【課題】正確な照明パターンを迅速に形成する。
【解決手段】光源から入射した光源光を個別に設定された反射角度で反射してそれぞれが反射光を射出する複数の反射鏡を有する空間光変調器と、複数の反射鏡の各々に設定する反射角度を算出する算出部と算出部が算出した反射角度を複数の反射鏡のそれぞれに設定する駆動部とを備えた照明装置であり、算出部は、反射光により被照射面に照明パターンを形成すべく複数の反射鏡の一部に設定する反射角度と、照明パターンの形成に寄与しない不要反射光を射出する複数の反射鏡の他の一部について、不要反射光が被照射面に照明パターンの背景を形成する反射角度とを算出する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源を用いた場合に、ウェハ面上での露光量を正確に算出することができ、パターン寸法精度の向上に寄与する。
【解決手段】パルス駆動により極端紫外域のパルス光を発生する光源１０と、光源１０からのパルス光を試料面５０上に導く光学系２０，４０と、試料面５０上の照度を計測する照度計測器７１と、光学系２０，４０の光路途中の照度を計測する照度計測器７２と、を備えた露光装置である。実際の露光とは別に、光源１０の駆動により出力されるパルス光の順番毎に、照度計測器７１で得られた計測値と照度計測器７２で得られた計測値との比を求めて記憶し、実際の露光において、光源１０の駆動により出力されるパルス光の順番毎に、照度計測器７２を用いて得られた計測値とこれ対応する比との積を求めて露光量推定値を算出し、算出した露光量推定値に対応して露光動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】大面積のミラー素子を有する空間光変調器を提供する。
【解決手段】反射面ＳＥＡを有する複数のミラー素子ＳＥｋと、複数のミラー素子ＳＥｋがそれぞれ複数の板ばねＳＥＬを用いて傾動可能に配列されたベース部材ＳＶｂと、複数のミラー素子ＳＥｋのそれぞれを、反射面ＳＥＡの裏面側で同一直線上にない３以上の複数点でベース部材ＳＶｂに接近する方向に駆動する複数の電磁石ＳＣｋとから、空間光変調器が構成されている。 （もっと読む）

【課題】稠密に配列された大面積のミラー素子を有する空間光変調器を構成する。
【解決手段】反射面ＳＥＡを有する複数のミラー素子ＳＥｋと、複数のミラー素子ＳＥｋがそれぞれの反射面ＳＥＡ内の頂点ＳＥｐを中心に傾動可能に配列されたベース部材ＳＶｂと、複数のミラー素子ＳＥｋのそれぞれを反射面ＳＥＡの裏面上で頂点ＳＥｐを含んで同一直線上にない複数の位置にて反射面ＳＥＡに対する垂直方向に駆動する複数のボイスコイルモータＳＶｋとから、空間光変調器が構成される。 （もっと読む）

【課題】被露光体を走査露光する際に、走査方向における積算露光量の分布を目標とする分布に高精度に合わせる。
【解決手段】パルス照明光ＩＬとウエハＷとを相対移動してウエハＷを走査露光する際の露光量を演算する方法であって、ウエハＷの目標積算露光量をウエハＷの走査方向の位置ｘに関するｍ次の第１多項式（ｍは１以上の整数）で表すことと、パルス照明光ＩＬの目標パルスエネルギーを位置ｘの関数として表す第２多項式の係数をその第１多項式の係数を用いて決定することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の特性を長期間にわたって安定させる。
【解決手段】基板と、基板に対して揺動する反射鏡とを備えた空間光変調器であって、反射鏡は、反射面と、反射面に交差する面を含み反射面の裏面に配されて反射面に対する曲げ応力に対抗する構造材とを有する。上記空間光変調器において、構造材は、面に更に交差する底面を有してもよい。また、上記空間光変調器において、構造材は、反射面と共に包囲した空間と、当該空間の外部との間を連通させる貫通孔を有してもよい。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の特性を長期間にわたって安定させる。
【解決手段】基板と、基板に対して揺動する反射鏡とを備えた空間光変調器であって、反射鏡は、反射膜材料により形成された一対の反射膜材料層と、非反射膜材料により形成され、一対の反射膜材料層に挟まれた非反射膜材料層とを含む積層体を有し、一対の反射膜材料層の一方が反射鏡の反射面となる。反射膜材料はアルミニウムであり、非反射膜材料は窒化珪素であってもよい。また、反射膜材料層の一方は、反射面を被覆する気密且つ透明な保護層を更に有してもよい。 （もっと読む）

【課題】 空間光変調器において不良光学要素が発生しても所望の瞳強度分布を安定的に形成に形成することのできる照明光学系。
【解決手段】 光源（１）からの光に基づいて被照射面（Ｍ）を照明する照明光学系（ＩＬ）は、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、照明光学系の照明瞳に瞳強度分布を形成する空間光変調器（３０）と、複数の光学要素の各々を経て照明瞳と光学的に共役な共役位置に入射する各光束を検出する検出部（９）と、複数の光学要素の各々についての検出部による各検出結果を類別し、該類別された情報を用いて複数の光学要素を個別に制御する制御部（ＣＲ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィ装置のミラーがＥＵＶスペクトルの範囲外の放射によって損傷を受けるという危険性を低下させることができるリソグラフィ装置および方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置がセンサを備える。センサは、ワイヤによって複数回横断される空間を画定するフレームを含む。検出電子装置がワイヤに接続され、かつワイヤに入射する赤外放射に起因するワイヤの温度変化を検出するように構成される。検出電子装置は、ワイヤの温度変化が検出された場合に出力信号を供給するように、さらに構成される。 （もっと読む）

【課題】 入射光束の強度分布に依存することなく、所望の強度分布を有する光束を複数の空間光変調器へ導くことのできる光束分割装置。
【解決手段】 光束分割装置は、入射光束を２つの光束に分割し、第１光束を第１光路に沿って導き且つ第２光束を第２光路に沿って導くために、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素（３０ａ）と、該複数の光学要素を駆動する駆動部（３０ｃ）とを有し、制御部（ＣＲ）からの制御信号に基づいて駆動部を駆動させる分割用空間光変調器（３０）を備えている。分割用空間光変調器は、複数の光学要素のうちの第１群の光学要素を経た光が第１光路に沿って導かれ、且つ複数の光学要素のうちの第１群とは異なる第２群の光学要素を経た光が第２光路に沿って導かれるように、制御部によって制御される。 （もっと読む）

【課題】所定面における照明光の光強度分布を実質的に回転することなく、光強度を調整する。
【解決手段】レチクルＲのパターン面を照明する照明装置１２であって、所定面における照明光の光強度分布を形成する回折光学素子５Ａと、回転可能なターレット板３１と、ターレット板３１の回転によって照明光の光路を横切る位置に、かつターレット板３１に対して回転可能に回折光学素子５Ａを取り付ける回転枠３３Ａと、回折光学素子５Ａの少なくとも一部が照明光の光路にあるときに、ターレット板３１の回転角に応じて回転枠３３Ａを回転させて、回折光学素子５Ａを照明光の光路を横切る方向に並進移動させる並進ユニット６Ａと、を備える。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の像面側に配置する光学系の構成を簡素化して、投影光学系の光学特性を高精度に計測する。
【解決手段】投影光学系ＰＬの波面収差を計測する計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面側に配置され、照明光ＩＬの一部を投影光学系ＰＬに導く導入光学系２１と、投影光学系ＰＬの像面側に配置され、投影光学系ＰＬを通過した照明光ＩＬの一部を球面波に変換して投影光学系ＰＬに戻す微小ミラー２３と、導入光学系２１の一部を共用し、投影光学系ＰＬを介して戻される光を計測光として取り出す受光光学系２５と、その計測光を受光して、投影光学系ＰＬの波面収差を計測する波面計測系２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光光の照度が変化した場合でも、アライメントマークの高精度な検出が可能となる露光装置を提供する。
【解決手段】複数の波長を含む光源１０１と、該光源１０１から特定波長の光を抽出し、原版２０１のパターンを照明する露光光ＥＬを導入する第１の一定帯域透過型のミラー１０３と、光源１０１から特定波長の光を抽出し、原版２０１、及び基板４０１のアライメントマーク２０４、４０５を照明するアライメント光ＡＬを導入する第２の一定帯域透過型のミラー１０４と、露光光ＥＬの照度を検出する照度センサー１０６とを備えた照明光学系１００を有する露光装置であって、更に、露光光ＥＬの照度を調整する露光量コントローラー６０３と、アライメントマーク２０４、４０５を検出する蓄積型光検出器５０４と、蓄積型光検出器５０４の蓄積時間を設定するアライメント光量コントローラー６０４とを有する。 （もっと読む）

【課題】放射ビームの特性を監視する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビーム監視装置ＢＭを備える。該放射ビーム監視装置ＢＭは、回折パターンを生成するよう構成された光学素子２０と、該光学素子２０の後であって該光学素子の焦点面Ｆではない位置に配置されたイメージングディテクタ２２とを備え、解析システムまたはアナライザ２４は、イメージングディテクタ２２に接続されており、イメージングディテクタ２２からの出力を受信する。該イメージングディテクタ２２は、放射ビームの空間的コヒーレンスとダイバージェンスの混合物を検出可能である。 （もっと読む）

【課題】 計測装置の製造誤差が計測結果に及ぼす影響を小さくし、被検光の偏光状態を高精度で計測することのできる計測装置を提供する。
【解決手段】 位相子と偏光子とを含む光学系に入射する被検光の偏光状態を計測する計測装置は、位相子と偏光子との光軸回りの相対的な回転角度θを変化させながら検出された偏光状態が異なる複数の光の強度変化をフーリエ変換して、cos4θ、sin4θ、sin2θ及びcos2θで振動する成分それぞれの係数である複数の第１フーリエ係数の値を計算し、光学系に起因する計測誤差を含まないと仮定した場合に相対的な回転角度θを変化させながら検出される光の強度変化のフーリエ変換における、cos4θ、sin4θ、sin2θで振動する成分それぞれの係数である複数の第２フーリエ係数と複数の第１フーリエ係数との関係を規定する係数である複数の第３係数を、第１フーリエ係数の値を用いて近似的に計算し、複数の第３係数を用いて前記光学系に起因する計測誤差を計算する。 （もっと読む）

【課題】受光部で受光される光量の変化を小さくすることが可能な光強度検出装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】光強度検出装置２５は、入射する露光光ＥＬの少なくとも一部を反射可能な第２ビームスプリッタ２６及び第３ビームスプリッタ２７と、該第２ビームスプリッタ２６及び第３ビームスプリッタ２７からの反射光を受光する第２光電センサ２９及び第３光電センサ３０とを備えている。そして、光強度検出装置２５における第２ビームスプリッタ２６よりも光源側には、該第２ビームスプリッタ２６への露光光ＥＬの入射角が変化した場合に第２光電センサ２９及び第３光電センサ３０で受光される光量の変化が小さくなるように該露光光ＥＬの直線偏光成分を第２ビームスプリッタ２６に対して回転させる１／２波長板３２が配置されている。 （もっと読む）

【課題】
被検光学系の波面を高精度に計測することができる干渉計測装置を提供する。
【解決手段】
被検光学系の波面を計測する干渉計測装置において、前記被検光学系の焦点位置に曲率中心が一致するように配置された前記第１の凹球面ミラーを、光軸に関して０°及び１８０°回転した位置で前記被検光学系の第１の波面および第２の波面を計測し、前記被検光学系の焦点位置に配置された第１の反射基板により前記被検光学系の第３の波面を計測し、前記第３の波面の計測値に対して、前記第１の反射基板の複素屈折率から算出される位相変化誤差の補正を行い、前記第１の凹球面ミラーの固有の誤差を補正する制御手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 被照射面での照度分布をほぼ均一に維持または調整しつつ、被照射面上の各点での瞳輝度分布をそれぞれほぼ均一に調整することのできる照明光学装置の調整方法。
【解決手段】 光源からの光束に基づいて照明瞳面に所定の輝度分布を有する瞳輝度分布を形成し、該瞳輝度分布からの光束で被照射面を照明する照明光学装置の調整方法である。本発明の調整方法は、被照射面上の複数点に関する瞳輝度分布を得る瞳輝度分布獲得工程と、複数点に関する瞳輝度分布をそれぞれ独立に調整するために、照明光学装置の光路中の複数の位置での所要の透過率分布または反射率分布を決定する分布決定工程と、所要の透過率分布または反射率分布を有する複数の調整膜をそれぞれ形成して複数の位置に配置する調整工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】
投影光学系の光学素子に吸着した有機物を効率的に剥離させる露光装置を提供する。
【解決手段】
光源からの光で原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを透過した光を基板に投影する投影光学系とを備える露光装置において、前記投影光学系の瞳透過率分布を測定する測定手段を有し、前記測定手段により測定された瞳透過率分布に応じて前記照明光学系の有効光源を設定し、該設定された有効光源で前記投影光学系を照射することを特徴とする。
（もっと読む）

【課題】
光の偏光状態を高精度に測定可能な偏光計測装置を提供する。
【解決手段】
本発明の偏光計測装置は、光の偏光状態を計測する偏光計測装置であって、光軸回りに回転して光の偏光状態を変化させる位相子と、前記位相子を通過した光の所定の偏光成分のみを通過させる第一の偏光子と、前記第一の偏光子を通過した光を検出する検出器と、前記位相子を前記偏光計測装置に搭載した状態で、前記検出器で検出される光の偏光度が１となるように該位相子の位相差量を補正する制御部とを有する。 （もっと読む）