【課題】マスクとワークの位置合せを行っているときに、シール部材が、マスクステージに接しないようにしたコンタクト露光装置及びコンタクト露光方法を提供する。
【解決手段】パターンが形成されたマスク２を保持するマスクステージ３と、ワーク４を載置するワークステージ５とを備え、マスクステージ３又はワークステージ５の周辺部に、環状のシール部材６を取り付け、ワークステージ５に載置されたワーク４をマスク２と接触させ、マスク２とマスクステージ３とワーク４とワークステージ５とシール部材６により形成される空間を減圧した状態で、露光光をマスク２を介してワーク４に照射するコンタクト露光装置において、シール部材６に、シール部材６の先端部６２の環状方向全体を上下移動させる移動機構９が取り付けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板に塗布されたレジストが異常に反応しない露光装置を提供する。
【解決手段】 基板の露光方法は、露光用マスクに表示されたパターンを感光材が塗布された基板に転写する。この方法は、基板（ＳＷ）とマスク（２０）を近接又は接触させ、基板及びマスクの外周で基板及びマスクとに接する側壁（３７）を形成し、密閉空間を形成させる工程（Ｓ１４）と、密閉空間のガスを排気する工程（Ｓ１５）と、ガスが排気された密閉空間に不活性ガスを所定の期間投入する工程（Ｓ１６）と、不活性ガスの投入を停止させる工程後にマスクのパターンを基板に転写する転写工程（Ｓ２０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクに描かれたパターンを基板に分割露光する際に、フォトマスクと基板との密着および離反を１回で済むようにする。
【解決手段】フォトマスク４の全体領域と基板１の全体領域とをＸＹθ方向に相対移動させて位置合わせした後、両者を均一に接触させる。フォトマスク４および基板１を湾曲させることにより、フォトマスク４と基板１とを一つの分割領域について位置合わせする。Ｘシャッター３４ａ，３４ｂ，３４ｆおよびＹシャッター３６を用いて、位置合わせされた分割領域以外を覆い、位置合わせされた分割領域のみを露光する。フォトマスク４と基板１とを接触させたまま、すべての分割領域について、フォトマスク４および基板１を湾曲させることによる位置合わせと露光とを繰り返す。 （もっと読む）

【課題】 一度の露光でウエハの両面に高精度に位置合わせした状態でパターンを同時露光すること。
【解決手段】 ウエハＳの両面にパターンＰを同時に露光する装置であって、パターン及びアライメント用マークｍ１、ｍ２を有する下部マスクＭ１及び上部マスクＭ２と、下部マスクの位置を変化させる移動機構６と、紫外光Ｌを照射してウエハの両面にパターンを露光させる両露光部１５、１６と、アライメント用マークを観察する上部観察部２０と、観察された２つの観察画像の位置関係に基づいて両マスクが予め決められた位置関係からどの程度変位しているか変位量を算出する画像処理機構２１と、上部マスクから一定距離離間したアライメント位置で上記変位量を補正するように下部マスクの位置を水平調整させる制御部７と、を備え、制御部が、水平調整後に下部マスクを上部マスクに近接させた露光位置で両露光部を作動させるウエハ露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】マスクに形成されたパターンが精度良く被露光基板に露光されるための被露光基板載置部品及び露光装置を提供する。
【解決手段】透明基板と、透明基板上の縁側一周に設けられた気密保持枠体と、透明基板の気密保持枠体が設けられた側に対向して設けられる可撓性シートと、可撓性シートを、可撓性シートの縁側から、弾性部材の弾性力により面一に引張支持する支持枠体とを有し、透明基板と前記気密保持枠体と前記可撓性シートにより構成される気密空間において、気密空間の空気を吸引した際には、可撓性シートが弾性部材の弾性力に抗して透明基板側に密着されるように構成された被露光部材載置部品により、可撓性シートを被露光部材に密着させる。 （もっと読む）

【課題】密着露光方法において、露光後のフォトマスクへのレジスト付着を防止しつつ、露光時間の延長や解像力低下を改善し、且つレジスト層表面のうねりや異物の付着、気泡の混入が生じた場合においても良好な露光を行うことができるレジスト基板及び密着露光方法を提供する。
【解決手段】本発明によって、基板１上にレジスト層２が形成されたレジスト基板４であって、前記レジスト層２の上面に密着するフォトマスク層３を具備することを特徴とするレジスト基板４が提供される。 （もっと読む）

【課題】露光マスクとフォトレジストを塗布した基板との密着を、密着工程の最中に簡単な構成で精度良く検出することが可能となる密着検出装置および密着検出装置を備えた近接場露光装置を提供する。
【解決手段】対向配置された基板の対向面における密着を検出する密着検出装置であって、
照射光に対して透明な基板からなり、該透明な基板上に照射される前記照射光の波長以下のサイズを有する金属微細構造３０４を備えた第１の基板１００と、
前記第１の基板の上面側から前記金属微細構造に前記照射光を照射する光照射手段３０５と、
前記照射光が照射された金属微細構造から反射する光を計測し、前記第１の基板に対向して配置された第２の基板３０２との対向面の密着を検出する検出手段３０９と、
を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】近接場露光による密着露光に際し、近接場露光マスクおよび被露光物に帯電する静電気を除去し、アライメント精度を向上させることが可能となる近接場露光装置および近接場露光方法を提供する。
【解決手段】近接場露光マスク１０１と、
前記近接場露光マスクに被露光基板１０２を対向配置させる機構と、
前記近接場露光マスクと前記被露光基板の相対位置合わせを行う機構１０７と、
前記近接場露光マスクと前記被露光基板を密着させる機構と、
前記近接場露光マスクに露光光を照射する露光光照射機構１０９と、を有する近接場露光装置において、
前記近接場露光マスクおよび前記被露光物に帯電する静電気を除去するための軟Ｘ線照射装置１０５を備え、
前記軟Ｘ線照射装置が、前記近接場露光マスクを挟み、前記被露光基板の反対位置に配置されている構成とする。 （もっと読む）

【課題】 マスク上にウェハを固定し、ウェハの位置ズレを防ぐ。
【解決手段】 上下一対のマスク１で挟まれたウェハＷに対して該マスク１の両主面側から露光させる光源８を有する露光装置１０であって、マスク１の縁部が載置されるようにその中央部分が開口した開口部２Ａを有するテーブル部２と、開口部２Ａ内に嵌合し、マスク１側に縮径するように形成されている透明部材３と、外部からマスク１とテーブル部２の開口部２Ａと透明部材３とで囲まれて形成される吸引空間部Ｂまで貫通する第一の吸引孔部４と、マスク１が載置される位置におけるテーブル部２の載置面に環状に設けられた溝部５と、外部から溝部５まで貫通する第二の吸引孔部６と、第一の吸引孔部４と第二の吸引孔部６とに接続される吸引手段７とを備え、テーブル部２に載置されるマスク１が、吸引空間部Ｂと連通する貫通孔９を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスクアライナーを用いて微細なパターンをより安定に形成するとともに、異なった大きさの磁気記録媒体に対応したマスター情報担体に対して基体の大きさを変更せずに製造できるレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基体１の表面にレジスト膜２を形成する工程と、レジスト膜２の少なくとも一部を露光し、現像することにより、レジスト膜２の表面に第１の凸部２５２、第２の凸部２５３と抜気用凹部２５１とを形成する工程と、レジスト膜２にフォトマスク３１を重ねた状態で、抜気用凹部２５１を介して真空引きすることにより、レジスト膜２の表面にフォトマスク３１を密着させる工程と、レジスト膜２表面に形成した第１の凸部２５２、第２の凸部２５３の中の一部、第１の凸部２５２に対して所要のパターンを露光する工程と、レジスト膜２を現像する工程とを含む方法からなる。 （もっと読む）

【課題】 位置合わせの問題がなく、また仕上がり寸法が設計寸法からずれても10⁶以上のオン／オフ比と高速動作の両方を満たす電界効果トランジスタの製造方法を提供することである。
【解決手段】 基板上にソースとドレイン間の距離がLとなるように前記ソースおよび前記ドレインを形成する工程と、前記ソースおよび前記ドレインに接触するように活性層を形成する工程と、前記活性層に接触するように絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層を被覆するようにフォトレジストを形成する工程と、前記フォトレジストを被覆してある面の反対側から媒質内波長λの平行光を前記面の法線に対して


を満たす入射角θで前記フォトレジストに照射する工程を少なくとも含むことを特徴とする電界効果トランジスタの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 近接場光を利用した微細パターンの露光転写を容易に行えるようにする。
【解決手段】 フォトマスク１は、露光光を透過する材料で形成されて少なくとも外周面の一部が円弧形状に形成された柱状のマスク基体２と、マスク基体２の外周面の円弧形状部分に形成された露光光の波長以下の開口幅の微細パターン３とを具備する。マスク基体２の外周面の微細パターン３が形成された円弧形状部分をこの微細パターン３を露光転写しようとする感光性樹脂層に押し当てることにより、微細パターン３と感光性樹脂層との間隔を露光光の波長以下に抑えることができ、露光光として近接場光を用いた露光転写を行うことができ、微細パターン３の露光転写を良好に行うことができる。 （もっと読む）