【課題】 高精度な合焦位置キャリブレーションを実現すると共に、優れたスループットの向上を達成することができる露光装置を提供すること。
【解決手段】 マスク１面上にマスク側合焦用マーク８を備え、プレートステージ５上に光電センサ１０と光電センサ１０上にプレート側合焦用マーク９とを備え、露光光７でマスク側合焦用マーク８を照明し、マスク側合焦用マーク８を通過した光束を、投影光学系３とプレート側合焦用マーク９を介して光電センサ１０に入射させ、プレートステージ５を投影光学系３の光軸方向と直交する平面上に振ったときに得られる光電センサ１０の信号とプレートステージ５の位置信号に基づいて投影光学系３の合焦位置の変化を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 露光装置における投影光学系を介してマスク面とプレート面の位置検出をするにあたり、前記投影光学系における非点隔差の影響をできる限り受けない位置で位置検出マークを検出し、精度良くマスク面とプレート面の位置検出をする方法を提供する。
【解決手段】 露光装置（１００）は、物体面（１１）上に形成されたパターンを像（２１）面上に結像させる投影光学系（３０）と、露光波長と異なる波長を有し物体面と像面の相対的な位置ずれ量を前記投影光学系を介して検出する位置検出装置（５０）を備えている。位置検出を投影光学系（３０）で生ずる非点隔差の影響が少ない位置で実施することで、位置検出の精度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】露光装置における露光条件の決定に有利な技術を提供する。
【解決手段】露光条件に対応して投影光学系の像面に形成される像を基板に形成すべき目標パターンと比較して評価するための着目評価項目を選択する第１ステップと、前記着目評価項目とは異なる評価項目であって、前記露光条件を変更したときに前記着目評価項目の値が変化する方向と同じ方向に値が変化する評価項目を補助評価項目として選択する第２ステップと、着目評価項目と補助評価項目との関数である評価関数を設定する第３ステップと、前記評価関数の値を目標値に近づけるように、前記評価関数の値を算出する第４ステップと、第４ステップで算出された複数の前記評価関数の値から前記目標値を満たす評価関数の値に対応するパラメータの値を、前記露光条件のパラメータの値として決定する第５ステップと、を実行するプログラムを提供する。 （もっと読む）

【課題】 本体構造体の弾性変形によるフォーカス精度の低下と、先読み領域の計測計を用いることで発生する基板処理枚数の劣化の両問題について解決する露光装置の提供を行う。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本体構造体の位置変位量と、基板ステージ、もしくは原版ステージの位置を用いて、本体構造体が弾性変形をした時のフォーカス変動量をリアルタイムで計算し、予測補正する手段を有することを特徴とする。また、フォーカス変動量の予測補正量を算出する時に、本体構造体に強制的な作用力を加えて本体構造体の変位量を測定すると同時に、投影光学系と基板ステージ間の相対位置、もしくは、投影露光系と原版ステージの相対高さを測定し、回帰分析することで前記補正量の更正を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】実デバイスパターンの像位置を高速かつ高精度に推定あるいは決定するために有利な技術を提供する。
【解決手段】原版Ｒまたは原版ステージ２１には、互いに異なる複数のパターンが互いに異なる領域に配置されてなる第１計測パターン２３が設けられ、計測器は、前記第１計測パターン２３を投影光学系３０の投影倍率に応じて縮小した第２計測パターン５１と、前記第１計測パターン２３および前記投影光学系３０を透過し更に前記第２計測パターン５１を透過した光を検出するセンサ５２とを含み、制御部７０は、前記第１計測パターン２３の照明領域を前記原版に応じて決定し、決定された前記照明領域における前記第１計測パターン２３を照明して基板ステージ４１を移動させながら得られた前記センサ５２の出力に基づいて、前記投影光学系３０によって形成される前記照明領域における前記第１計測パターン２３の像の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】 露光パターンの線幅精度の悪化を抑制する露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第１の波長を有し、パルス発振された第１照明光と、第１の波長とは異なる第２の波長を有し、パルス発振された第２照明光とをマスクへ照射する照射ユニットを備え、照射ユニットは、第１照明光がマスクに照射されるタイミングと、第２照明光がマスクに照射されるタイミングとが所定時間ずれるように、第１照明光と第２照明光との照射のタイミングを設定する遅延設定部を含む露光装置。 （もっと読む）

【課題】露光装置のレジストパターン形成時におけるデフォーカス量を高精度且つ安定的に求めることが可能なフォトマスクを提供する。
【解決手段】透光性基板の面上に、少なくともフォーカス測定用のテストパターン５Ａが形成されたテストパターン領域を有し、テストパターン領域には、一定の幅ＷＡを有するライン状の第１パターン６Ａと、第１パターン６Ａとは異なる幅ＷＢを有するライン状の第２パターン６Ｂとが設けられ、このうち、第１パターン６Ａと、第２パターン６Ｂと、第１パターン６Ａとを、基準線ＸＣを挟んで軸対称となる位置に、この順で幅方向に一対並べて配置すると共に、幅方向において隣接するパターン間６Ａ，６Ｂ（６Ａ）の中心線ＸＡ，ＸＢ（ＸＡ）の間隔ＸＰを互いに等しくすることによって、テストパターン５Ａが構成されている。 （もっと読む）

【課題】うねりによる影響を極力無くして被検面の変位量を検出する。
【解決手段】 対物レンズ１８は、光源１３が発した光束を被検面２３ａ上に微小なビーム光として投射する。シリンドリカルレンズ２１は、被検面２３ａで反射した反射光束に非点収差を与える。受光センサ１９は、非点収差が与えられた反射光束を入射させて受光パターンに応じた出力変化が得られるように受光面が複数に分割されている。信号処理部２６は、受光面から得られる変位信号に基づいて被検面２３ａの変位を検出する。表面すねり補正部２８は、変位信号に基づいて表面のうねりの周期ピッチを求め、その時点の被検面２３ａ上のビーム径が周期ピッチよりも大きくなるように集光レンズ２０と受光面１９ａとの間隔を変え、これに連動して対物レンズ１８を移動する。 （もっと読む）

【課題】変位量への換算を迅速に処理する。
【解決手段】 対物レンズ１８は、光源１３が発した光束を被検面２３ａ上に微小スポットとして投射する。シリンドリカルレンズユニット２１は、曲率半径の異なる２つのシリンドリカルレンズ３０，３１をもっており、それぞれに被検面２３ａで反射した反射光束に異なる量の非点収差を与える。受光センサ１９は、非点収差が与えられた反射光束を入射させて受光パターンに応じた出力変化が得られるように受光面が複数に分割されている。信号処理部２４は、受光面から得られる出力信号に基づいて被検面２３ａの変位を検出する。選択部３３は、被検面２３ａの検出範囲に応じて、いずれか一方のシリンドリカルレンズ３０，３１を光路上にセットするように移動機構２２を制御する。 （もっと読む）

【課題】投影領域の形状に応じて容易に露光を行うこと。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、パターンを形成するパターン形成ステップと、投影光学系を用いてパターンを対象面に投影する投影ステップと、対象面のうちパターンが投影される投影領域の形状に応じて、パターンを分割する調整ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】投影領域の形状に応じて容易に露光を行うこと。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光装置であって、パターンを形成するパターン形成部と、パターンを対象面に投影する投影光学系と、対象面のうちパターンが投影される投影領域の露光光の光軸方向の形状に応じて投影光学系の開口数を調整する開口数調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】被露光部材の焦点方向の位置情報を高精度に検出できる露光装置を提供する。
【解決手段】パターンを形成するパターン形成部を照明光で照明する照明部と、パターンが転写される被露光部材Ｐを載置面で載置させる載置部２１と、載置部に載置された被露光部材に、照明光で照明されたパターンの像を投影する投影部３と、投影部を介して照明光とは異なる波長の第２照明光ＳＬで載置部に載置された被露光部材を照明して、被露光部材の位置情報を計測する計測装置４と、載置部に設けられ、被露光部材を透過した第２照明光の計測装置への反射を規制する反射規制部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系のフォーカス位置を調整し、基板の平坦度の影響を低減して原版のパターンを基板上に投影する投影光学系を提供する事を目的とする。
【解決手段】 本発明の投影光学系は、原版のパターンの像を基板上に投影する投影光学系であって、投影光学系は、複数の光学透過素子を備えており、複数の光学透過素子の表面形状は、連続的であって、互いに異なる周期を有し、複数の光学透過素子の少なくとも１つを周期方向にシフトさせることでフォーカス調整を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】合焦の対象領域の周辺に対象領域と段差をなす領域が存在する場合でも精度よく合焦可能にする。
【解決手段】本発明の態様である合焦装置４は、基準面Ｐａと段差をなす合焦対象面に光学系３の焦点を合わせる合焦装置である。光学系３の焦点が基準面に合う条件及び段差の情報を用いて、光学系３の焦点が合焦対象面に合う合焦条件を求める制御部５を備える。 （もっと読む）

【課題】試料の高さを正確に測定することのできる高さ測定方法と、高さを正確に測定して高い精度で描画することのできる電子ビーム描画装置とを提供する。
【解決手段】光の波長を所定値としたときの反射光の光量を測定し、光量が閾値以下である場合には光の波長を変えて反射光の光量を測定する工程を繰り返し、光量が閾値より大きくなる波長で試料の高さを測定する。あるいは、光の波長を変えて反射光の光量を測定し、光量が最大となる波長で試料の高さを測定する。 （もっと読む）

【課題】手間の掛かる作業を行うことなく露光条件を管理すること。
【解決手段】光変調素子を用いて基板にデバイスパターンの露光パターンを形成するための露光条件を管理する露光条件の管理方法であって、露光条件の異なる複数のテスト露光パターンと、当該テスト露光パターンを識別する識別情報とを、光変調素子に形成する形成ステップと、光変調素子に形成された露光条件の異なる複数のテスト露光パターンと、当該テスト露光パターンを識別する識別情報とを基板上にそれぞれ対応して露光する露光ステップと、識別情報を用いて、識別情報に対応するテスト露光パターンを管理する管理ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】危険度の高いシステマティック欠陥を識別することのできる半導体装置の製造方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、一方向に露光量を変化させ、他方向にＦｏｃｕｓ量を変化させた複数の露光領域がマトリックス状に配列されたウェーハを作製する工程（１）と、前記ウェーハの欠陥検査を行なう工程（２）と、前記欠陥検査工程で検出された欠陥について、システマティック欠陥を識別する工程（３）と、識別された前記システマティック欠陥が発生する露光条件に基づいて、前記システマティック欠陥について危険度の順位付けを行なう工程（４）とを有する。 （もっと読む）

【課題】所期の転写パターン形成精度を維持すること。
【解決手段】マスクに設けられたパターンの露光光像を基板に投影して当該基板にパターンの転写パターンを形成する露光方法であって、転写パターンを計測し、この計測結果に対して投影時の所定の寄与分を補正して算出されたマスク伸縮変動量に基づいて算出されたマスク伸縮補正値に応じて、露光光像の像面の位置及び姿勢のうち少なくとも一方についての調整を行い、調整が行われた露光光像を前記基板に投影する。 （もっと読む）

【課題】複数の合焦位置のうちの所望の位置で合焦可能にする
【解決手段】本発明の態様の合焦装置４は、光学系３の焦点をステージ１上の対象物に合焦する合焦装置である。複数の合焦位置が得られたときに、光学系３からステージ１までの距離と合焦の判定パラメータ値との対応情報に基づいて、複数の合焦位置の中からいずれに合焦するかを制御する制御部５を有する。 （もっと読む）

【課題】対象面に対して光を照射し、その反射光を検出することによって当該表面の位置を検出するにあたって、適切な出射光量の値を簡易に決定できる技術を提供する。
【解決手段】光源から、光源に対して相対的に移動する対象面（基板Ｗの上面）に対して、出射光量を変化させながら間欠的に光を照射させるとともに、その反射光の光量分布データを受光部に取得させて、対象面内の異なる位置Ｐ（１），Ｐ（２），・・・Ｐ（Ｎ）で反射した反射光の光量分布データをサンプルデータとして次々と取得していく。続いて、取得された複数のサンプルデータのうち、受光量が許容範囲内にあるものを有効データとして抽出し、有効データを与えた最大の出射光量を、位置検出を行う位置検出用光源の出射光量の最適値とする。 （もっと読む）