領域の平面性を確保しつつ、マスクを保持することができるマスク保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたパターン形成領域４３及び該パターン形成領域４３の周囲の周辺領域４４を有する表面Ｒｂと、該表面Ｒｂの裏側の裏面Ｒａとが形成されたレチクルＲを保持する第１静電吸着保持装置２５において、レチクルＲの裏面Ｒａを静電吸着する支持面３７ａを有する基体３７と、基体３７に設けられ、パターン形成領域４３を含む大きさで形成された電極面３９ａを有する第１電極部３９と、基体３７に設けられ、第１電極部３９の周囲に配置された第２電極部４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の像面側に配置する光学系の構成を簡素化して、投影光学系の光学特性を高精度に計測する。
【解決手段】投影光学系ＰＬの波面収差を計測する計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面側に配置され、照明光ＩＬの一部を投影光学系ＰＬに導く導入光学系２１と、投影光学系ＰＬの像面側に配置され、投影光学系ＰＬを通過した照明光ＩＬの一部を球面波に変換して投影光学系ＰＬに戻す微小ミラー２３と、導入光学系２１の一部を共用し、投影光学系ＰＬを介して戻される光を計測光として取り出す受光光学系２５と、その計測光を受光して、投影光学系ＰＬの波面収差を計測する波面計測系２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光装置のスループットの低下を抑える。
【解決手段】 液浸剤１７０を介してマスク１２０のパターンの像を基板１５０に露光する露光装置は、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系１３０と、液浸剤の供給及び回収を行う手段と、洗浄液を供給する供給口と洗浄液を回収する回収口とを有し、投影光学系との間に洗浄液を保持して最終光学素子を洗浄するための洗浄台とを有する。洗浄台上に液浸剤を保持したまま最終光学素子の表面に洗浄液を供給することにより、液浸剤を最終光学素子の表面から離して最終光学素子を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】計測用の光学系を大型化することなく、投影光学系の動的な光学特性を効率的にかつ高精度に計測する。
【解決手段】投影光学系ＰＬの光学特性を計測する計測装置において、物体面にＹ方向に配置される複数の位相マーク２０が形成されたテストレチクルＴＲと、像面に沿って位相マーク２０に対応して配置される複数の周期パターン３９が形成された蛍光膜３５と、位相マーク２０、投影光学系ＰＬ、及び周期パターン３９を通過した照明光ＩＬから生成される検出光ＤＬを検出するＦＯＰ３７及び撮像素子３８と、蛍光膜３５、ＦＯＰ３７、及び撮像素子３８を一体的にＹ方向に移動するウエハステージと、を備える。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の物体面側に光学特性計測装置の計測系を配置し、光学特性計測装置の校正を高精度に行う。
【解決手段】投影光学系ＰＬの波面収差計測装置２０であって、計測用開口１９を有するテストレチクルＲ１と、計測用開口１９及び投影光学系ＰＬを通過し、像面から戻された照明光を投影光学系ＰＬを介して受光して、投影光学系ＰＬの波面を計測する計測系２１と、照明光ＩＬの光路中に挿脱可能に配置され、計測用開口１９を通過した照明光を反射して、計測用開口１９を含む領域を照明する反射拡散球面２４と、計測用開口１９を通過した計測光を計測系２１で受光して、計測系２１の波面を求める計測部１７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光学素子の温度分布を容易に高い角度分解能で制御するとともに、その温度分布を容易に調整可能とする。
【解決手段】投影光学系中に配置されるレンズＬ１を有する光学装置において、レンズＬ１を保持するレンズホルダ２４と、レンズホルダ２４上のレンズＬ１の周囲に配置されたリング状のシート３１と、シート３１中に光軸ＡＸの周りに等角度間隔で８箇所に配置されたヒータ３４Ａ〜３４Ｈと、ヒータ３４Ａ〜３４Ｈに近接して配置された温度センサ３６Ａ〜３６Ｈとを備える。 （もっと読む）