【課題】曲線や斜線のパターンを容易、且つ高い汎用性をもって滑らかに形成できる露光装置を提供する。
【解決手段】所定の解像度でパターンを生成するパターン生成部ＰＧと、パターン生成部で生成されたパターンの像を所定の分解能及び所定の投影倍率で被露光部材Ｓに投影する光学装置ＰＬとを備える。所定の解像度、所定の分解能及び所定の投影倍率が所定の相関関係をもって設定されている。 （もっと読む）

【課題】露光装置における露光条件の決定に有利な技術を提供する。
【解決手段】露光条件に対応して投影光学系の像面に形成される像を基板に形成すべき目標パターンと比較して評価するための着目評価項目を選択する第１ステップと、前記着目評価項目とは異なる評価項目であって、前記露光条件を変更したときに前記着目評価項目の値が変化する方向と同じ方向に値が変化する評価項目を補助評価項目として選択する第２ステップと、着目評価項目と補助評価項目との関数である評価関数を設定する第３ステップと、前記評価関数の値を目標値に近づけるように、前記評価関数の値を算出する第４ステップと、第４ステップで算出された複数の前記評価関数の値から前記目標値を満たす評価関数の値に対応するパラメータの値を、前記露光条件のパラメータの値として決定する第５ステップと、を実行するプログラムを提供する。 （もっと読む）

【課題】部分偏光を含む照明光や、偏光を発生させ又は解消させる性質を有する投影光学系によって結像される像を正確に計算する。
【解決手段】本実施の形態は投影光学系によって結像される像を計算によって予測する結像計算方法に関する。この方法では、まず、入射光の特性を示すストークスベクトルを取得する。次いで、このストークスベクトルを、偏光成分ベクトルと非偏光成分ベクトルとに分離する。偏光成分ベクトルは、第１の可干渉成分ベクトルと、第１の非可干渉性ベクトルとに分離され、非偏光成分ベクトルは、第２の可干渉成分ベクトルと、第２の非可干渉性ベクトルとに分離される。そして、第１の可干渉成分ベクトル、第１の非可干渉性ベクトル、第２の可干渉成分ベクトル、及び第２の非可干渉性ベクトルのそれぞれについて結像計算を行う。 （もっと読む）

【課題】複数の目的関数に対して、被決定量を効率的に決定する。
【解決手段】照明光学系の瞳面を分割した複数の領域における光強度に対して線形関係である第１目的関数と瞳面の各領域における光強度に対して線形関係でない第２目的関数とに基づいて、瞳面に形成されるべき光強度分布を決定する。瞳面の複数の領域のうち１つの領域における光強度の値が単位量であり、他のすべての領域における光強度の値がゼロであるとしたときの像面での光強度を瞳面の各領域について算出する第１ステップと、算出された光強度を用いて第１目的関数の値および第２目的関数の値を各領域について算出する第２ステップと、第２目的関数の値が閾値未満の領域の光強度の値を第１目的関数の値の大きさにかかわらず予め定められた一定の値に設定する第３ステップと、第２目的関数の値が閾値以上の領域の光強度の値を第１目的関数の値の大きさに応じて設定する第４ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】被検光束のシア量の設定の自由度を向上させるために有利な技術を提供する。
【解決手段】被検光学系からの光の波面を測定するシアリング干渉測定装置は、撮像素子と、前記被検光学系の瞳を前記撮像素子の撮像面に結像させる瞳結像光学系と、前記瞳結像光学系の光路に配置され、前記被検光学系からの光の波面を分割することによって複数の波面を形成する回折格子と、前記回折格子によって分割された複数の波面の間の前記撮像面におけるシア量が変更されるように前記シアリング干渉測定装置の光軸に平行な方向における前記回折格子の位置を変更するための駆動機構とを備え、前記回折格子によって分割された複数の波面によって形成される干渉縞を前記撮像素子によって撮像する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で優れた形状精度を持つミラーを得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】ミラーの製造方法は、熱により膜厚が変化する形状修正層１２を基板１１の上に配置する第１工程と、第１層、第２層、および、前記第１層と前記第２層との間に配置されて前記第１層を構成する材料と前記第２層を構成する材料との反応を防止するバリア層１６を含む反射層１３を前記形状修正層１２の上に配置する第２工程と、前記第２工程の後に、前記形状修正層１２の膜厚分布を変化させることによって前記反射層１３の形状を目標形状に近づける第３工程とを含み、前記第３工程は、前記形状修正層１２を部分的にアニールする処理を含む。 （もっと読む）

【課題】使用環境に影響されることなく基板上の異物を高精度で検出することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板保持部２１の搬送方向に並んで配置され、基板保持部２１に保持された基板Ｗの表面に沿ってレーザービームＬＢ１、ＬＢ２を出射する出射部８０a、８１aと、レーザービームを受光する受光部８０ｂ、８１ｂと、をそれぞれ有する２つの異物検出器８０、８１と、２つの異物検出器８０、８１の各受光部８０ｂ、８１ｂが受光する前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号を比例演算部８３ａによって増幅し、さらに、差分演算部８３ｂによって、２つの増幅した前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号の差分を算出し、異物８２の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】照明光源形状を正確に調整する。
【解決手段】
主制御装置により、照明光源の形状の目標と空間光変調器の複数のミラー要素に照射される光ビームの形状とに基づいて、複数のミラー要素とフライアイレンズの複数のレンズ素子との組み合わせが最適化され、その最適化結果に従って複数のミラー要素を介して照明光学系の瞳面に照明光源（二次光源）が形成され（ステップ２０６）、その照明光源の形状が計測され（ステップ２０８）、ビームに関する仮定（例えば光ビームの軸ずれなど）を立て、該仮定の下で前記計測の結果を用いて、ビームの形状が推定され（ステップ２１４）、ビームの形状の推定結果に基づいて照明光源の形状が調整される（ステップ２０６）。これにより、ビーム形状を正確に推定し、その結果に基づいて照明光源形状を正確に調整することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】照明光源を状況に応じて調整する。
【解決手段】 露光装置の起動時においては、照明光源形状を計測し（ステップ２０８）、その計測結果と目標とに基づいて照明光源形状を評価し（ステップ２０９）、その評価結果に基づいて、ビーム形状を推定することと、照明光源のミラー特性を推定することと、照明光源の設定を最適化することとを含む調整方法の中からいずれかを選択する（ステップ２１０、２１２、２１３）。これにより、照明光源を短時間に及び／又は正確に調整することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】所期の転写パターン形成精度を維持すること。
【解決手段】マスクに設けられたパターンの露光光像を基板に投影して当該基板にパターンの転写パターンを形成する露光方法であって、転写パターンを計測し、この計測結果に対して投影時の所定の寄与分を補正して算出されたマスク伸縮変動量に基づいて算出されたマスク伸縮補正値に応じて、露光光像の像面の位置及び姿勢のうち少なくとも一方についての調整を行い、調整が行われた露光光像を前記基板に投影する。 （もっと読む）

【課題】パターンを正確に位置合わせする。
【解決手段】ダブルパターニング法において使用される２つのレチクルのそれぞれの伸縮量を記述するレチクル伸縮補正モデルについて、伸縮に係るパラメータ（レチクル伸縮補正パラメータ（時定数と飽和値））を最適化する。そして、最適化後のレチクル伸縮補正モデルを用いて、パターンを次の露光対象のウエハのターゲット層に位置合わせする。これにより、レチクルの熱変形に起因する補正誤差に影響を受けることなく、目標パターンをウエハ上のターゲット層に正確に位置合わせすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布の決定に有利な技術を提供する。
【解決手段】照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布を決定する方法であって、照明光学系の瞳面に形成される互いに異なる複数の要素光源を生成するＳ１０８と、投影光学系が有しうる互いに異なる複数の収差状態を設定するＳ１１０と、複数の収差状態から選択した１つの収差状態を投影光学系に与え、Ｓ１０８で生成した複数の要素光源から選択した１つの要素光源でマスクのパターンを照明したときに形成される光学像を、複数の収差状態と複数の要素光源との組み合わせの全てについて算出すＳ１１２と、算出した光学像に基づいて、マスクのパターンの光学像の評価場所のエッジ位置を目標エッジ位置に近づけるように、複数の要素光源のそれぞれに与える重み付けを決定し、重み付けを与えた複数の要素光源を合成した光源を照明光学系の瞳面に形成すべき光強度分布として決定する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系が大型である場合でも、結像性能の変化を抑制した露光装置を提供することができる。
【解決手段】投影光学系５を収容する鏡筒１１の内部に対して給気を実施する給気手段１２と、該給気手段１２を制御することで鏡筒１１の内部温度を調整する温度制御手段１３とを備える露光装置１であって、温度制御手段１３は、露光処理に伴う内部温度の上昇に合わせて、給気温度を上昇させるように給気手段１２を制御する。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の歪曲収差と非点収差とをともに目標範囲内に収めるのに有利な露光装置の提供。
【解決手段】 露光装置は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有し、前記基板の露光を行う。前記投影光学系は、その瞳の前側に第１平行平板を含み、かつ、前記瞳の後側に第２平行平板を含み、前記第１平行平板および前記第２平行平板の互いに対応する点をそれぞれ同方向に移動するように撓ませて得られる２つの形状を第１形状および第２形状とし、かつ、前記第１平行平板および前記第２平行平板の互いに対応する点を反対方向に移動するように撓ませて得られる２つの形状を第３形状および第４形状としたとき、前記第１形状と前記第３形状とを合成した第５形状となるように前記第１平行平板を変形させ、かつ、前記第２形状と前記第４形状とを合成した第６形状となるように前記第２平行平板を変形させて、前記投影光学系の歪曲収差および非点収差を調整する。 （もっと読む）

【課題】パターンの寸法均一性を向上できる露光パラメータ決定装置、露光システム、検査システム、及び露光パラメータ決定方法を提供する。
【解決手段】露光パラメータ決定装置は、露光マスク上の複数の領域に対応する光強度分布情報及び所定の露光パラメータを用いてリソグラフィシミュレーションを実行し、予測パターン形状を算出するシミュレーション実行部１１２と、前記予測パターン形状の評価値を算出する評価値算出部１１３と、を備える。露光パラメータ決定装置１００は、前記評価値が所定の許容範囲に含まれるまで、露光パラメータの変更及び変更後の露光パラメータを用いたリソグラフィシミュレーションの実行を繰り返し、当該領域に露光パラメータを割り当てる。 （もっと読む）

【課題】計測用光学系の偏光特性の影響を軽減させて、被検光学系のジョーンズ行列で表される偏光特性を計測する。
【解決手段】投影光学系及び対物光学系よりなる光学系を介して偏光状態の異なる複数の光のストークスパラメータを計測してその光学系の第１のジョーンズ行列を求めるステップ１０６〜１１１と、対物光学系の瞳面を移動するステップ１１２と、その光学系の第２のジョーンズ行列を求めるステップ１１３と、その第１及び第２のジョーンズ行列のリー環表現上での差分情報を用いて投影光学系ＰＬ及び対物光学系１６Ｓの個別のジョーンズ行列を求めるステップ１１５、１１６とを含む。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の像面位置を精度高く計測すること。
【解決手段】基板の露光量をラインパターンのレジスト像が解像する露光量以上になる大きさ、換言すれば、ラインパターンのレジスト像のコントラスト値が所定値以上になる大きさに制御する。また、フォーカス位置を変化させた際にパターン倒れが発生しない大きさ以上の線幅を有するラインパターンを使用してベストフォーカス位置を算出する。これにより、デフォーカスによってパターン倒れが発生することを抑制しつつ、算出されるベストフォーカス位置の露光量依存性を無視することができるので、投影光学系の像面位置を精度高く計測することができる。 （もっと読む）

【課題】使用時の投影光学系の光学特性を計測することができる計測用光学部材、マスク、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】計測用光学部材２３は、計測用パターン４６が形成されるパターン形成領域４４及び該パターン形成領域４４とは異なる位置に配置される非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃを有する複数の計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃを備えている。非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃは、計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ毎に互いに異なる形成条件で形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光ビーム方式において発生する被描画体の描画パターンの変形を簡単な方法で、短時間で補正できる露光装置及び露光方法を提供する、あるいは、本発明の露光装置または露光方法を用いることでスループットの高い表示用パネル基板製造装置または表示用パネル基板製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、光ビームを光ビーム照射装置で照射し、前記基板へ描画する描画データを作成し、前記基板にパターンを描画するに際し、前記基板に設けられた複数のアライメントマークを撮像し、前記描画データの作成は、前記描画する描画点に対応して前記複数のアライメントマークで結ぶ辺に対して予め規定される前記描画点の座標比率に基づいて前記描画点の位置を決め、前記描画データを作成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ワーク基板に生じている歪み変形に極力対応するマスクパターン像を投影可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の露光装置は、ワーク基板１４に投影されるマスクパターン１３’の投影光路に設けられた平行平面板３１と、平行平面板３１の互いに交差する二辺により構成される角部３１Ａと角部３１Ａとの間の中間部を支点とする拘束部材と、平行平面板３１の各角部３１Ａに投影光路の光軸方向に加圧力を加えて拘束部材を支点にして平行平面板３１を歪み変形させる加圧部材とからなる歪み変形形成機構１７を備えている。 （もっと読む）