説明

Fターム[5F053BB05]の内容

半導体装置を構成する物質の液相成長 (5,002) | 成長装置 (493) | 成長容器(S) (251) | 形態(S) (202) | 反応管(S) (11)

Fターム[5F053BB05]の下位に属するFターム

Fターム[5F053BB05]に分類される特許

1 - 5 / 5


【課題】置換基を有するフタロシアニン誘導体が酸により分解すること無く、代表的な有機半導体たる無置換フタロシアニン及び置換基を有するフタロシアニンからなるワイヤー状結晶、特にワイヤーの幅(短径)が100nm以下のナノサイズの細線状の構造を有し、そのワイヤーの短径に対する長さの比率(長さ/短径)が10以上であるフタロシアニンナノワイヤーの製造法を提供すること。
【解決手段】無置換フタロシアニンのみを酸に溶解させた後に、貧溶媒に析出させて得られた微細化無置換フタロシアニンを、置換基を有するフタロシアニン誘導体と混合し、溶媒中、もしくは溶媒蒸気雰囲気下に置くことで上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】第13族金属窒化物結晶の生成速度を大幅に向上させることができ、かつ高品質な結晶を製造することができる第13族金属窒化物結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】原料100を溶媒101に溶解して溶液を作成する工程と、溶液中で第13族金属窒化物の結晶を成長させる工程、とを備える第13族金属窒化物結晶の製造方法であって、溶液中に第17族元素を含み、かつ結晶成長工程において反応容器102内の圧力が1.0atm未満である。 (もっと読む)


【課題】製作誤差や熱変形があっても、容易に組立でき、駆動軸の円滑な回転を可能とする結晶成長装置の提供。
【解決手段】複数の容器に囲まれ、加熱加圧雰囲気下で窒素ガスとNa/Ga混合融液3とを反応させて該混合融液3に浸漬された種基板2上にGaN結晶を成長させる反応容器10と、複数の容器を挿通して設けられた駆動軸41を軸周りに回転させて混合融液3を攪拌する攪拌装置40と、を有する窒化ガリウム製造装置1であって、圧力容器30と断熱容器20との間において、第1駆動軸41Aと第2駆動軸41Bとを偏心可能に、且つ、一体回転可能に軸方向で接続する軸継手60を有するという構成を採用する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも低温で炭化ケイ素を製造することができる炭化ケイ素単結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】鉄(Fe)とケイ素(Si)とを含みSiのモル分率が33モル%以上50モル%未満であるFe−Si合金を、グラファイト基板(炭素源固体)22上で1210℃以上1500℃未満の温度で溶融させ、溶融Fe−Si合金12にSiC種結晶(種結晶)21を接触させる。更に、溶融Fe−Si合金12内に、グラファイト基板22側が高温でSiC種結晶21側が低温の温度勾配を発生させる。グラファイト基板22中の炭素が溶融Fe−Si合金12内に溶解し、溶解した炭素と溶融Fe−Si合金12中のSiとが化合したSiCがSiC種結晶21を基に析出することにより、SiC単結晶成長層13が成長する。 (もっと読む)


【課題】長時間安定して単結晶SiCをエピタキシャルに成長させる改良方法及びその結果得られる高品質な単結晶SiCを提供する。
【解決手段】SiC種結晶4が固定されたサセプタ5並びに単結晶SiC製造用原料であるSiO2粒子及びカーボン(C)粒子を供給するための原料供給管6を坩堝2内に配置する工程、及び、高温雰囲気とした坩堝2内に単結晶SiC製造用原料を不活性キャリアガスAと共に原料供給管6を通してSiC種結晶4上に供給して単結晶SiCを成長させる工程を含み、原料のSiO2とCの供給モル比が、SiO2:C=1.05:3.0〜2.0:3.0である単結晶SiCの製造方法、及びこの製造方法により製造された単結晶SiC。 (もっと読む)


1 - 5 / 5