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Fターム[5F053BB06]の内容

半導体装置を構成する物質の液相成長 (5,002) | 成長装置 (493) | 成長容器(S) (251) | 形態(S) (202) | 反応管(S) (11) | 閉管・アンプル (6)

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【課題】置換基を有するフタロシアニン誘導体が酸により分解すること無く、代表的な有機半導体たる無置換フタロシアニン及び置換基を有するフタロシアニンからなるワイヤー状結晶、特にワイヤーの幅(短径)が100nm以下のナノサイズの細線状の構造を有し、そのワイヤーの短径に対する長さの比率(長さ/短径)が10以上であるフタロシアニンナノワイヤーの製造法を提供すること。
【解決手段】無置換フタロシアニンのみを酸に溶解させた後に、貧溶媒に析出させて得られた微細化無置換フタロシアニンを、置換基を有するフタロシアニン誘導体と混合し、溶媒中、もしくは溶媒蒸気雰囲気下に置くことで上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】組成が均一であり且つ安価に製造することが可能な、半導体粒子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】銅イオン源と、亜鉛イオン源と、錫イオン源と、イオン同士の結合反応を抑制する配位子と、水とを混合して、カチオン混合液を作製するカチオン混合液作製工程と、作製したカチオン混合液と、硫黄イオン源とを混合して、前駆体溶液を作製する前駆体溶液作製工程と、作製した前駆体溶液を容器に入れ、前駆体溶液が収容された容器を密閉する密閉工程と、密閉された容器内で水熱合成反応を生じさせる水熱合成反応工程と、を有する半導体粒子の製造方法とし、X線回折で単一相のピークが観察され、且つ、一次粒子の粒径が100nm以下である、Cu、Zn、Sn、及び、Sを含有する半導体粒子とする。 (もっと読む)


【課題】雑晶の発生を抑止し、良質な2H炭化珪素単結晶を製造する方法を提供する。
【解決手段】圧力容器内において、珪素が溶解したリチウムフラックス23に炭化珪素単結晶基板25を接触させる工程と、前記圧力容器内にメタン26を導入し、前記リチウムフラックス23に前記メタン26を接触させることにより、前記リチウムフラックス23から前記単結晶基板25上に2H炭化珪素単結晶27を成長させる工程とを包含する炭化珪素単結晶の製造方法。 (もっと読む)


【課題】工業的に適用可能な比較的低圧の条件下で、不純物の少ない高品質の窒化物、特に、窒化ガリウムの結晶を得る方法を提供する。
【解決手段】少なくとも内側の表面がPtに代表される貴金属製である反応容器6に原料7とアンモニア溶媒を充填して反応容器6を密閉した後、さらに反応容器6を反応容器6とは別の耐圧性容器3内に挿入し、反応容器6と耐圧性容器3との間の空隙に第二溶媒を充填して耐圧性容器3を密閉した後、昇温して窒化物結晶を製造する。 (もっと読む)


【課題】酸化亜鉛デバイス用基板材料として適した高純度で高品質な酸化亜鉛結晶を得る成長方法を提供する。
【解決手段】長さ方向一端側から他端側に向け温度勾配を有する成長容器11内において酸化亜鉛結晶15の成長を行う酸化亜鉛結晶の成長方法であって、溶媒としての亜鉛インゴット13と原料としての酸化亜鉛多結晶12が充填された成長容器11を、亜鉛の融点以上酸化亜鉛の融点以下の温度に加熱し、かつ成長容器11の高温側に配置された酸化亜鉛原料を、溶融した亜鉛を溶媒として成長容器11の低温側成長部において再析出、成長させて酸化亜鉛結晶15を得る。 (もっと読む)


安熱法という成長技術を用いて、窒素面またはM面を有するIII−V族窒化物薄膜を成長する方法が開示される。この方法は、耐圧釜を用いるステップと、耐圧釜を加熱するステップと、耐圧釜にアンモニアを導入するステップとを含み、平坦な窒素面またはM面の窒化ガリウムの薄膜及びバルクGaNを作製する。
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